Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Методичка Зубкова

.pdf
Скачиваний:
0
Добавлен:
05.12.2025
Размер:
15.96 Mб
Скачать

чае, когда имеются одновременно доноры и акцепторы, это условие имеет следующий вид:

n N

p

N .

(3.17)

0 A

0

D

 

Из (3.17) можно определить уровень Ферми и найти концентрации носителей заряда. В общем случае нелинейное уравнение, получающееся при подстановке выражений (3.7) и (3.9) вместе с (3.15) и (3.16) в уравнение электронейтральности (3.17), не поддается аналитическому решению и может быть решено численными методами.

В отдельных случаях можно получить простые аналитические выражения для концентрации носителей и положения уровня Ферми.

1. Если присутствует примесь только одного типа, например донорная, уравнение электронейтральности приобретает вид

n

N

p .

(3.18)

0

D

0

 

Если полупроводник к тому же невырожден, то для n0 и p0 можно вос-

пользоваться больцмановским приближением (3.10), (3.11). Покажем, что решение данного уравнения имеет три характерных участка в зависимости от выбранной температуры. Если температура не очень высока (т. е. интенсивность разрыва собственных связей кристалла не превалирует над ионизацией примеси), то можно пренебречь дырками в (3.18). Тогда, используя выражение (3.15) для концентрации ионизированных доноров, равенство (3.18) можно преобразовать в квадратное уравнение относительно n0 :

n0

 

 

ND

,

1

n

/ n

 

 

 

0

1

 

где введено обозначение

n1 NC exp ED EC , gD kBT

(3.19)

(3.20)

имеющее размерность концентрации.

Выражения для EF и n0 , получающиеся в результате решения (3.19), оказываются довольно громоздкими. Однако, если Т мала и выполняется ND n1, из (3.19) можно получить приближенное выражение для концентрации свободных электронов, справедливое для низких температур:

n

 

NDNC

1/2 exp

 

 

EC ED

.

(3.21)

 

 

 

2k T

0

g

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

B

 

 

 

 

 

 

41

 

 

 

 

 

2. При повышении температуры доля ионизированных примесных центров возрастает; при некоторой температуре будет достигнуто состояние истощения примеси, когда вся примесь оказывается ионизованной, т. е., например, в полупроводнике n-типа (дырками снова можно пренебречь):

n0 ND .

Данное соотношение остается справедливым в довольно широком интервале температур, пока не начнет превалировать термогенерация носителей «зона–зона».

3. При достаточно высоких температурах количество свободных носителей заряда, обусловленных термическими переходами из валентной зоны в зону проводимости, станет превышать количество примесных центров. В этом случае концентрация свободных носителей заряда оказывается не зависящей от концентрации примесей, и уравнение электронейтральности сводится к виду

n0 p0 .

(3.22)

Концентрации электронов и дырок при этом выражаются

формулой

(3.13), а температурная зависимость концентрации на этом участке определяется множителем Eg 2kB .

На рис. 3.5 качественно показана зависимость концентрации свободных носителей заряда (электронов или дырок) в широком диапазоне температур в полупроводнике, содержащем один тип примеси. Различают три участка: 1 – область слабой ионизации примеси (область вымораживания); 2 – область полной ионизации примеси (область истощения); 3 – область собственной проводимости. На рис. 3.5: Ts – температура истощения (см. также рис. 3.6);

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ti – температура наступления собствен-

ln n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ной проводимости. Для кремния Ts при-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Eg

 

 

 

 

 

 

 

 

 

мерно лежит в диапазоне 70…80 К, а Ti

 

 

 

 

 

 

 

ED

 

в диапазоне 500…700 К.

