Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

kolda_test5

.pdf
Скачиваний:
83
Добавлен:
24.03.2015
Размер:
329 Кб
Скачать
☆

-~2-

V.ПОЛУЧЕНИЕ КОЛЛОИДНЫХ СИСТЕМ.

1.Вопросы с одним праsиnьным ответом.

3а вопросо" И.I1М lle38коичеflНЫ'" утверждеlНtем следует tteelCOJlWrO ответов. В вопросах .!\'!.Iу! 1 -17 выберите ОДИН праВltЛЫlыii ответ.

1. Кому из русских поэтов принадпежит строка: «Ьсе истины PaCt8O-

рены в мицеппе».

 

А) К. Ба'lЬМОТОНУ;

С) 11. Ce0t1'''''''''Y;

В) В. Брюсову:

Д) А. Блоку.

2. Работа ДИСl1ергирован~,я при получении коллоидных систем мето-

дом диспергировани~ ра8на......

д) rcl60Te ..1.ефОРМaI11111 ,

в) Р,lботе образования новой поверхности; С) работе разрушеНIIЯ;

Д) CYM'le работ деформаЦJIII Jt обрюоваНШIIIО80Й noвepxнot11i.

3.Каков механизм пептизации путем поверхностной ДИССОЦИ8ЦИ1I 7

А) образование растворнмых coenиненнR на поаерХНОСТИ;

В) нов IЫЙ обмен;

С) солюбнлизаЦJlЯ осад1Са Мlщелламн;

Д) действие структурно-механическоro фактора устоllчивoct1i.

4.Причина адсорбционнoro noнижения прочностм (эффetcт Ребмнде­ ре) СОСТОИТ 8 .....

А) уменьшен"" энтропнн;

В) сншкенни энергии lCогезии;

С) уменьшении свободной ПО8срХНостиоll эиерl1lН;

д) уменьшении 8НyrpeIIнеА энерmи.

6. Укажите правиnЫfYlO формулу мицеnnы аоля Sb2s,. C11IБМл....

poeaННOlO Na2S.

А) (mSЬ~з "S2-(,,-.х)Nа~)хNа+; В) {тSЬzSз ,,82-2(,,-х)На+}2хНа"':

с) {mSb2SJ 21182- (" - X)N8 + }xNa • ;

д) {",Sb2S, 2nNa+(,,- x)S2- ):\'81.

-53-

6. Какая система является исходной для получения коллоидной си­ стемы методом конденсации?

А) гомогенная;

С I осадок В жидкости.

В) гетерогенная;

 

7. Какое соединение образует потенциалопределяюшие ионы с про..

тивоионами ?

 

А) высокоплавкое;

С) растворимое;

В) низкоплавкое;

Д) нерастворнмое.

8. Назовите причину растворения осадка при адсорбционной пеnт.

38ции.

А) улучшение качества растворителя;

В) солюбилизация OCa;tKa мицеллами;

С) обрюование двойного электрического слоя;

Д) ионный обмен.

9. Какова причина наличия максимума на кривой зависимости pu-

мера частиц от концентрации сливаемых растворов при получении

коллоидных систем методом конденсации?

А) дезагрегация частиц;

В) уменьшение скорости роста кристаллов; С) увеличение скорости НУКJlеации;

Д) повышение вязкости растворов.

10. К коллоидным системам. обраэующимся саМОПРОИ3ВОJ1bl1O ба

стабиЛизатора. относят.....

А) мицеллярные растворы ПАВ; В) золи благородных металлов; с) золь ОКСИда nrraна;

Д) золь оксида креМНИJI.

11.какие ИОНI,' являются noтенциanonредenяющимм для миц8М 3о­

МAlPO•• стабилизированноro На2НРО.?

А) На+ ;

В) HPO~-;

С) дl3+•

12. Укажите "')ичину невозможности получения КОJ1J1OИДных частиц

..-тодом дисneprирования без стабилизатора.

М,., А) НИ3ICU МОЩНОСТЬ дезипreгратора;

В) рекомбинация Мem<ИХ частиц; С) низкое тренне между частицамн.

