Копировальные слои на основе диазосоединений.

В качестве копировальных растворов для изготовления предварительно очувствленных монометаллических пластин чаще всего используются растворы на основе светочувствительных ортонафтохинондиазидов (ОНХД).

Копировальные слои па основе ОНХД работают позитивно, то есть воздействие лучистой энергии приводит к увеличению растворимости экспонированных участков слоя.

Спектральная чувствительность (330-400) нм.

Применяются в светочувствительных монометаллических формных пластинах для ФОПП с увлажнением (Agfa Azasol P5S, УПА-1, УПА-2 (Россия), РР-1 (Болгария)).

Под действием ультрафиолетового светового облучения в ОНХД химическая связь между ароматическим остатком и азотом прерывается и образуется бирадикал, который превращается в инденкарбоновую кислоту, легко растворимую в воде. Для образования крепких плёнок сюда вводят гидрофильные полимеры (ПВС или фенолформальдегидные смолы ). Кроме того, в слой на основе ОНХД входят: органический растворитель (смесь диметилформамида с этилцелозолвом и ацетоном), красители, целевые добавки (для обеспечения физико-механических свойств и сохранности слоя).

Копировальный слой – гидрофобный.

Широкое применение ОНХД в составе копировальных слоев объясняется их достоинствами: отсутствием темнового дубления, достаточной светочувствительности, устойчивости к агрессивным воздействиям, разрешающей способности, хорошей адгезии к металлам.

Известно, что ири использовании офсетных пластин с негативным копировальным слоем можно получить более высокое разрешение изображения, что связано со свойствами негативных копировальных слоев и технологическими особенностями изготовления печатных форм на пластинах с негативными копировальными слоями.

Негативные (по характеру действия) копировальные слои бывают:

1. фотополимеризуемые (фотополимеризационноспособные);

2. хроматированный полимер;

3. термополимер.

Фотополимеризуемые копировальные слои

Спектральная чувствительность (330-390) нм.

В них под действием света происходит реакция полимеризации, которая приводит к потере растворимости.

Фотополимеризация – цепная химическая реакция, вследствие которой молекулы мономера или олигомера преобразуются в макромолекулы полимера или происходит структурная перестройка полимера из пространственноразориентированного в пространственносшитый. Реакция может быть прямой (под действием света) или инициированной, когда возбуждаются соответствующие агенты с последующим произвольным процессом.

Этапы процесса фотополимеризации:

1. фотохимическая реакция образования активного центра – молекула мономера или инициатора, поглотив квант света, возбуждается (свободнорадикальное состояние);

2. темновая реакция зарождения и роста цепочки – мономер преобразуется в димер, тример и т. д., но энергия возбуждения при этом не рассеивается;

3. разрыв цепочки вследствие потери энергии возбуждения и получение конечного продукта.

В состав фотополимеризуемой композиции входят:

1. несветочувствительный реакционноспособный олигомер или полимер;

2. сшивающий агент (мономер);

3. фотоинициатор (от него зависит свето- и спектральная чувствительность копировального слоя);

4. ингибитор полимеризации (для стабилизации полимерной плёнки во время хранения пластин);

5. растворитель (для обеспечения равномерного слоя копировального слоя).

Примеры таких пластин – Agfa Ozasol NB1, N90, N91 (для CtF), Ozasol N90A, Diamond (Mitsubishi) (для CtP).

Хроматированные полимеры.

Спектральная чувствительность (350-440) нм.

Фотохимические процесс состоит в одноэлектронном обновлении соединений шестивалентного хрома до состояния пятивалентного хрома. Образованные при этом макромолекулы стабилизируются, а при проявлении рекомбинируют, что приводит к потере растворимости. В качестве полимера используют желатин и поливиниловый спирт. Светочувствительный компонентом выступают соли хромовой кислоты (K₂Cr₂O₂, (NH₄)₂Cr₂O₂) в количестве 5-10 % от массы сухого полимера.