Новая жизнь электронной литографии

Специалисты ORNL (Oak Ridge National Lab.) плотно занимаются вопросами 100нм литографии. Вначале они опробовали электронную голографию, а затем оценили возможности, предоставляемые множеством сфокусированных электронных пучков. Последние могут быть сформированы миллионами нанокатодов, управляемыми компьютером. Электроны, испускаемые множеством эмиттеров, можно сфокусировать магнитным образом на кремниевую пластину, при этом размер каждого пятна, создаваемого отдельным электронным пучком, составляет в поперечнике 40нм.

Ключевым элементом в проекте ORNL служит катод на основе аморфного алмаза, содержащий адресную матрицу из миллионов полевых эмиттеров. Можно одновременно поджечь 6 млн. эмиттеров и сфокусировать выпускаемые ими электроны на пластину для рисования элементов ИС. При этом не нужны шаблоны, если напрямую кодировать поверхность с помощью электронов. Специалисты считают, что меньше, чем за секунду можно разрисовать участок пластины в 1 см² 100нм элементами различной конфигурации.

Проект использования бесшаблонной литографии на основе полевых эмиттеров был предложен специалистами ORNL 3 года назад и получил субсидию от DARPA на изготовление опытного образца катодного эмиттера, состоящего из двух кристаллов, содержащих 5х5 пикселей.

Критические моменты в освоении новой технологии - надежность, однородность характеристик, стабильность, управляемость и воспроизводимость полевых эмиттеров на аморфном алмазе. Другими словами, - говорит руководитель проекта Tommy Thomas, - мы должны научиться делать их такими, чтобы они делали то, что нам нужно. При успешном развитии событий чипмейкеры скоро смогут установить невиданный доселе рекорд по плотности упаковки ИС на кристалле. Если это удастся, тогда возможности информационной акробатики, выполняемые сегодня с помощью микрокристаллов, выйдут за пределы всего, что еще только может присниться сегодня.

Перспективы развития фотолитографии.

Никакие другие системы экспонирования не могут соперничать с оптическими системами в производительности и высокой стабильности шаблонов. Развитие техники экспонирования от контактной печати и печати с зазором к проекционной фотолитографии обусловлено необходимостью снижению износа шаблонов, ведущего к дефектности, и обеспечения требуемой точности совмещения. Для того, чтобы снизить себестоимость СБИС с субмикронными размерами элементов, необходимо увеличить размер рабочего поля степперов, точность глобального совмещения сканеров и плоскостность поверхностей пластин после высокотемпературных процессов. Если число разрешаемых элементов внутри отдельного кристалла (>10⁸) превосходит предел, определяемый глубиной фокуса, то поле каждого кристалла может быть разбито на более мелкие подобласти (для компенсации большей числовой апертуры) так, как это делается в системах пошагового экспонирования. По мере ужесточения допусков при производстве новых приборов потребуется дальнейшее совершенствование систем совмещения.

Внутренние и взаимные эффекты близости являются главными проблемами систем фотолитографии. Дифракционные и интерференционные эффекты искажают структуры, воспроизводимые поверх уже сформированного рельефа. Высококонтрастный однослойный ДУФ резист способен значительно улучшить контроль размеров элементов и ослабить требования на технологические допуски. Используемый в субмикронной литографии процесс переноса изображения в поверхностный слой резиста или другого сильнопоглощающего материала нуждается в дальнейшем совершенствовании. Проблема поверхностного переноса изображения заключается в том, что нужно сделать толщину резистного слоя всего несколько нанометров. При этом можно будет использовать установки экспонирования с низкой оптической МПФ. Резисты, обладающие высокой чувствительностью (порядка 1 мДж/см²), позволили бы применять метод экспонирования типа “вспышка на лету” для существенно меньших полей и поставить производительность процесса в зависимость только от времени глобального совмещения и шага.

Существует ряд приборов, которые могут быть изготовлены только с помощью УФ литографии, поскольку применение высокоэнергетичных электронных пучков или рентгеновских лучей может нанести этим приборам необратимые повреждения. Фотолитография, как таковая, останется основным инструментом при массовом производстве СБИС.