-54-

13. Какие ионы являются противоионами для мицeлn золя ДИОКСМД8 tepeмния?

А) SIOJ-; В) ОН-; С) н+.

14. Как изменится размер комоИДных частиц при получени" их ....

ТОДОМ конденсации?

А) 10 нм· 80 им;

С) 30 нм • 300 НМ;

В) 10 МI<М ·80 мкм;

Д) 0,8 нм • 50 им.

15. Каково соотношение работ reтepoгeHHoro и roмoгeнHO~ oбpuo-

еания критического зародыша ?

.1\fI~·Ю

Л) W roM = wre,..

 

кр.

кр. ,

 

В) Wre'l' = !(o)wroм •

 

кр.

Iф••

 

16. При гомогенном зародыweoбpaзоеании размер IфИтическоro 38·

родыша равен•••.

 

А) 'Iф. = 2GVm ·IAt.tI;

с) 'Iф. = 2crVm 'IAJ1I;

В) 'кр. =2a·IAt.tI'V..;

Д) 'кр.... VmlAfal 120 .

17.Какой заряд имеет lOМOИДН8Я частица ?

А) ОдJIоимcнкьtit С l1p011IВOионами;

В) ОдJIоимениыJl е потенциапОRpQе1ШОщими нонами;

с) эnектроиeitrpanыJа.

18.Причинoi растеоренмя осадка при nonyчeн"и lCOIIn08tДНWX сметем· nenтмэaциеА путем Пpollbl88НИЯ 0C8ДIC8 является••.•

А) улучшение качества р8CDOритeтr;

В) ооmoБИ1lJfЭ81lИJl ocaдn мнцeпnaми;

С) c:ame двоАиoro Эneln'pnескоro CJlOJI;

д) расширение д80ЯНОro злепричetJCОГО ело,..

-55-

2. Вопросы с подбором соответствующих ответов

(парные вопросы)

к переЧJlЮ npOlfYMepOB31111blX вопросов (фра) ПРII.1агаl:тея еПltсо,,"

ответов, об03l,ачаемых б)'ква'ШI. ,Д.1Я I,'ЭЖДОГО ВОl1рОСЭ надо выбрать

ОДИН соотвеТСТВ~'ЮЩllii OlBeT. ОТВС1'Ы, оБО)lIачены б)'''ва:\1ll, могут не­

ПОЛЬЗ0ваться О,ЩН раз, lIecKO.lbKO раз IL'III не Itсполь)оваться совсем. К

вопросам .1\!Х!! 19 - 47 II)'ЖIIО подобрать соотвеТСТВУЮЩllе

вопрос: «вопрос - OTBC'f»).

Вопросы }Ij!J''!19 - 22

Охарактеризуйте методы получения кnллоидных систем.

19. Конденсаuия.

20, Дllспергироваине.

21. Пептиззщtя,

22. самопроизвольное ДJ\спергирование.

А) образование лнофtmьных коллондных снстем из истинных

растворов;

В) образование устойчнвой свобоДНОДIfСПерсной системы из

осадка Или гели;

СJ образование устойчивой свободнодисперсиой системы из roмогеищ)й в результате ассоциаЦИ11 молекул, атомов или ионов в ar-

pmtTbl;

Д) дробление и измельчение.

Вопросы .м16 23 - 26

Мицeлna золя Сr(<?Н)э. стабил~эирова"нoro СrClз, имеет вид:

{тСr(ОН)з nCr3+3(n-х)СГ}ЭхСl- Как lt83Ы88eТCЯ элементы ммцen­

nы?

23.nCr3+;

24.{mСr(ОН), nCr3+3(n-х)С'-};

25.3(n- x)CI-;

26.ЭхСl-.

А) идро;

В) потенциалоnpeдemnoщнй ион;

С) адсорбционный слой пporнвононов;

Д)частица.

-56-

Вопросы J'!.''! 27 - зо

Какие вещества являются стабилизаторами ДЛЯ гидрозолей:

27. АI(ОН)з:

29. Cu2 [Fe(CN)e};

'28. AgBr;

30. Fe2 (HPO.),.

А) Fе(ОН)з;

Д) CUS04;

в) Na2HP04;

Е) КJ.

