Добавил:
korayakov
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз:
Предмет:
Файл:Технология СБИС / sbis / okisl / okisl
.htmОкисление
Использование SiO2 в производстве СБИС
Механизм роста и кинетика окисления
Модель окисления кремния Дила-Гроува
Сопоставление теоретических и экспериментальных данных
Рост тонких окислов
Оборудование для термического окисления
Особенности роста окислов и влияние различных факторов
Свойства термических пленок SiO2
Плазмохимическое окисление кремния
Соседние файлы в папке okisl