- •1. Литературный обзор исследуемого материала
- •1.1 Свойства антимонида индия (InSb)
- •1.2 Способы получения InSb
- •1.3 Применение InSb
- •1.4 Выбор примесей
- •2. Расчетная часть
- •2.1 Определение зависимости ширины запрещенной зоны от температуры.
- •2.2 Определение эффективных плотностей состояний в валентной зоне и зоне проводимости.
- •2.3 Расчет собственной концентрации носителей заряда.
- •2.4 Расчет температурной зависимости уровня Ферми.
- •2.5 Расчет концентрации основных носителей заряда для компенсированного полупроводника.
- •Заключение
- •Список литературы
1.4 Выбор примесей
Для
полупроводников группы
акцепторами могут выступать элементы
II группы, такие как Cd
и Zn с энергией ионизации
эВ.
Донорами же
являются элементы VI группы
– Se, S, Te
с энергией ионизации
эВ.
Также существуют амфотерные примеси – элементы IV группы (Sn, Ge, Si). Они могут замещать как индий, так и сурьму, от этого зависит будут они донорами или акцепторами.
Для выбора примесей будем руководствоваться размером атома примеси.
У исходного полупроводника радиусы атомов In и Sb соответственно равны 166 и 159 пм. Самым близким по размеру из акцепторов является Cd – 145 пм, а из доноров – Te – 160 пм. Это позволит свести к минимуму деформацию кристаллической решетки при легировании.
2. Расчетная часть
2.1 Определение зависимости ширины запрещенной зоны от температуры.
Температурная зависимость ширины запрещенной зоны рассчитывается по формуле:
-
,(1)
[3]
где
– ширина запрещенной зоны при 0 К.
Середина
запрещенной зоны при 0 К будет равна
.
Теперь можно найти положения валентной зоны и зоны проводимости. Так как середина запрещенной зоны остается неподвижной относительно нуля, то справедливо выражение:
тогда
-
(2)
(3)
Пример
расчёта для
:
Рисунок 2.1 – Зависимость ширины запрещенной зоны от температуры
2.2 Определение эффективных плотностей состояний в валентной зоне и зоне проводимости.
Эффективные массы плотностей состояния [5]:
Тогда,
-
(3)
(4)
Пример расчета для Т = 300 К:
Построим температурные зависимости эффективных плотностей состояния:
Рисунок 2.2 – Температурная зависимость эффективных плотностей состояния
2.3 Расчет собственной концентрации носителей заряда.
Собственная концентрация носителей заряда рассчитывается по формуле:
Пример расчета для Т = 300 К:
Построим зависимость собственной концентрации носителей заряда от температуры:
Рисунок 2.3 – Температурная зависимость собственной концентрации носителей заряда
2.4 Расчет температурной зависимости уровня Ферми.
Для определения уровня Ферми необходимо решить уравнение электронейтральности:
Количество ионизированных доноров и акцепторов:
где
для Te,
.
где
для Te,
.
Используем интеграл Ферми половинного индекса:
,
где
.
Через него
выражаются
,
:
Введем вспомогательную функцию, необходимую для нахождения корней с помощью ПО Mathcad:
Берем логарифм
от выражения, полученного из уравнения
электронейтральности
,
он будет равен нулю.
Получаем корни, по которым и строится уровень Ферми:
.
Рисунок 2.4 – Температурная зависимость уровня Ферми для InSb, легированного Cd и Te, и его зонная структура
2.5 Расчет концентрации основных носителей заряда для компенсированного полупроводника.
Уравнение электронейтральности для области низких температур:
Построим зависимость концентрации основных носителей заряда от температуры:
Рисунок 2.5 – Температурная зависимость концентрации основных носителей заряда для компенсированного полупроводника
Заключение
В данной работе было проведено исследование полупроводникового материала InSb рассмотрены его свойства, получение и практическое применение; выбраны легирующие примеси заданных концентраций. В качестве легирующих примесей были выбраны кадмий и теллур, поскольку выбирались элементы с схожими радиусами атомов с In и Sb. Проведён расчёт температурной зависимости положения уровня Ферми и концентрации носителей заряда в собственном и легированном полупроводнике; рассмотрена температурная зависимость ширины запрещённой зоны и построены энергетические диаграммы в зависимости от температуры.
InSb – прямозонный полупроводник, ширина запрещённой зоны непостоянная, при увеличении температуры от 0 К до 650 К её значение изменяется от 0,24 эВ до 0,02 эВ. Эффективная плотность состояний в валентной зоне превышает эффективную плотность состояний в зоне проводимости, что объясняется различием в значении эффективных масс для этих зон. С повышением температуры плотность состояния увеличивается в обеих зонах – увеличивается концентрация электронов и дырок в невырожденном полупроводнике.
Положение уровня Ферми в собственном полупроводнике является функцией от температуры. Показано, что с повышением температуры уровень Ферми движется к зоне проводимости.
Температурная зависимость ширины запрещённой зоны определена по формуле Варшни. С ростом температуры ширина запрещённой зоны уменьшается – сближаются зона проводимости и валентная зоны.