с) NaOH;

 

Вопросы X!JV! 31 - з4

Какими методами получают следующие коллоидные системы:

31.30.% каНllфОЛИ.

32.30ЛЬ берЛlШСКОЙ лазури.

33.fvlицеллярный раствор лаурилсульфата натрия;

34.30ЛЬ ДlfQксида марганца.

А) самопроlf3ВОЛЬНЫМ дисперГИРОВ&iнием; В) диспергироваНl1ем;

С) хнмической конденсацией;

Д) фюической конденсацией; Е) пептюацнеЙ.

Вопрос.. .Ni.М ЗS·38

как ФОРМУЛИРУЮТСЯ следующие правила '1

35. Антонова.

36.Дюкло • Траубе.

37.Уравнивання полярнocreii Ребнндера.

38.Осадков Оствальда.

А) вещество может адсорбироваться на границе раэдenа фаз, ecnи оно по ПОЛJIрнocrи занимает npoмежуточное положенне между

8еЩec11Iамн, опредernuoщнмн фазы;

В) прн посто_нном содержании пemиэатора с возрастанием

количества 83J1ТOГO дЛJI пerrmэации осадка, количество осадка пере­

ШCЩlllerO 8 pacrвop, сначала yвenнчнваeral, а затем yмeньmaerar;

С) при увеличеиии дnИны углеводородного paдиJt8Л8 8 гомо­

лоmчеасом РIJIY ПАВ~И8 одну ~Нr группу ПО&ерХНOC11lаа tUmI8-

ность 8Озраct&eт 8 3,2 раза;

д) межфазное наПРJlжение двух 8заимно насыщенных ид­

кOC1'di равно р83нOCJ1I ПО&ерхнOC11lЫX Н8Т11Жеиий п взаимно MCЫ~

_etDIЫX растворо8 ка границе с 8О3дУХОм.

-~­

Вопрос.. .МJ6 39 - 41

На рисунке представлена зависимость размера частиц КОМО­

иДМЫХ систем от концентрации реаГИРУf"\щих веществ при образова­

нии умерено растворимых соединений. Какие дисneрсны~ системы

образуются в различных областях кривой?

d

А) осадок;

В) гель;

С) золь; Д) осадок с минимальным размером

частиц;

Е) осадок с максимальным размером

частиц.

с

Вопросы »А 43 - 46 ~ золя молибдата свинца, стабилизированного молибдатом

К8J1ИЯ, имеет вид: {mРЬМоО. "MoO~-2(,,-x)К+}2xK+ Как называют­

ся элементы мицеллы?

 

43.2(,,-х)к+;

45. mРЬМоО. "MoO~-;

А) диффузионный слой противононов; В) адсорбционный слой противоионов;

с)ядро; Д)агрегат.

3. Вопросы с множественными ответами.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

в

 

 

 

 

Е

 

ерно

если верно

если верно

если верно

еспи верно

ько

только

только

только

все

123

13

 

 

24

4

 

 

4.,. ~акие факторы влияют на размер частиц, получаемых конденеа­

цион~ым методом?

1) схорость нyюtеации:

3) концентрация реагентов:

2) CKOpocrь роста кристаллов;

4) ВЯJI<ОСТЬ срелы.

-58-

48. Перечислите типы потенциалопределяющих ИОН08.

1)ионы, входящие в COC'l(tB твердой фазы;

2)изоморфные IfOHhI;

3)орr'аюtческие ионы с высокой адсорбционной способностью;

4)ионы металлов с переменной валентностью.

49.Каковы методы получения лиофильных диспеprчых систем?

1)КОliденсаultя;

2)диспеРГJlрованне;

3)пепТlШЩИЯ;

4)самопроизволыюе днспергирование.

50.Сущность адсорбционного понижения прочности (эффект Ребин

дера) состоит В.....

