Технология СБИС / sbis / litogr / lito_prl

Проекционная литографияПроекционная литографияСуществуют две основные возможности использования электронных пучков для облучения поверхности пластины с целью нанесения рисунка. Это одновременное экспонирование всего изображения целиком и последовательное экспонирование (сканирование) отдельных участков рисунка.

Проекционные системы, как правило, имеют высокую производительность и более просты, чем сканирующие системы. Носителем информации об изображении является маска (шаблон). Изображение с шаблона передается на пластину лучом электронов.

Сканирующие системы управляются вычислительной машиной, которая задает программу перемещения сфокусированного пучка электронов для нанесения рисунка, исправляет эффекты дисторсии и расширения пучка и определяет положение пластины.  Информация об изображении хранится в памяти ЭВМ.

Непосредственное нанесение рисунка с помощью ЭВМ позволяет обойтись без шаблона. Поэтому электронно-лучевые сканирующие системы могут быть использованы как для изготовления шаблонов, так и для непосредственной прорисовки на пластине. Эти установки имеют высокое пространственное расширение и точность совмещения, приближающиеся к 0,1 мкм.

Проекционные системыЭлектронно-лучевая проекционная литография основана на экспонировании одиночного изображения больших размеров для получения копий шаблона с линиями субмикронной толщины. Шаблон изготавливается заранее методом сканирующей электронной литографии. Для производства  электронных приборов разработаны две разновидности лучевых проекционных систем.

Система с точной передачей размеров

В системе используется фотокатод, на который нанесен необходимый рисунок в виде тонкой металлической пленки. Фотоэлектроны, вылетающие с фотокатода, ускоряются по направлению к пластине напряжением 20 кВ, приложенным между катодом и пластиной. Однородное магнитное поле фокусирует эти фотоэлектроны на пластине (аноде) с однократным увеличением изображения.

Система с уменьшением изображения

В качестве маски в такой системе используется свободно подвешенная металлическая фольга. Поток электронов, фокусированный специальной электрооптической системой, проходит через маску и формирует на пластине четкое изображение меньших размеров. Для десятикратного уменьшения размера могут быть сформированы поля диаметром 3 мм и получена ширина линий до 0,25 мкм. Схема установки приведена на рис. 1.

Рис. 1. Проекционная система с уменьшением изображения.

Для совмещения используется режим сканирования. В этом режиме электронный луч фокусируется на шаблоне (а не на образце, как при проецировании изображения) и сканируется по нему так, что на образец попадает изображение от этого сфокусированного луча. Рассеянные от образца электроны собираются детектором положения, в результате чего вырабатывается сигнал корректировки на отклоняющие катушки, расположенные между двумя проекционными линзами. Эти системы обеспечивают очень малые искажения и высокое разрешение по сравнению с системой 1:1, где достижение соответствующих высоких параметров является проблемой.