- •Введение
- •Лабораторная работа “Измерение ватт-амперных характеристик инжекционного лазера при различных температурах”
- •Относительная спектральная характеристика инжекционного лазера
- •Диаграмма направленности инжекционного лазера
- •Ватт-амперные характеристики инжекционного лазера при различных температурах
- •Зонная диаграмма инжекционного квантоворазмерного InGaAsP/InPлазера
- •Инжекционный лазер с резонатором Фабри-Перо
- •Инжекционный лазер с распределенной обратной связью
- •Внешний вид волоконно-оптического лазерного модуля
- •Конструкция волоконно-оптического лазерного модуля
- •Блок-схема лабораторной установки
- •Лабораторная работа “Измерение фотоэлектрических характеристик p-I-nфотодиода”
- •Вольт-амперные характеристики p-I-nфотодиода при различных уровнях мощности оптического излучения
- •Энергетическая характеристика p-I-nфотодиода
- •Относительная спектральная характеристика монохроматической чувствительности p-I-nфотодиода
- •CтруктураInGaAs/InPp-I-nфотодиода и его зонная диаграмма
- •Относительная спектральная характеристика InGaAs/ InP p-I-nфотодиода
- •Внешний вид волоконно-оптического фотодиодного модуля
- •Зависимость темнового тока InGaAs/InP p-I-nфотодиода от напряжения обратного смещения
- •Блок-схема лабораторной установки
- •Лабораторная работа “Измерение амплитудно-частотной характеристики p-I-nфотодиода”
- •Переходные характеристики p-I-nфотодиода
- •Частотная характеристика p-I-nфотодиода
- •Зависимость предельной частоты InGaAs/InPp-I-nфотодиода от толщины поглощающегоi-слоя при различных диаметрах фоточувствительной области
- •Эквивалентная электрическая схема p-I-nфотодиода
- •Блок-схема лабораторной установки
- •Лабораторная работа “Измерение фотоэлектрических характеристик лавинного фотодиода”
- •Вольт-амперные характеристики лавинного фотодиода в темновом режиме и при освещении, а также вольтовая характеристика коэффициента умножения
- •Структура InGaAs/InPлавинного фотодиода
- •Блок-схема лабораторной установки
- •Лабораторная работа “Измерение токовой характеристики силы излучения светодиода”
- •Энергетические и фотометрические величины оптического излучения
- •Относительная спектральная характеристика светодиода
- •Диаграмма направленности светодиода
- •Токовые характеристики силы излучения (силы света) в максимуме диаграммы направленности светодиода при различных температурах
- •Поперечное сечение светодиода
- •Внешний вид 5 мм светодиода
- •Относительная спектральная характеристика квантоворазмерного GaAlAs суперяркого красного светодиода
- •Диаграмма направленности квантоворазмерного GaAlAs суперяркого красного светодиода
- •Блок-схема лабораторной установки
- •Спектральная характеристика кремниевого p-I-nфотодиода
- •Относительная спектральная характеристика монохроматической чувствительности глаза человека
- •Оценка погрешностей результатов измерений
- •Значение коэффициента Стьюдента tдля случайной величиныX, имеющей распределение Стьюдента с (n-1) степенями свободы
- •Ряд экспериментальных значений
- •Ряд случайных отклонений результатов
- •Литература
Контрольные вопросы
Объясните принцип работы p-i-nфотодиода.
Приведите основные характеристики и параметры p-i-nфотодиода в стационарном режиме.
Приведите вольт-амперную характеристику p-i-nфотодиода и объясните ее поведение на различных участках при различных мощностях оптического излучения.
Укажите возможные причины уменьшения чувствительности p-i-nфотодиода при больших мощностях оптического излучения.
Лабораторная работа “Измерение амплитудно-частотной характеристики p-I-nфотодиода”
Задачи лабораторной работы
Измерить амплитудно-частотную характеристику p-i-nфотодиода, определить его предельную частоту, время нарастания и время спада.
Основные характеристики и параметры p-i-nфотодиодов в динамическом режиме
Быстродействие p-i-nфотодиода описывается переходными и частотными характеристиками.
Переходная характеристикаотражает зависимость выходного фотосигнала (тока, напряжения, чувствительности)p-i-nфотодиода от времени при воздействии импульса оптического излучения в форме ступени (Рис. 2.2.).
Обратная переходная характеристикаотражает зависимость выходного фотосигнала (тока, напряжения, чувствительности)p-i-nфотодиода от времени при резком прекращении воздействия оптического излучения (Рис. 2.2.).
Время нарастания tr – минимальный интервал времени между точками переходной характеристикиp-i-nфотодиода со значениями 10% и 90% от установившегося максимального значения фототока.

Переходные характеристики p-I-nфотодиода
Время спада td – минимальный интервал времени между точками обратной переходной характеристикиp-i-nфотодиода со значениями 10% и 90% от начального значения фототока.
Амплитудно-частотная характеристикаотражает зависимость выходного фотосигнала (тока, напряжения, чувствительности)p-i-nфотодиода от частоты модуляции падающего оптического излучения (Рис. 2.4.).
Предельная частотаfPD– частота синусоидальномодулированного оптического излучения, при которой выходной фотосигнал (ток, напряжение, чувствительность)p-i-nфотодиода падает до значения 0.707 от его значения при немодулированном оптическом излучении. Современныеp-i-nфотодиоды на основе кремния имеют предельные частоты порядка сотен мегагерц, аp-i-nфотодиоды на основе соединенийAIIIBV– порядка десятков гигагерц.

Частотная характеристика p-I-nфотодиода
Динамический режим работы p-i-nфотодиода
Быстродействие p-i-nфотодиода ограничено временем переноса генерированных оптическим излучением неосновных носителей заряда иRCпостоянной времени цепи фотодиода (Рис. 3.2.). Предельная частотаp-i-nфотодиодаfPDможет быть определена по следующей формуле:
(1.1)
где ft– предельная частота фотодиода,
ограниченная временем переноса неосновных
носителей заряда,fRC– предельная частота фотодиода,
ограниченнаяRCпостоянной цепи,
–
средняя скорость неосновных носителей
заряда,0–
диэлектрическая проницаемость вакуума,– относительная
диэлектрическая проницаемость
поглощающего слоя,A– площадь фоточувствительной области
фотодиода,d– ширина
поглощающегоi-слоя,Rs–
последовательное сопротивление
фотодиода,ZL–
сопротивление нагрузки. Из приведенной
формулы видно, что для уменьшения времени
переноса неосновных носителей заряда
необходимо уменьшать толщину поглощающегоi-слоя, а для уменьшенияRCпостоянной цепи фотодиода
(уменьшения барьерной емкостиp-nперехода) и увеличения квантовой
эффективности необходимо увеличивать
толщину поглощающего слоя. Таким образом,
при заданной площади фоточувствительной
области существует оптимальная толщина
поглощающегоi-слоя,
при которой предельная частотаp-i-nфотодиода максимальна (Рис. 3.2.):
(1.2)