1)оБJlегчении деформации и разрушеиия вcnе,~"ТВИН lННЖенн, С1\обо.:\ноЙ поверхностной энергии;

2)умсНt,шеНltlf работы, затрачиваемо. на образоваиие новой по'

BepXHOC'11t ;

3)адсорбцни ПАВ на стенках МlПqютрещин;

4)возрастаю," расклинивающего"давлеНЮI, экраиироваиии СМ

сцеПJIения.

51. Основнои причиной понижения механической прочности реал....

ных твердых тел по сравнению с их теорет~ческой прочностью ЯВ­

ляется....

1) микротрещины на основе дефекто& криcтanличеасой решетки; 2) микротрещины, ШI'рокие части которых BЫXOДIIТ иа поаер~·

'ость тела, а тупики остаютс. 8Иyrpи тела;

3)BHyrpeHHlle МllкpoтpeIЦИИЫ;

4)поверхность МИIC~и.

52.Перечислите принцмпы построения формуnы мицем МОНОСТ8бм· ЛМ3Мр088нных золе" ?

1)агрегат мицeлnы .В1IIIe'ЮI иерастворимым с:оецннением;

2)потснциалопредемющне иоиы образуют с npoтиaoиоиом РАС­

творимое соедииение;

3)потенциалоnpсдemrющими ионами DJIJIIOТCI ИОНЫ, 8ХОДIЩие ,. tocra8 тверДОА фазы. изоморфные им или органические ионы с &...00·

кой адсорбционной способиостью;

4)Nиц~а эnектронеАтральиа.

53.Каковы методы получения лмофобных дисперсных систем?

t) ICОНдеИС3ЦИI:

3) .lПfсперГИРО&8иие;

2) lюалесцеИШf_;

4) tiзотерМlfчеаАЯ neveroНlo,

-59-

54. Пути создания меl'астабильности исходной системы при физической конденсации связанны с изменением.......

 

1) темпераl уры;

:.,

состава растворителя;

 

2) давления;

4)

концентрации BeL...~'CТBa.

55.

Как изменяется размер частиц при получении их методом пепти­

эации?

 

 

 

1) 10 нм - 100 нм;

3) 20 мкм - 80 мкм;

 

2) 300 нм - 50 нм;

4)

1 мкм - 60 мкм.

56.

К диспергирующим устройствам отНосятся......

 

1) шаровые мельницы;

3) коллоидные мельницы:

 

2) вальцы;

4) краскотерки.

57. Что является причиной образования ДИффузионного слоя протм­ !Омонов?

1)электростатическое притяжение иоиов;

2)тепловое движение ионов;

3)избирательная ионная адсорбция;

4)электроститнческое отталкивание ионов.

58~ ЛИофобные дисперсные системы принципиально агрегативно не-

устойчивы АследствиИ......

1)высокой дисперсности частиц;

2)гетерогенности;

3)большой межфазной поверхности частиц;

4)избытка своБОднОЙ поверХНОСТНОЙ энергии на разВИТОЙ ме.­ фазНОЙ поверхностн.

59.В какой части мицемы находятся противоионы ?

J) в агрегате;

3) в ядре;

2) в адсорбциоином слое;

4) в диффузионном спое.

80. Какая система является исходной при получении коллоидных си­

С1ем методом nemизации ?

1) гerepoгениu;

3) осадок в ЖИДКОСТИ;

2) гомогеиная;

4) истинный раствор.

81.Укажите условия получения золей методом конденсации.

1)м8ЛU растворимоcrь полученного соединения;

2)низкu ICонцентрация электролита, ие являюшеГОС!l стабилиза­

тором;

3)наличие стабилизатора;

4)окраска раствора.

-60-

62. В какую часть мицеллы входят потенциалопределяющие ионы 1

1) в <trperaT;

3) в адсорбционный слой;

2) в ядро;

4) в частицу.

63. Пептиэация происходит в следсТВии.......

1)поверхностной ДllссоциаЦlШ;

2)стаБИЛll3аЦШf ионами электролита, добавля{'мого k осадку;

3)Р<tСШИРСНllе двойного элеКТРИ'lССkОI-О Cr(Q>i "ри промывании

осадка;

4)ТJfКСОТРОПНЫХ СВОЙС1в осадка.

