Добавил:
Адепт твердотельной электроники, последователь учений Михайлова Н.И. Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Презентации / ФХОТ Все Презентации

.pdf
Скачиваний:
6
Добавлен:
21.06.2024
Размер:
18.7 Mб
Скачать

Примесный полупроводник

ED

доноры Eg акцепторы

EA

e- e-

2

1D+ A-

3

e+ e+

Eс ED

EA Ev

 

0 e

 

e

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D D

 

e

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

A A

 

e

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1— тепловое межзонное возбуждение с одновременным («парным») возникновением электрона и дырки

2— ионизация донорной примеси с образованием только электрона в зоне проводимости (без «парной» дырки) в результате его отрыва от донорного центра;

3— ионизация акцепторной примеси с образованием только дырки в валентной зоне (без «парного» электрона) в результате захвата электрона

акцепторным центром.

 

K

2

( T ) np

 

 

( T ) n

 

 

i

i

 

 

 

 

 

 

 

KD(T ) = [D+] n / [D]

KА(T ) = [А ] р / [А]

Ki (T ) Ki0

 

 

Eg

 

 

exp

 

 

 

 

 

 

 

κT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ED

 

K D (T ) K D0 exp

 

 

 

 

 

 

 

κT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

EA

 

K A (T ) K A0 exp

 

 

 

 

 

 

 

κT

 

 

ЕD = Ec ED

 

 

 

 

 

глубина залегания донорного и акцепторного уровней.

ЕA = EA Ev

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ЕD > 0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

При Т KD(T) и KA(T) ↑

 

 

ЕA > 0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

скорость нарастания KD(Т ) и KА(Т ) меньше, чем Ki(T ), т.к. ЕD и ЕA < Еg .

n+ [A ] = p + [D+]

[D]+ [D+] = ND

[A]+ [A ] = NA

4.6Растворимость примесей в полупроводниках

сучетом ионизации примесных атомов

найдем закономерности:

-взаимного влияния примесей при легировании п/п из газовой фазы,

-влияние температуры на растворимость легирующих примесей при ионном

механизме растворения.

D Г

 

pD Г

г

 

D 2

 

 

т

DТ

DТ

 

D

Г

Т

 

D

 

 

 

pD = [ DГ ] RT

 

DТ

K ( T )

 

 

1

DГ

 

 

 

 

[ D ] = sD (T ) pD

где sD(T ) = K1(T ) / RT — коэффициент растворимости - закон Генри

 

 

 

 

 

 

DТ

2

 

 

 

 

Г

 

Т

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D2

2 D

 

 

K

2 ( T )

 

 

 

pD = [ D2

Г

] RT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

DГ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

1/2

 

sD(T ) = [K2 (T ) / RT ]

1/ 2

 

закон Сиверста

[ D ] = sD (T ) pD

 

 

 

 

 

 

 

 

Тепловая ионизация донорных центров порождает ионы D+

D

D

 

e

 

 

 

 

 

 

 

 

D

 

D

K

D

( T )

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

N

 

 

D

D

 

 

 

 

 

 

 

1

K

 

 

( T )

 

 

 

 

 

D

 

 

D

 

 

 

 

 

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

K

 

( T )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

N

A

 

 

A

 

A

 

 

 

 

A

 

 

1

 

 

p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

D

Т = const

 

 

 

 

 

 

п/п

n

p

 

ND, NА

 

 

 

 

 

ND

NA

 

 

 

2

( T )

p

n

i

 

 

 

 

 

n

примеси одного типа (или доноры, или акцепторы) при растворении в полупроводнике взаимно уменьшают растворимость друг друга, а растворимость примесей противоположного типа взаимно увеличивают

Исследуем температурную зависимость растворимости ND(Т ), считая, что полупроводник n-типа находится в равновесии с газовой фазой, содержащей донорную примесь при парциальном давлении pD = const.

1.Область низких температур - все атомы примеси практически неионизованы [ D+ ] [ D ] Растворимость описывается зак-ми Генри и Сиверста

2.Область средних и высоких температур - практически вся примесь ионизована [ D ] [ D+ ]

N

D

 

nD p

p

D D

 

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

( T )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

n ND

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ni2 n

D

K

D

( T )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n

D

K

D

( T )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

N

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D K

 

 

 

 

n

N

 

 

 

 

 

n

 

 

 

 

 

N

 

 

2

 

 

 

N

 

1

 

2

 

 

 

D

 

i

 

D

 

i

N

 

 

 

D

 

D K

 

 

D

 

D K

 

 

D

 

 

 

 

 

 

 

D

 

 

 

 

 

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D KD

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

.

 

2

ND D

 

 

 

n2

 

 

 

D K

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Температурную зависимость, описываемую общей формулой (2), проанализируем для двух частных случаев.

1. Средние температуры

Средние температуры вносят малый вклад процесса межзонного возбуждения в

концентрацию подвижных носителей заряда

 

 

 

 

n

2

D K

 

 

 

 

i

 

D

 

 

 

 

р 0

 

n [ D+ ]

 

 

K

 

exp

 

 

E

D

 

K

 

( T )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D0

2κT

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

E

 

 

 

ND ( T )

D KD ( T ),

 

K1/ 2

 

 

 

 

KD01/ 2 exp

 

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D

 

 

 

2κT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

с ростом температуры растворимость ND увеличивается

Высокие температуры

Высокие температуры обеспечивают определяющий вклад процесса межзонного возбуждения в концентрацию подвижных носителей заряда

[ D+ ] р

 

n = [ D+ ] + р

 

n р ni

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

N

 

D

 

 

 

D K

D

 

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D

 

 

D

K

 

n

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

N

 

( T )

D K

D

( T )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

D

 

n ( T )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

i

 

 

 

D K n

 

2

D

i

 

 

 

 

 

Eg / 2 ED

KD ( T )

 

KD0 exp

 

κT

 

 

 

 

 

ni ( T )

 

K

i0

 

 

 

 

 

 

Так как ED < Eg / 2 , то величина ND(Т ) уменьшается с ростом температуры

ND

 

Nпред

 

+

]

 

n p

n [ D

 

0

 

Tпред

T

Для каждой пары примесь полупроводник при определенной температуре Tпред существует предельная растворимость Nпред , выше которой невозможно обеспечить концентрацию данной примеси в полупроводнике.

Рассмотрим Si с температурой плавления Tпл = 1420 С

P (донорная примесь) имеет Nпред = 1 1021 см 3 при Tпред = 1180 С

B (акцепторная примесь) имеет Nпред = 6 1020 см 3 при Tпред = 1250 С

ci

pi = const

 

ci

pi = const

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Hi, раст > 0

 

H

< 0

 

 

 

 

i, раст

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Hi, раст < 0

0

б

T

0

б

T

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Молекулярное (з-н Генри) и атомарное (з-н Сиверста) растворение

газа в конденсированной среде