 

 

2kB

 

 

 

 

 

 

 

4. Для акцепторного полупроводни-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2kB

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ка получаются аналогичные выражения

 

 

 

3

 

 

 

 

2

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

для концентрации дырок на участке низ-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ких температур:

 

 

 

 

 

 

1/Ti

 

1/Ts

 

 

 

1/T

Рис. 3.5. Концентрация свободных

 

1/2

 

EV EA

 

 

носителей заряда в полупроводнике,

 

 

содержащем один тип примеси,

p0

gA NA NV

exp

2kBT

 

. (3.23)

 

 

 

 

 

взависимостиотобратнойтемпературы

 

 

 

 

 

 

 

42

 

 

 

 

 

На участке истощения примеси в полупроводнике p-типа имеет место

p0 NA ,

а высокотемпературный участок зависимости концентрации носителей заряда от температуры идентичен таковому в донорном полупроводнике и также описывается формулами (3.13) и (3.22).

Заметим, что в формулах статистики примесных полупроводников (3.21), (3.23) и подобных часто опускают EC и EV . Тогда ED и EA имеют

смысл энергии ионизации донорного и акцепторного уровней, отсчитываемых от края соответствующей разрешенной зоны.

3.8.Температурная зависимость уровня Ферми

вполупроводниках

Как видно из выведенных в 3.4 формул (3.7) и (3.9), концентрация свободных электронов и дырок определяется взаимным положением уровня Ферми и края соответствующей свободной зоны. С изменением температуры изменяется относительная степень ионизации собственных атомов полупроводника и атомов примеси, что вызывает изменение положения уровня Ферми. Как было отмечено, в общем случае положение уровня Ферми при определенной температуре находится численным решением уравнения электронейтральности (3.17), однако в ряде приближений можно получить для него аналитические выражения.

Проанализируем температурные зависимости положения уровня Ферми для случаев собственного полупроводника и примесного полупроводника.

1. Для невырожденного собственного полупроводника уравнение для нахождения уровня Ферми получим, приравнивая (3.10) и (3.11):

NC exp EF EC NV exp EV EF .

kBT

kBT

Данное уравнение при подстановке в него NC и NV имеет аналитическое решение:

E

 

EC EV

kBT ln

NC

E

 

3 k

T ln

mdn

,

(3.24)

2

NV

m

Fi

 

2

i

 

4

B

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dp

 

 

где через Ei обозначена энергия середины запрещенной зоны.

При температуре абсолютного нуля, как видно из (3.24), уровень Ферми в собственном полупроводнике располагается точно посередине запрещенной зоны, а с ростом температуры он приближается к краю той зоны, где эффективная масса плотности состояний меньше (рис. 3.6, а).

43

E

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

 

 

 

 

 

EC

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

mdn

mdp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EC

ni = pi

Ei

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EF

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

mdn

mdp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EV

 

 

 

 

 

 

 

 

EV

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

k

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

а

 

 

 

 

 

 

 

 

б

Рис. 3.6. К расчету уровня Ферми в собственном полупроводнике:

а– изменение положения уровня Ферми с температурой (схематически);

б– приращение плотности заполненных состояний при изменении температуры на dT

Сувеличением степени ионизации собственных атомов полупроводника

втой зоне, где меньше масса плотности состояний, требуется заполнить количество состояний, занимающих большее приращение по энергии, как показано на рис. 3.6, б. Это и вызывает соответствующее смещение положения уровня Ферми в сторону зоны с меньшей массой плотности состояний с изменением температуры.

2. В невырожденном донорном полупроводнике уровень Ферми определяется из уравнения электронейтральности (3.18).

На участке низких температур, как показано в 3.7, концентрация свободных носителей заряда практически всецело определяется степенью ионизации примеси и подчиняется зависимости (3.21). С другой стороны, равновесная концентрация электронов может быть выражена через положение уровня Ферми (3.10). Приравняв эти формулы:

N

 

exp

EF EC

 

 

ND NC

1/2 exp

 

ED EC

 

,

C

 

 

 

 

2k T

 

 

k T

g

D

 

 

 

 

 

 

B

 

 

 

 

B

 

 

легко получим выражение для уровня Ферми

EF

EC ED

kBT ln

gDNC

.

(3.25)

2

 

 

2

ND

 

При T 0 К уровень Ферми располагается посередине между дном зоны проводимости и уровнем донорной примеси. С ростом температуры, пока выполняется gD NC ND , уровень Ферми приближается к дну зоны проводимо-

сти, а затем уходит к середине запрещенной зоны (рис. 3.7, а). Температура Ts , при которой EF ED , является температурой истощения. Заметим, что полная ионизация примеси (когда имеет место n0 ND ) соответствует положению уровня Ферми на несколько kBT ниже уровня примеси ED .

