
- •Федеральное агентство по образованию
- •Оглавление
- •Введение
- •Механизм взаимодействия металла с металлоидом и условия, необходимые для протекания процесса
- •Механизм процесса
- •Перемещение ионов под действием электрического поля
- •Характер перемещения ионов в идеальной кристаллической решетке
- •Перемещение ионов в неидеальной кристаллической решетке
- •Перемещение катионов при наличии вакансий в катионной подрешетке
- •Перемещение катионов при возможности их нахождения в междоузлиях
- •Образование тепловых дефектов кристаллической решетки
- •Общие положения
- •Возникновение точечных структурных дефектов кристаллической решетки в результате теплового движения
- •Возникновение точечных структурных дефектов при переходе ионов в междоузлие
- •Переход катиона из узла в междоузлие
- •Переход аниона из узла в междоузлие
- •Возникновение дефектов в результате перехода ионов из объема на поверхность или с поверхности в объем
- •Переход ионов из узлов в объеме кристалла в узлы над его поверхностью
- •Переход ионов из узлов на поверхности кристалла в его объем (в междоузлия)
- •Возникновение тепловых электронных дефектов
- •Константы равновесия процессов образования тепловых дефектов
- •Константа равновесия образования дефектов по Френкелю в катионной подрешетке
- •Константы равновесия образования других тепловых дефектов
- •Расчет равновесной концентрации тепловых дефектов
- •Типы структурной разупорядоченности кристаллов
- •Распространенность различных типов разупорядоченности
- •Образование дефектов нестехиометрии
- •Точечные структурные дефекты, обусловленные отклонением состава от стехиометрического
- •Тип «Френкель»
- •Тип «Шоттки»
- •Условия и механизм образования нестехиометрической фазы
- •Связь между давлением газообразного металлоида и составом равновесной твердой фазы
- •Механизм и равновесие возникновения недостатка металлоида (избытка металла)
- •Тип «Френкель»
- •Тип «Шоттки»
- •Механизм и равновесие возникновения избытка металлоида (недостатка металла)
- •Зависимости концентраций дефектов от давления металлоида в газовой фазе
- •Общие положения
- •Соотношение между константами равновесия процессов возникновения недостатка и избытка металлоида
- •Расчет равновесных концентраций дефектов при заданном давлении металлоида
- •Составление и решение системы уравнений
- •Приближенный метод построения зависимостей концентраций дефектов от давления металлоида Выбор системы координат для построения зависимостей
- •Построение приближенных зависимостей для кристалла с типом разупорядоченности «Френкель»
- •Расчет концентраций тепловых дефектов и значения
- •Определение концентраций дефектов при ≠
- •Построение диаграммы
- •Построение приближенных зависимостей для кристалла с типом разупорядоченности «Шоттки»
- •Расчет концентраций тепловых дефектов и значения
- •Определение концентраций дефектов при ≠
- •Построение диаграммы
- •Анализ характера зависимостей концентрации дефектов от давления металлоида в газовой фазе
- •Влияние примесей на равновесие дефектов в кристалле
- •Примеси, оказывающие наибольшее влияние на равновесие дефектов
- •Примеси замещения с зарядом катионов, превышающим заряд катионов матрицы
- •Примеси замещения с зарядом катионов меньшим, чем заряд катионов матрицы
- •Механизм и закономерности процесса образования твердого продукта (теория Карла Вагнера)
- •Механизм и условия протекания процесса
- •Электрическая схема процесса
- •Соотношения, определяющие силу тока
- •Уравнения скорости образования твердого продукта
- •Зависимость константы скорости от давления металлоида
- •Возможные лимитирующие стадии процесса
- •Константа скорости реакции при лимитирующем переносе заряда ионами Решение в общем виде
- •Константа скорости реакции при лимитирующем переносе заряда электронами
- •Анализ ожидаемых закономерностей процесса с помощью теории Вагнера
- •Характеристика образующегося продукта
- •Направление роста ZnO
- •Влияние давления кислорода на скорость реакции (на величину константы скорости)
- •Влияние примесей на скорость реакции (на величину константы скорости)
- •Закономерности протекания реакций с участием металла, имеющего несколько устойчивых степеней окисления
- •Характер образующейся оболочки
- •Закономерности образования многослойной оболочки
- •Соотношения между толщиной слоев
Построение диаграммы
1.
Выбираем интервал значений lgдля построения диаграммы. ПринимаемΔlg
≈
40 и с учетомlg
= -48,получаем
минимальное значение lg
-85
и максимальное -10 (интервал значений
-85 ≤lg
≤
-10).
2.
Проводим через точку на оси абсцисс
lg=lg
=
-48 ось ординат;lg(е–)т
= lg(е+)т
= -14, lg
т
= -8 (разность логарифмов концентраций
равна 6), принимаем минимальное значение
ординаты -24, максимальное -4.