4.Вопросы на определение причинной зависимости.

в вопросах ~!.1'! 64 - 82 Прll отаетах НСП6.fJьэуiiте прнведеиную ни­

же схему:

 

 

 

-

 

 

 

Выберите:

 

 

 

 

 

Ответ:

Утверждение I

УтвеРУ',ениеll

Связь:

 

А

верно

верно

 

верно

 

В

верно

верно

неверно

 

С

верно

неверно

неверно

 

Д

неверно

верно

неверно

 

Е

неверно

неверно

неверно

64. Мицелла иоиостабилизированного "'ОШI имеет заряд, одиои­ менный по знаку с зарядом противоиона, ПОТОМУ что противоио­ ны диффузионного слоя не полнocrью компенсируют заряд поверх­

ностн.

65. При днспергнрованнн в ЖНДICОЙ поверхнocrи происходит ад­

сорбцнонное ПОН&I,кение прочностн, потому что деформаЦl1S и

разрушеиие облегчаются в следствии yвeJIичения свободной поверх­

ностной энергии.

66. Лиофобные дисперсные системы принципиanьно термодина­ мически неравновесиы, потому что дnя придания лиофобным дис­ персным системам кинemчссlCОЙ устойчивости в систему ВВОДИТ ста­ билизаторы, образуюшие на поверхности частиц эaщиrные спои.

67. Химические методы создания метастаБНJJЬНОСТИ IIСХОДНОЙ си­ стемы, ПРИВОдllщие It получению комондных систем, чре3вычаltи(')

разиообразны, потому что любu ~, приводяща. к обра'Ц)­

взнию нерастворнмоro, а 8 cnyчае конденсированных фаз If пeтyqt'п,

продукта, может испольэоватьса ДrUI получения КОЛЛОИдНЫХ систем.

-61-

68. При диспергировании в жидкой среде происходит адсорбци­

онное пони_ение прочности, потому ЧТО увеличивается работа,

идущая на образованllе новой поверхности.

69. Золь иодида серебра получают пептиззцией осадка, образо­

аавшеСОСII в результате обратимой коагуляции дисперсных cl,cтeM,

потому что прн пептизаци., осадка двойной электрический слоii

увеличивает свою толщнну и вызывает коллоидное растворение осад­

ка.

70. При получении коллоидных систем методом пептизацнн ра­ бота гетерогенного зародыlеобразованняя всегда меньше работы го­

могенного зародыwеобразования, потому что наличие поверхно­

стей, избирательно смачиваемых новой фазой в присутствии старой,

прнводит к сильному уменьшению работы образования кристалличе­

ClCИХ зародышей.

71. Одним из методов получения коллоидных систем является фи-

3.1)(0- химическое дробление осадков (пептизация), потому что

диспергирование - это измельчение твердых или жидких тел в .tнepт­

иой среде, ПРИВОДJIщее к увеличению дисперсности вещества.

72. При дисперrиpoвании в жидкоii среде происходит адсоpvци­ онное понижение прочности, потому ЧТО возрастает расклини-

88Ющее дав"ение.

73. З6ль каннфоли получают методом замены растворителя, ПО­ тому что прн физической конденсацн", происходит расщепление на

первичные частицы под действнем виешней среды агрегатов, вознИ)(­ тнх в результате обратимой коагуляциИ дисперсных систем.

74. При дисперrиpoвании В ЖJlД)(ой cpQe происходит адсорбци­ онное повышение проЧIIОСТН, потому ЧТО уменьшается работа

ДltCllерrиpoваННI, идущая на образование иовой поверхностн.

75. Прочность IВЛЯeIOl поверхиостным свойcrвом, потому что на иа прочность можно влиnь, измеиu поверхностное навже­

ние.

76. Лиофобные дисперсные системы можно получать путем са­

мопроизвольного диспергированИl, потому что образование nио­

фобных тepl. Jдинамически устойчнвых систем, как и истинных рас­

творов, происходит самопроизвольно, сопровождаясь уменьшением

свободной энергин.

Соседние файлы в предмете Коллоидная химия