
- •1.Классификация полупроводниковых и диэлектр. Соединений. Ионные радиусы.
- •2.Закономерности образования п/п соединений. Правило Музера-Пирсона.
- •4.Двойные алмазоподобные п/п соединения.Соединения Типа а3в5
- •5.Хим. Связи и атомн. Структура алмазоподобных п/п соединений а3в5 . Антиструктурные дефекты.
- •6.Свойства соединений а3в5 (в том числе арсенида галлия, антимонида индия, нитрида галлия и твердых растворов на их основе.)
- •7.Химические связи, атомная структура и свойства соединений а2в4 и твердых растворов на их основе
- •8/ Химические связи, атомная структура и свойства соединений а4в4 /Полиморфные превращения SiC
- •9. Химические связи, атомная структура и свойства соединений а23в34
- •10. Химические связи, атомная структура и свойства соединений а52в63. И твердых растворов на их основе
- •11.Закономерности образования тройных алмазоподобных фаз. Класс соединений а3в5
5.Хим. Связи и атомн. Структура алмазоподобных п/п соединений а3в5 . Антиструктурные дефекты.
Качественно доля ионной составляющей в связи может оцениваться по разности элект-роотрицательностей элементов, из которых образовано соединение, с учетом доли металлической составляющей связи. Доля металлической составляющей связи растет с увеличением среднего порядкового номера соединения. Для ряда соединений типа АШВУ построены картины объемного распределения плотности валентных электронов. Концентрация валентных электронов повышена вблизи ионов и вдоль направлений <111>, т. е. вдоль кратчайших межатомных расстояний.
Наличие ионной составляющей связи приводит к тому, что в ряде соединений типа АтВу плоскостями скола наряду с {111} являются плоскости {11О}, причем вероятность скола по {110} тем выше, чем больше доля ионной составляющей связи. Это обусловлено возникновением дополнительных кулоновских сил притяжения между соседними плоскостями {111}, состоящими из атомов разного сорта, и отталкивания между плотноупакован-ными плоскостями {11О}, построенными из равного количества атомов А и В.Из общих соображений следует, что двойниковая структура в фазах с решеткой сфалерита дополнительно стабилизируется силами кулоновского взаимодействия, так как анионы и катионы симметрично располагаются. относительно плоскости двойникования. Поэтому фазы с большей долей ионной составляющей связи кристаллизуются в структуру вюрцита. . Возможно, что часть атомов в растворах соединений с малой долей ионной составляющей связи может размещаться в узлах не своей подрешет-ки (А™ и В^ ). Такие дефекты получили название антиструктурных дефектов. Например, в арсениде галлия возможны антиструктурные дефекты: галлий в позициях мышьяка (ОаА8) и мышьяк в позиции галлия (А80а). Их особенностью является и то, что они в отличие от «обычных» атомов окружены подобными атомами. В случае размещения двух антиструктурных дефектов рядом они образуют нейтральные пары
6.Свойства соединений а3в5 (в том числе арсенида галлия, антимонида индия, нитрида галлия и твердых растворов на их основе.)
Соединения типа АтВч в первом приближении плавятся конгруэнтно (рис. 4.9), в системах Ат—Ву существуют узкие области гомогенности соединений АШВУ (области твердых растворов компонентов в данном соединении). Одно из наиболее широко используемых соединений — арсенид галлия. Он является прямозонным полупроводником с большой шири- Первые экспериментальные исследования области гомогенности на основе арсенида галлия в системе Оа—Аз были выполнены Страуманисом и Кимом. Они показали, что в системе Оа—Аз при высоких температурах образуется область твердых растворов протяженностью от 49,935 до 50,015 % (ат.) Аз. Дальнейшие исследования выявили сильную температурную зависимость протяженности этой области, так же как и областей твердых растворов на основе других соединений типа АШВЧ.
В пределах области гомогенности период решетки арсенида галлия (точнее, твердых растворов Аз и Оа на его основе) при 35 °С и 100 кПа изменяется от 0,565298 (избыток Оа) до 0,565325 ± 0,000003 нм (избыток Аз). При этом изменяются электрические свойства арсенида галлия. Например, в неотожженных после выращивания кристаллах п-типа проводимости концентрация электронов при 300 К изменяется от 3 • 1014 (избыток Аз) до 2,9 • 1015 см"3 (избыток Оа). Отжиг кристаллов арсенида галлия в парах мышьяка приводит к увеличению концентрации электронов и их подвижности. Экспериментально определенная плотность арсенида галлия стехиометри-ческого состава равна 5,3180 + 0,0003 г/см3, при избытке мышьяка она уменьшается до 5,3157 ± 0,0003 г/см3. По-видимому, на основе арсенида галлия образуются преимущественно твердые растворы вычитания, а также замещения. Возможны области суперпозиции нескольких типов твердых растворов на основе арсенида галлия, особенно при значительном избытке галлия или мышьяка (например, суперпозиция твердых растворов вычитания и внедрения). Так, в кристаллах с избытком галлия основными дефектами являются вакансии мышьяка (твердый раствор вычитания), а в кристаллах с избытком мышьяка — межузель-ные атомы мышьяка (твердый раствор внедрения). Эти дефекты являются электрически активными дефектами.
Можно термодинамически оценить протяженность области твердых растворов (область гомогенности) на основе арсенида галлия. При заданных температурах проводят термодинамические расчеты равновесной концентрации различных типов точечных дефектов: вакансий |У0а] и дивакансий галлия [(УСа)2], а также вакансий мышьяка [УАв]. Выбранные для оценок типы точечных дефектов согласованы с результатами экспериментальных работ. По разности концентраций вакансий мышьяка и галлия находят отклонение состава твердой фазы от стехиометрического для разных температур, т. е. получают сведения о протяженности области твердых растворов. Термодинамические расчеты проводят на основе закона действующих масс.