Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
LAB_IONplazm_OKONCh.doc
Скачиваний:
39
Добавлен:
15.04.2015
Размер:
241.15 Кб
Скачать

6. Требования к отчету

Отчет составляется индивидуально на листах формата А4. При домашней подготовке необходимо изучить содержание работы, а основные аналитические соотношения внести в заготовленный отчет. Подготовленный для защиты отчет должен содержать:

- теоретическую часть (домашнюю подготовку),

- расчетные формулы,

- описание основных узлов установки,

- теоретические и экспериментальные результаты,

- анализ полученных результатов и выводы,

- ответы на все контрольные вопросы.

7. Контрольные вопросы

  1. От каких факторов зависит коэффициент распыления?

  2. Как связано количество распылённого материала с Кр?

  3. В чём трудности распыления диэлектриков?

  4. Какие вы знаете теории процесса распыления?

  5. Какие варианты устройств для распыления вы знаете?

  6. Какие блоки входят в конструкцию изучаемой установки?

  7. Как зависит коэффициент распыления от давления рабочего газа?

  8. Каков диапазон энергий распылённых атомов?

  9. Каковы основные преимущества метода катодного распыления по сравнению с термовакуумным испарением?

  10. В чём основные недостатки метода катодного распыления?

  11. В чём особенности процесса конденсации материала при катодном распылении?

8. Библиографический список

1. Ефимов И.Е., Козырь И.Я., Горбунов Ю.И. Микроэлектроника: физические и технологические основы, надежность/Уч. пособие. М.: Высшая школа, 1986, с. 256-262.

  1. Карабанов С.М., Чижиков А.Е. Технология материалов и изделий электронной техники. Пленочная электроника.//Учеб. пособие.Рязань. РГРТУ. 2009. С. 50-60.

  2. Попов В.Ф., Горин Ю.Н. Процессы и установки электронно-ионной технологии/Учеб. пособие. М.: Высш. школа. 1988, с. 106-150.

Варианты заданий

группы

120

121

подгруппы

1

2

1

2

бригады (Вариант)

1

(1)

2

(2)

3

(3)

4

(4)

1

(5)

2

(6)

3

(7)

4

(8)

1

(1)

2

(2)

3

(3)

4

(4)

1

(5)

2

(6)

3

(7)

4

(8)

Раб. газ

He

Ne

Ar

Xe

He

Ne

Ar

Xe

He

Ne

Ar

Xe

He

Ne

Ar

Xe

Ji, мкА/см2

100

110

120

130

140

150

160

170

100

110

120

130

140

150

160

170

группы

124

подгруппы

1

2

бригады

(Вариант)

1

(1)

2

(2)

3

(3)

4

(4)

1

(5)

2

(6)

3

(7)

4

(8)

Раб. газ

He

Ne

Ar

Xe

He

Ne

Ar

Xe

Ji, мкА/см2

120

140

110

160

150

170

110

100

группы

122

123

подгруппы

1

2

1

2

бригады (Вариант)

1

(1)

2

(2)

3

(3)

4

(4)

1

(5)

2

(6)

3

(7)

4

(8)

1

(1)

2

(2)

3

(3)

4

(4)

1

(5)

2

(6)

3

(7)

4

(8)

Раб. газ

He

Ne

Ar

Xe

He

Ne

Ar

Xe

He

Ne

Ar

Xe

He

Ne

Ar

Xe

Ji, мкА/см2

110

130

140

140

110

140

150

160

100

120

150

160

120

130

140

160

Характеристики применяемых газов

Род газа

Гелий

Неон

Аргон

Ксенон

Воздух

Z1, отн. ед.

2

10

18

54

-

M1, г/моль

4

20,17

40

131,3

-

d, Ǻ

2,15

3,54

3,6

4,0

-

, нм, (00С, 760 тор)

63

60

, мм.(00С, 10-1 тор)

0,4788

0,47

Характеристики распыляемых материалов

Материал

Mg

Al

Ti

Cr

Ni

Cu

Ag

Au

Z2, отн. ед.

12

13

22

24

28

29

47

79

M2, г/моль

24,3

27

47,9

52

58,7

63,54

107,87

196,97

d2, Ă

1,33

1,3

1,44

1,24

1,24

1,28

1,3

1,3

, г/см3

1,74

2,7

4,5

7,15

8,9

8,93

10,5

19,3

, мм.(00С, 10-1 тор)

0,5

0,45

0,42

0,43

0,43

0,44

0,45

0,45

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]