- •7.14. Коммутационные платы микросборок
- •Тонкопленочные платы
- •Тонкопленочные платы на основе анодированного алюминия
- •Толстопленочные платы
- •Платы на основе многослойной керамики
- •7.15. Крепление подложек и кристаллов
- •7.16. Электрический монтаж кристаллов имс на коммутационных платах микросборок
- •Ленточный монтаж
- •Монтаж жесткими объемными выводами
- •Микросварка
- •Изготовление системы ленточных перемычек
- •Изготовление системы объемных выводов
- •7.17. Герметизация микросхем и микросборок
- •Бескорпусная герметизация
- •Корпусная герметизация микросхем
- •Контроль герметичности
- •Контрольные вопросы
Толстопленочные платы
Для пояснения сущности процесса
воспользуемся рис. 7.30. Вместо циклов
«осаждение тонкой пленки в вакууме —
фотолитография» в данном
случае используются циклы «нанесение
пасты через трафарет — сушка — вжигание»,
а подложку заменяют на керамическую —
термостойкий прочный материал.
Для формирования многоуровневой системы соединений используют проводящую и диэлектрическую пасты. Поскольку толщина межслойной изоляции в 2—3 раза превышает толщину проводящего слоя, для получения качественных контактных переходов проводят предварительно одно-или двукратное нанесение проводящей пасты в окна изолирующего слоя по циклу «нанесение пасты через трафарет — сушка» (без вжигания). На заключительном этапе изготовления платы аналогичный прием используют для формирования монтажных площадок, которые впоследствии облуживают лудящей пастой.
Следует подчеркнуть, что в многоуровневых системах соединений вжигание паст в керамику происходит лишь на границе нижнего проводящего и нижнего изолирующего слоев с подложкой. Прочность сцепления последующих слоев друг с другом обеспечивается за счет расплавления в них низкотемпературного стекла и затем его отвердения.

Рис. 7.31. Последовательность формирования коммутационной платы на основе
анодированного алюминия (нижние уровни):1 — подложка; 2,7—слои алюминия; 3,6—фотомаска;
4,5 — слои оксида алюминия
Платы на основе многослойной керамики
В отличие от предыдущих типов плат, все слои которых формируют на общей подложке, в данном случае каждый проводящий слой наносят на собственную индивидуальную подложку из необожженной («сырой») керамики. Впоследствии отдельные листы керамики с проводящим рисунком собирают в пакет.
Исходными заготовками платы являются листы пластичной керамики толщиной 0,1 мм, полученные методом экструзии (выдавливанием пластичной керамической массы через щелевидный фильер). В отдельных листах керамики пробивкой или сверлением получают базовые отверстия, а затем(базируя листы по этим отверстиям) — отверстия под контактные переходы диаметром не менее 0,1 мм (рис. 7.32, а). Используя те же базовые отверстия на каждой заготовке, через сетчатый трафарет заполняют отверстия под переходы проводящей пастой, а затем с помощью другого трафарета наносят проводящий рисунок и сушат.
Следует подчеркнуть, что вследствие высоких температур (1400.. .1700 °С) последующего обжига керамики приходится отказываться от высокоэлектропроводных серебряно-палладиевых паст и использовать пасты на основе частиц тугоплавких металлов (вольфрама или молибдена).
Затем, используя те же базовые отверстия, отдельные листы собирают в пакет (рис. 7.32, б), подпрессовывают и штамповкой отделяют периферийную часть с базовыми отверстиями.

Рис. 7.32. Коммутационная плата на основе многослойной керамики:
а — отдельные керамические подложки с проводящим рисунком; б — плата в сборе (показаны нижний и два верхних уровня)
Пакет подвергают высокотемпературной обработке. При этом протекают два параллельных процесса: вжигание проводящего рисунка в керамику и спекание (взаимодиффузия) частиц окислов, из которых состоит керамическая масса. На первой стадии обжига также происходит разложение и удаление пластификатора (технологической связки).
Выходящие на поверхность платы монтажные площадки на основе вольфрама или молибдена не допускают сварки и не смачиваются припоем. Для возможности облуживания таких площадок и последующей их пайки на них предварительно путем химического осаждения из раствора создают слой никеля.
