Исследование идеального р-п перехода
.docx
МИНИСТЕРСТВО ЦИФРОВОГО РАЗВИТИЯ, СВЯЗИ И
МАССОВЫХ КОММУНИКАЦИЙ РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
Ордена Трудового Красного Знамени
федеральное государственное бюджетное образовательное
учреждение высшего образования
«Московский технический университет связи и информатики»
Лабораторная работа на тему:
«Исследование идеального р-n перехода»
Выполнил: студент группы УБВТ 2102
Принял: ст.пр. Рыбаков В.С.
Москва, 2023
Оглавление
Цель работы 3
Ход работы 4
Контрольные вопросы 5
Цель работы
Целью настоящей работы является определение основных характеристик идеализированного p-n перехода. Исходными данными являются основные параметры конструкции: тип полупроводника, концентрация примесей, площадь p-n перехода. Определяются следующие характеристики идеализированного p-n перехода в отсутствии внешнего напряжения:
- контактная разность потенциалов;
- толщина;
- тепловой ток (ток насыщения);
- напряжение и тип пробоя;
- барьерная ёмкость.
Ход работы
Вариант 12
Характеристики p-n перехода |
Исходный вариант |
Вариант с увеличенным Uпроб. |
Вариант с уменьшенной Сб0 |
Вариант с уменьшенным I0 |
Исходные данные |
||||
Тип п/п |
GaAs |
GaAs |
GaAs |
GaAs |
NA, см–3 |
3·1015 |
3·1010 |
3·1015 |
3·1015 |
NД, см–3 |
3·1017 |
3·1017 |
3·1017 |
3·1020 |
S, см2 |
3·10–2 |
3·10–2 |
3·10-4 |
3·10-2 |
Результаты при Т = 300 К |
||||
ϕk0, В |
1,2183·100 |
9,2041·10-1 |
1,2183·100 |
1,3970·100 |
w, мкм |
7,6803·10-1 |
2,1005·102 |
7,6803·10-1 |
8,1836·10-1 |
I0, А |
1,9357·10-23 |
7,0777·10-21 |
1,9357·10-25 |
1,8167·10-23 |
Uпроб.л., В |
6,7559·101 |
3,7991·105 |
6,7559·101 |
6,7559·101 |
Uпроб.т., В |
1,9175·102 |
1,9175·107 |
1,9175·102 |
1,9175·102 |
Сб0, Ф |
4,5164·10-10 |
1,6432·10-12 |
4,5164·10-12 |
4,2176·10-10 |
Контрольные вопросы
Указать направление диффузии и дрейфа в асимметричном р-n переходе при U=0. Какие составляющие (электронная, дырочная) будут преобладать?
E
В ассиметричном переходе при диффузии смешение веществ происходит от большей концентрации к меньшей. При дрейфе от меньшей к большей. Переход основных носителей в смежную область, приводит к рекомбинации. В результате в смежной области концентрация дырок и электронов становится низкая. Количество электронов и дырок будут примерно равны.
Почему диффузия носителей не приводит к выравниванию концентраций?
Диффузия - движение носителей заряда из области с большей концентрацией в область с меньшей концентрацией, приводящее к выравниванию концентрации носителей заряда по полупроводнику. Собственное электрическое поле p-n перехода характеризуется контактной разностью потенциалов поэтому диффузия не будет проходить до конца.
Какие заряды количественно преобладают вблизи контакта р- и n- областей? Почему на границе областей концентрация подвижных носителей невелика?
В p- и n- областях вблизи зоны контакта преобладают неосновные носители, так как основные носители переходят в смежную зону.
Переход основных носителей в смежную область, где они становятся неосновными, приводит к рекомбинации и, поэтому, к уменьшению концентрации основных носителей. В результате в приграничных областях концентрация свободных электронов и дырок низкая, образуется обедненный слой.
Какой окажется контактная разность потенциалов ϕk при подаче внешнего напряжения, равного │ϕk0│?
При подаче внешнего напряжения, равного │ϕk0│, величина будет примерно равна напряжению пробоя, при котором электрическое поле перехода исчезает и перестаёт препятствовать протеканию большого диффузионного тока. Они будут иметь разные направления.
Как на свойства р-n перехода влияет выбор типа полупроводника?
Тип проводника влияет на значение тока насыщения I0, что в свою очередь влияет на IПР и IОБР. Это характерно не только идеализированного, но и реального P-N перехода.
Как на свойства р-n перехода влияет концентрация примесей?
Исходя из формулы k0 = T ln видно, что концентрация примесей влияет на контактную разность потенциалов, и на толщину P-N перехода, представленную формулой .
Как на свойства р-n перехода влияет его площадь?
Площадь влияет на значение тока насыщения и барьерной ёмкости. Чем больше площадь перехода, тем больше эти показатели.
Каким должен быть р-n переход с большим напряжением лавинного пробоя? С малым напряжением туннельного пробоя?
Лавинный пробой возникает в толстых p-n переходах. Туннельный пробой в тонких.