2. Расчёт изменения удельного и поверхностного сопротивлений после легирования пластин.
Т.к.
измерения параметров пластин КДФ1-5 не
проводились, рассмотрим изменение
удельной проводимости на пластинах
КДФ6 и КДФ8. Рассматривать будем измерения
в левой точке пластины, т.к. именно там
была проведена ионная имплантация. Без
термической активации имплантированные
ионы бора остаются в междоузлиях
кристаллической решётки, оставаясь
электронейтральными дефектами в
структуре. Повышение дозы ведет за собой
рост количества дефектов, ухудшающих
подвижность носителей, что способствует
росту сопротивления.
Если
взглянуть на таблицу 7, можно заметить
небольшое увеличение значений параметров
с ростом дозы, которое, однако, остается
в пределах погрешности.
3. Используя данные измерений пластин 6-9 проанализировать влияние температурной активации.
Температурная
обработка, в свою очередь, активирует
примесь – ионы бора встраиваются в узлы
решётки, увеличивая концентрацию дырок.
Чем выше доза, тем больше активных
носителей, что снижает сопротивление.
Сравним
удельные сопротивления левых частей
пластин КДФ7,9 с правой частью пластины
КДФ6, т.к. она не была подвержена ни ионной
имплантации, ни термической активации.
Значения возьмем из таблицы 7. Как можно
увидеть, значение удельного сопротивления
у КДФ7 уменьшилось на 8,4% относительно
КДФ6 (
.
С увеличением дозы растет и концентрация
дырок, что должно снижать сопротивление
еще больше. Значение удельного
сопротивления у КДФ9 уменьшилось уже
на 31,3% относительно КДФ6 (
.
Вывод:
В
работе был успешно применён четырёхзондовый
метод, позволивший точно измерить
удельное и поверхностное сопротивления
без влияния контактных помех.
В
ходе анализа эксперимента с пластинами
КДБ6-9 было установлено, что температурная
активация при 900°C является ключевым
фактором снижения сопротивления. Без
неё (КДБ6, КДБ8) даже высокая доза
имплантации не приводит к улучшению
проводимости из-за неактивности примеси.
Напротив, после активации (КДБ7, КДБ9)
наблюдается значительное снижение
сопротивления, что объясняется увеличением
концентрации дырок.