- •Электронная Оже-спектроскопия (ЭОС)
- •Оже-спектрометр ‘’Шхуна-2’’
- •Профили концентраций элементов в ат/см2, полученные методом послойной ЭОС при исследовании эталона D2
- •Определение химического состава методом ЭОС
- •Изображение анализируемой поверхности
- •Профилометрия
- •Возможности
- •Оптическое изображение Трехмерное изображение объект-микрометра участка (70х17мкм2)
- •Трехмерное изображение эталона из стекла
- •Применение
- •Измерение твердости нанослоёв
- •Области применения
- •Исследования
- •Зависимость твердости слоя TiAl от глубины проникновения индентора
- •Определение адгезионной прочности покрытий
- •Изображение на экране компьютера после измерения величины адгезии титанового покрытия на керамике.
- •Трибологические испытания
- •Внешний вид датчиков и нагревательного элемента
- •Трехмерное изображение Изображение треков полученных на трибологических треков. TiAl слое.
- •Результаты трибологических испытаний слоя TiAl
- •Определение толщин покрытий.
- •Изображение шлифа
- •Вторично-ионная масс-спектроскопия
- •Результаты исследования бор-силикатного стекла методом ЭМСВИ
Определение толщин покрытий.
Метод, реализованный на основе прибора Calotest Cat-S-AX- 0000, позволяет:
- определять толщины покрытий, в том числе и многослойных, с точностью 0,1 мкм.
- получать сферические шлифы.
Исследуемые поверхности: плоские или цилиндрические.
Внешний вид прибора Calotest Cat-S-AX-0000
Изображение шлифа
Вторично-ионная масс-спектроскопия
Метод энерго-масс-спектрометрии вторичных ионов.
1.Определение элементного и изотопного состава проводящих и непроводящих твердых веществ с чувствительностью до 10-8 атомных процентов.
2.Определение фазового состава и исследование межфазных взаимодействий в соединениях, сплавах, тонкопленочных структурах, используя регистрацию и анализ кластерных, а также молекулярных ионов и данные энергоанализа вторичных ионов.
3.Исследование распределения элементного и фазового состава при изучении физико- химических свойств тонких пленок, границ раздела, модифицированных имплантацией поверхностей и т.д. Исследование диффузионных процессов.
Результаты исследования бор-силикатного стекла методом ЭМСВИ
Интенсивность / , отн.ед. |
|
||
|
|
|
а) |
120 |
|
B+ |
|
|
|
|
|
|
|
C+ |
|
80 |
|
|
|
|
|
H+ |
|
40 |
|
|
|
0 |
200 |
400 |
600 |
|
Толщина d, нм |
|
Интенсивность I+, усл.ед. |
||||
60 |
|
|
|
б) |
|
|
|
|
|
50 |
|
|
|
3 |
|
|
|
|
|
40 |
|
|
|
2 |
|
|
|
|
|
30 |
|
|
|
4 |
|
|
|
|
|
20 |
|
|
|
1 |
|
|
|
|
|
10 |
|
|
|
|
00 |
20 |
40 |
60 |
80 100120 |
|
|
|
Энергия Е, эВ |
Результаты послойного анализа БСС методом ЭМСВИ: а) изменение токов вторичных ионов в зависимости от глубины; б) энергетические спектры Si+, зарегистрированные на глубине: 1 - 30 нм, 2 - 75 нм, 3 - 400 нм, 4 - 500 нм.