44

После достижения температуры наступления собственной проводимости Ti уровень Ферми ведет себя как в собственном полупроводнике, подчиняясь

зависимости (3.24).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ts

 

 

Ti

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

 

 

 

EC

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

2

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EC

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ED

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ei

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ei

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

2

 

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EA

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EV

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EV

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

Ts

 

 

Ti

 

 

T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

а

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

б

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис. 3.7. Температурная зависимость уровня Ферми в донорном (а) и акцепторном (б)

 

 

полупроводниках. Участки 1, 2, 3 соответствуют таковым на рис. 3.5

Для невырожденного акцепторного полупроводника соответствующее

выражение для уровня Ферми имеет вид

E

EV EA

kBT ln

gANV

. Гра-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

F

2

 

 

 

 

 

2

 

NA

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

фик уровня Ферми ведет себя с возрастанием температуры, как показано на рис. 3.7, б.

3.9. Расчет концентрации носителей заряда в компенсированном примесном полупроводнике

На практике наряду с основной легирующей примесью в полупроводнике почти всегда присутствует и некоторое количество примеси противоположного типа. Рассмотрим случай, когда наряду с одноэлектронной донорной примесью имеются частично компенсирующие ее акцепторы, при этом NA ND . В данном случае изначально имеются свободные состояния для

электронов на акцепторной примеси, которые энергетически расположены

ниже, чем уровни донорной примеси. Поэтому

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

 

 

 

 

электроны с донорных уровней заполняют

 

C

 

 

 

ND

 

 

ED

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

уровни пространственно близлежащих акцеп-

 

 

 

 

 

 

 

 

торов и можно считать, что компенсирующая

 

 

 

 

 

 

 

 

акцепторная примесь полностью ионизована

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

NA

 

EA

 

 

 

 

( NA NA ) (рис. 3.8). Оставшиеся связанные на

 

EV

 

 

 

 

 

 

донорных уровнях электроны могут быть до-

 

 

 

 

ND > NA

 

Рис. 3.8. Взаимная компенсация

вольно легко термически возбуждены в зону

 

 

 

 

примесей

45

 

 

 

 

 

 

 

 

проводимости. Тогда концентрацией свободных дырок можно пренебречь, и уравнение электронейтральности имеет вид

 

 

 

n N

A

N

.

 

(3.26)

 

 

 

0

D

 

 

 

Повторяя рассуждения предыдущих параграфов и используя формулы

(3.10) для n

и (3.15) для

N

, снова получим квадратное уравнение относи-

0

 

D

 

 

 

 

 

 

 

тельно n0 :

 

 

 

 

 

ND

 

 

 

 

 

n0 NA

 

 

.

(3.27)

 

 

1 n

n

 

 

 

 

 

 

0

1

 

 

1. При выполнении условий n0 NA и n0 ND NA , что реализуется

при очень низких температурах и высокой степени компенсации, приближенное решение данного квадратного уравнения дает концентрацию свободных электронов*

 

ND NA

 

 

EC ED

 

n0

 

 

 

 

NC exp

 

 

.

(3.28)

g

D

N

A

k T

 

 

 

 

 

B

 

 

2. С повышением температуры вид выражения для n0 зависит от соот-

ношения концентраций доноров и акцепторов. Если степень компенсации мала ( NA ND ), то можно найти область температур, для которой выполня-

ется соотношение NA n0 ND . В этой области температурная зависимость концентрации носителей заряда приближенно описывается формулой

 

 

 

 

N

D

N

A

N

C

1/2

 

 

E

 

E

D

 

 

 

 

 

n0

 

 

g

 

 

 

 

 

 

exp

 

C

 

,

 

 

 

 

 

 

 

 

D

 

 

 

 

2k T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

B

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

подобной выражению (3.21) для полупро-

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

водника, содержащегодонорнуюпримесь.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Низкотемпературный участок зави-

 

 

 

 

 

 

ED

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

симости

n0 f 1 T для

компенсиро-

ND NA

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2k

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ED

 

 

 

ванного

полупроводника

представлен

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

на рис. 3.9. Обратим внимание, что ее

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

k

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

наклон при самых низких температурах

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

начинается

с

 

ED

kB , согласно (3.28).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1/T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Далее наклон

модифицируется в

Рис. 3.9. Участокпримеснойпроводимости

E

D

2k

B

, как в полупроводнике с од-

для компенсированного донорного

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

полупроводника

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ним типом примеси.

