
- •1 Аналитический обзор литературы
- •1.1 Общие требования к вакуумному оборудованию для нанесения просветляющих покрытий
- •1.2 Ионно-плазменные методы нанесения пленок
- •1.3 Методы термического испарения
- •1.3.1 Метод резистивного нагрева
- •1.3.2 Метод электронно-лучевого нагрева
- •1.4 Конструктивные особенности установок для нанесения оптических пленок методами термического напыления
- •1.4.1 Требования к конструкции вакуумной камеры
- •1.4.2 Требования к системе вакуумной откачки
- •3 Расчет вакуумной системы
- •3.1 Расчет газовых потоков
- •3.2 Выбор насосов, расчет их номинального и эффективного быстродейтвия, проверка совместимости насосов.
- •3.3 Определение конструктивных размеров трубопроводов и выбор элементов вакуумной системы
- •3.3.1 Участок вакуумной системы от рабочей камеры до высоковакуумного насоса
- •3.3.2 Участок вакуумной системы от высоковакуумного насоса до форвакуумного насоса
- •3.4 Расчет длительности откачки
3 Расчет вакуумной системы
3.1 Расчет газовых потоков
Для расчета имеются исходные данные, представленные в таблице:
Характеристика |
Величина |
Рабочее давление в камере |
6∙10-4 Па [1 ] |
Время достижения давления 6∙10-4Па в камере |
30 мин [1 ] |
Размеры камеры (внутр.диаметр×высота)) |
700×770 мм [1] |
Материал камеры |
Нержавеющая сталь [1] |
Коэффициент газовыделения нержавеющей стали |
|
Толщина стенки камеры |
h=0,005 м [1] |
Материал куполообразного подложкодержателя и оснастки |
Нержавеющая сталь [1] |
Ориентировочная поверхность всей оснастки |
1,5 м2[1] |
Материал изделия |
КГВ(калий гадолиневый вольфрамат) [] |
Коэффициент газовыделения КГВ |
|
Форма активного элемента |
Цилиндр |
Длина активного элемента |
l = 5 см [] |
Радиус активного элемента |
r = 0,2 см [] |
Единичная загрузка |
90 элементов [] |
Геометрические размеры таблетки ПОМ Al2O3 ZrO2 SiO2 |
h = 8,75 мм, d = 17,95 мм h = 10,10 мм, d = 18,10 мм a = 14,5 мм, b = 14,5 мм, h = 12,00 мм |
Коэффициент газовыделения SiO2 |
|
Коэффициент газовыделения ZrO2 |
|
Коэффициент газовыделения Al2O3 |
|
Суммарный
поток газа
,
поступающего в вакуумную систему, имеет
несколько составляющих: технологический
поток, поступающий с поверхности таблеток
пленкообразующих материалов (ПОМ)
,
технологический поток, поступающий с
поверхности активных элементов КГВ
,
поток газовыделения с поверхности
стенок камеры
,
поток газовыделения с поверхности
оснастки
,
поток, обусловленный газопроницаемостью
через стенки вакуумной камеры
,
поток натекания в систему за счет
несовершенства уплотнений
:
,
(1)
Поток
газов, поступающих в вакуумную систему
из активных элементов ()
оценивается по формуле:
(2)
где
– площадь поверхности активного
элемента, м2;
‑ скорость удельного газовыделения
с поверхности активного элемента,
);
– количество активных элементов в
камере,
.
Технологический поток, поступающий с поверхности одного активного элемента:
Площадь поверхности активного элемента:
,
(3)
где
– радиус активного элемента, м;
– длина активного элемента, м.
м2
Поток,
поступающий с поверхности таблеток
пленкообразующих материалов (ПОМ)
состоит из трех составляющих:
,
,
,
которые рассчитываются по формуле (4):
,
(4)
где
–скорость
удельного газовыделения пленкообразующего
материала,
);
– площадь
поверхности таблетки ПОМ, м2.
Рассчитаем площади поверхностей таблеток ПОМ:
м2,
м2,
м2.
Потоки, поступающие с поверхностей таблеток пленкообразующих материалов:
,
,
.
Суммарный
поток ,
поступающий с поверхности таблеток
пленкообразующих материалов (ПОМ)
:
,
(5)
.
Рассчитаем
поток газовыделения с поверхности
стенок камеры
:
,
(6)
где
–скорость
удельного газовыделения с поверхности
стенок,
);
– площадь
поверхности стенок, обращенных к вакууму,
м2;
)
– для нержавеющей стали[2]
,
(7)
где
– радиус камеры, м;
– высота камеры, м;
м[1];
м[1].
м2;
.
Рассчитаем
поток газовыделения с поверхности
оснастки
:
,
(8)
где
–скорость
удельного газовыделения с поверхности
оснастки,
);
– ориентировочная площадь
поверхности оснастки, м2;
)
– для нержавеющей стали[2];
м2[1].
.
Поток
газа
,
поступающий в вакуумную систему
вследствие проницаемости стенки
вакуумной камеры, может быть оценен по
следующей формуле[2]:
,
(9)
где
‑константа
проницаемости,
–
площадь поверхности стенок, обращенных
к вакууму, м2;
– давление
внутри вакуумной камеры;
–
давление
снаружи вакуумной камеры,
;
– количество атомов в молекуле газа;
-толщина
стенки вакуумной камеры,
;
‑ энергия активации газопроницаемости,
;
–
универсальная газовая постоянная,
– термодинамическая температура стенки
камеры,
.
Принимаем три основных потока газа через стенки вакуумной камеры: потоки водорода, азота и оксида углерода.
Значения констант, входящих в выражение (9) и характеризующие процесс газопроницаемости через стенки вакуумной камеры, представлены в таблице 2:
Таблица 2 – Коэффициенты, характеризующие процесс газопроницаемости через стенки вакуумной камеры
Материал |
Газ |
|
|
|
Объемное содержание газа в воздухе, доли |
Fe |
Водород |
2 |
1,4 |
8,04 |
5 |
Fe |
Азот |
2 |
3,8 |
1,99 |
0,781 |
Fe |
Оксид углерода |
2 |
1,1 |
1,56 |
1 |
Рассчитаем каждый поток.
Поток водорода:
.
Поток азота:
.
Поток оксида углерода:
.
Так
как
(водорода)>>
(азота)
и
(водорода)>>
(оксида
углерода), то в расчетах принимаем только
=
(водорода)=
.
Поток газов, поступающих в вакуумную камеру через уплотнения разборных соединений[2]:
,
(10)
где
–вероятность
наличия течи,
пропускающей поток газа, меньшей
чувствительности течеискателя,
;
–минимальный
поток, регистрируемый течеискателем,
;
–количество
соединений вакуумной системы,
.
.
Тогда суммарный поток газа, поступающего в вакуумную систему, рассчитаем по формуле (1)
.