3.
Наносим на ось ординат (т. е. при lg=lg
)
точки, соответствующие концентрациям
тепловых дефектов:
lg
т
=
lg[(2/3)3KШ]
= -8, lg
т
=
lg[(3/2)2KШ]
=
-7,82
и
lg(e–)т
= lg(е+)т
=
=
lgKи
= -14.
Наносим
также точку, соответствующую концентрациям
электронов проводимости и дырок на
границах между областями:
=
=-7,52.
4.
Находим положение границ между областями
малых и больших отклонений давления от
.Для
этого наносим на диаграмму вспомогательную
линию и проводим через точку (lg
,
lgKи)
на оси ординат
прямые lg(e+)
= f(lg
)
иlg(е–)
=
f(lg
)
с угловыми коэффициентами, равными
соответственно -1/4 и +1/4.
Через полученные точки пересечения
прямых
lg(e–)
= f(lg
)
иlg(е+)
=
f(lg
)
с вспомогательной прямой проводим
вертикальные линии – границы областей.
Получаемlg
≈
-74,lg
≈
-22.
Проверяем правильность определения положения границ аналитически:
lg–lg
= [-7,52
– (-14)]/(-1/4) = -25,92, lg
= -73,92;
lg–lg
= [-7,52
– (-14)]/(1/4) = 25,92, lg
= -22,08;
результаты графического и аналитического методов совпали.
Из
точек на оси абсцисс с найденными
значениями lgиlg
проводим вертикальные линии – границы
между областями малых и больших
отклонений.
5.
Проводим через точки на оси ординат,
соответствующие концентрациям тепловых
точечных структурных дефектов,
горизонтальные отрезки в интервале lg≤lg
≤
lg
.
Эти отрезки описывают зависимостиlg
иlg
от
lg
в областях малых отклонений
от
.
Продлеваем прямыеlg(e–)
= f(lg
)
иlg(е+)
=
f(lg
)
до границ областей соответственноlg
иlg
.
6. Из точек на границах областей проводим прямые, описывающие зависимости логарифмов концентраций дефектов от логарифма давления.
Полученная диаграмма показана на рис. 17.
Рис. 17. Диаграмма зависимости равновесной концентрации дефектов от
давления металлоида в кристалле Ме2Х3, тип разупорядоченности «Шоттки»
1 – вакансии анионов; 2 – вакансии катионов; 3 – электроны проводимости;
4 – дырки; 5 – вспомогательная линия
Анализ характера зависимостей концентрации дефектов от давления металлоида в газовой фазе
Анализ диаграмм, приведенных на рис. 16 и 17, показывает, что для них характерен ряд общих признаков, не зависящих от типа разупорядоченности.
1.
В области избытка металла (<
)
кристалл содержит избыток электронов
проводимости по сравнению с дырками,
и, следовательно, имеет электронную
проводимость (проводимостьn-типа),
причем избыток электронов и соответственно
электронная проводимость быстро
увеличиваются при понижении давления
металлоида, начиная сразу же от
.
Аналогично
в области избытка металлоида (>
)
кристалл содержит избыток дырок по
сравнению с электронами проводимости,
т. е. имеет дырочную проводимость
(проводимостьр-типа);
избыток дырок и соответственно дырочная
проводимость быстро увеличиваются при
повышении давления металлоида, начиная
сразу же от
.
Таким
образом, кристалл имеет собственную
проводимость, не связанную с отклонением
от стехиометрии или присутствием
примесей, лишь при
=
;
при этом давлении проводимость минимальна.
Отклонение давления в любую сторону
сопровождается быстрым повышением
проводимости по мере увеличении
отклонения давления; от того, в меньшую
или в большую сторону отклоняется
давление, зависит тип проводимости
(соответственноn
или p).
Из
характера зависимости величины и типа
электрической проводимости от соотношения
между
и
следует, что точное значение lg
можно найти по положению точки пересечения
нисходящей и восходящей ветвей зависимостиlgκe
(κe
– электрическая проводимость,
обусловленная перемещением электронов
и/или дырок) от lg
,
а по типу проводимости (установленному
с помощью эффекта Холла) можно установить,
содержит кристалл избыток металла или
металлоида.
2.
В интервале давлений металлоида lg≤lg
≤
lg
по
обе стороны отlg
преобладают тепловые точечные структурные
дефекты, а это значит, что отклонения
от стехиометрии незначительны и кристалл
можно считать стехиометрическим.
Заметный и быстро возрастающий при
уменьшении давления металлоида избыток
металла наблюдается лишь приlg
<lg
,
а заметный и быстро возрастающий при
увеличении
избыток
металлоида – лишь при
lg
>lg
.