 

 

* Решение см.: Шалимова К. В. Физика полупроводников. М.: Энергоатемиздат, 1985. 46

3. С дальнейшим повышением температуры вся некомпенсированная примесь оказывается термически ионизованной. На участке полной ионизации примеси выполняется

n0 ND NA .

4. Участок собственной проводимости наступает при еще более высоких температурах. Здесь для компенсированного примесного полупроводника, как и для полупроводника с одним типом примеси, вкладом примесей в концентрацию свободных носителей заряда можно пренебречь, и уравнение электронейтральности снова имеет вид n0 p0 .

Концентрации электронов и дырок при этом выражаются формулой (3.13), а температурная зависимость концентрации на этом участке также определяется множителем Eg 2kB .

5. Для акцепторного компенсированного полупроводника имеем аналогичные выражения для концентрации дырок на участке низких температур:

p

 

gA NA ND

N

 

exp

 

 

EV EA

.

 

V

 

k T

0

 

N

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

B

 

Далее с повышением температуры наступает участок

1/2

 

 

EV EA

 

p0 gA NA ND NV

exp

 

 

 

,

2k T

 

 

 

B

 

 

а участок полной ионизации примеси характеризуется равенством

p0 NA ND .

3.10.Расчет положения уровня Ферми

вкомпенсированном примесном полупроводнике

Вполупроводнике с частично компенсированной примесью ход уровня Ферми в области примесной проводимости существенно отличается от такового в некомпенсированном полупроводнике. Пусть в невырожденном полупроводнике опять имеются доноры и акцепторы, причем NA ND . Уравне-

ние электронейтральности (3.26) при условии NA NA можно свести к квадратному уравнению (3.27):

n0

NA

 

 

ND

 

 

 

 

.

1

n

/ n

 

 

 

 

0

1

 

Аналитическое решение данного квадратного уравнения достаточно громоздко, его вывод можно найти, например, в учебнике К. В. Шалимовой.*

* Шалимова К. В. Указ. изд.

47

E

EC

1 ED/2 2

ED 3

 

T

0

Рис. 3.10. Зависимость уровня Ферми от Т в полупроводнике счастично компенсированнойдонорной

примесью: 1 NA 0;

2 ND NA NA;

3 ND NA NA

В области низких температур вид выражения для уровня Ферми зависит от соотношения концентраций доноров и акцепторов. При очень низких T и высокой компенсации зависимость для EF

имеет вид

EF ED kBT ln ND NA . gDNA

Из этого выражения видно, что при T 0 К уровень Ферми стремится к ED , в то время как в некомпенсированном полупроводнике EF располагается посередине между EC и ED .

При повышении температуры от абсолютного нуля уровень Ферми будет вести себя по-разному, в зависимости от степени компенсации, что иллюстрируется рис. 3.10. В случае слабой компенсации ( ND NA NA ) уро-

вень Ферми вначале поднимается ко дну зоны проводимости, а затем стремится к середине запрещенной зоны. В условиях сильной компенсации ( ND NA NA ) уровень Ферми сразу двигается вниз к середине запрещен-

ной зоны. В этой области температурная зависимость уровня Ферми приближенно описывается формулой

E

 

EC ED

kBT ln

gDNC

,

 

 

F

2

2 ND NA

 

 

 

подобной выражению (3.25) для полупроводника, содержащего донорную примесь. Для сравнения на рис. 3.10 также изображена зависимость уровня Ферми в некомпенсированном донорном полупроводнике.

