Описание и конструкция установки
Для осаждения пленок Bi-Pb-Sr-Ca-Cu-O использовалась магнетронная система планарного типа.
Более стабильным в этом случае оказался процесс ВЧ распыления, что связанно с особенностями проводимости и фазового состава используемых мишеней.
Разработанная установка состоит из следующих узлов и систем (рисунок 3.1):
- Высокочастотный генератор (1), который передает ВЧ сигнал на мишень через согласующее устройство (5). Контроль напряжения осуществляется по вольтметру (4).
- Вакуумная камера, которая присоединена к откачному агрегату (3).
- Откачной агрегат (3). В состав входят также форвакуумный насос НВР-16Д.
- Стойка (6), в составе которой состоят следующие боки:
Вакуумметр ионозационный-термопарный (ВИТ-3) (7)
Блок (ДП3.508.001) (8)
Включает в себя: вакуумметр ВМБ-14
Блок управления (ДП3.508.000) (9)
Включает в себя: панель управления процессом откачки
Блок блокировок (ДП3.508.001) (10)
Включает в себя: вакуумметр 13ВТ3-003 и блок реле БР-4.
Блок питания (БП-267) (11)
Рисунке 3.1 – Общий вид установки магнетронного нанесения.
Вч – генератор. 2. Вакуумная камера. 3- Высоковакуумный агрегат (ДПЗ.300.000) 4. Вольтметр. 5.Согласующее устройство. 6. Стойка. 7. Вакуумметр ионозационно-термопарный (ВИТ-3). 8. Блок (ДП3.508.001). 9.Блок управления (ДП3.508.000). 10. Блок блокировок (ДП3.508.002). 11. Блок питания (БП-267).