При высоких температурах поведение уровня Ферми соответствует собственному полупроводнику.

3.11.Основные и неосновные носители заряда

Всобственном полупроводнике имеется только один канал генерации носителей заряда: «валентная зона → зона проводимости», и поэтому равновесные концентрации электронов n0 и дырок p0 равны. В легированном по-

лупроводнике примеси создают уровни в запрещенной зоне вблизи края со-

48

ответствующей разрешенной зоны и могут легко отдавать электрон либо дырку. Так, в полупроводнике, легированном донорами, возникает дополнительное количество подвижных электронов в зоне проводимости. Это сопровождается смещением уровня Ферми ко дну зоны проводимости в соответствии с (3.10). Далее, поскольку количество дырок в валентной зоне также определяется расстоянием уровня Ферми до нее, то в соответствии с (3.11) концентрация дырок в валентной зоне падает. Электроны являются основ-

ными носителями заряда в донорном полупроводнике, определяя тип и про-

водимость материала. Дырки, соответственно, оказываются в таком полупроводнике неосновными носителями заряда. Аналогично, в акцепторном полупроводнике дырки являются основными носителями заряда, а электроны – неосновными. В то же время, как видно из сопоставления (3.10) и (3.11), произведение концентраций n0 и p0 для невырожденного полупроводника не зависит от наличия примесей и положения уровня Ферми, а определяется

только шириной запрещенной зоны Eg материала:

 

 

n0 p0 ni2

 

 

E

g

 

 

NCNV exp

 

 

.

(3.29)

 

 

 

 

 

kBT

 

Соотношение (3.29) имеет большое значение для физики полупроводников и носит название закона действующих масс. Зная равновесную концентрацию носителей заряда одного типа, с его помощью можно рассчитывать концентрацию носителей заряда другого типа.

С учетом неосновных носителей заряда уравнение электронейтральности для донорного полупроводника, как указывалось ранее, имеет вид (3.17). На участке неполной ионизации примеси концентрация дырок на много порядков меньше концентрации электронов. Только при относительно высоких температурах, когда наступает истощение примеси и существенно возрастает веро-

ятность межзонной термической ионизации,

n0 и p0 становятся соизмеримы.

Для области истощения примеси справедливо

 

 

 

 

n0 p0 ND .

 

 

(3.30)

Воспользуемся законом действующих масс p

n2

n

и подставим в

 

 

 

 

 

 

0

i

0

(3.30). Тогда снова имеем квадратное уравнение

 

 

 

n

n2

n

N

D

0 ,

 

 

 

0

i

0

 

 

 

 

 

 

 

49

 

 

 

 

 

 

его решение

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

ND

 

 

ND

2

n2 .

(3.31)

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Аналогично можно рассчитать концентрацию неосновных носителей за-

ряда – дырок:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p

ND

 

 

ND

2

n2 .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n, p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Eg

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p exp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

kBT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

C

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EF

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

np n2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

i

 

 

 

 

ND NA

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Eg

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EV

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ni exp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2kBT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1/T1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1/T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n, p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

а

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

б

Рис. 3.11. Основные и неосновные носители заряда в полупроводнике, легированном донорной примесью: а – температурная зависимость концентрации носителей заряда; б – заполнение разрешенных зон квазисвободными электронами и дырками

Полученные зависимости иллюстрируются рис. 3.11. Точками на рис. 3.11, а показаны равновесные концентрации электронов и дырок при определенной температуре. Чем ниже температура, тем больше различие в концентрациях n0 и p0 . При высоких температурах концентрации основных

и неосновных носителей заряда в примесном полупроводнике стремятся по значению к собственной концентрации носителей заряда ni (температурная

зависимость ni показана штриховой прямой).

Отметим, что все вышеизложенное также будет справедливо и для компенсированногополупроводника, есливместо ND в(3.30) и(3.31) взять ND NA .

3.12. Решения уравнения электронейтральности для компенсированного полупроводника на участках, обусловленных различными каналами термогенерации

Для областей температур, переходных от примесного участка к истощению и от истощения к собственной электропроводности, желательно пользо-

50