Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги / Неразрушающий контроль параметров тонких проводящих пленок электромагнитными методами

..pdf
Скачиваний:
8
Добавлен:
12.11.2023
Размер:
21.37 Mб
Скачать

132

5. Приборы вихретокового неразрушающего контроля

Рис. 5.1. Унифицированная блок-схема приборов серии ВИМП

ная нестабильность (влияние изменений температуры в месте рас­ положения преобразователя на результаты контроля), во-вторых, упрощается конструкция приборов, появляется возможность их унификации. Упрощенная блок-схема нового поколения приборов серии ВИМП с дифференциальными преобразователями представ­ лена на рис. 5.1. ВЧ-сигнал от питающего генератора 1 (частота генератора зависит от диапазона измеряемых покрытий) посту­ пает на излучающую катушку дифференциального преобразова­ теля 2. Принимающие катушки преобразователя включены встречно через амплитудно-фазовую схему компенсационной под­ стройки 3. Сигнал от них через схему подстройки поступает на ВЧ-узкополосиый усилитель 4, затем через амплитудный детек­ тор с усилителем постоянного тока 5 — на индикатор 6. Питание от стабилизатора ±15 В 8, может быть также подключен анало­ говый выход 7. Изменяя частоту питающего генератора и коли­ чество витков катушки преобразователя, можно охватить диапа­ зон измерения толщин металлических покрытий от тысячных до­ лей до десятков микрометров.

Первым из серии ВИМП с дифференциальным преобразовате­ лем является настольно-переносной прибор ВИМП-5. Настройка дифференциального преобразователя на нулевое значение выход­ ного сигнала в отсутствие образца осуществлялась путем исполь­ зования перемещающегося ферритового сердечника преобразова­ теля и настройкой частоты генератора. Такая настройка обладает рядом недостатков: низкая термостабильность преобразователя из-за нестабильности характеристик ферритового сердечника и не­ стабильность, связанная с изменением частоты генератора в про­ цессе контроля.

При работе с прибором требовалась его подстройка нуля че­ рез каждые полчаса, к тому же данную схему с сердечником не­ возможно реализовать в приборах для непрерывного контроля па­ раметров покрытий в процессе их производства.

5.2. Приборы ВИМП-1 и ВИМП-4

133

Была разработана универсальная схема амплитудно-фазовой компенсационной настройки выходного сигнала на нулевое значе­ ние без образца, которая включает в себя дифференциальный ре­ зистивно-емкостный делитель. Последующее поколение приборов серии ВИМП: ВИМП-12 (/=200 кГц), ВИМП-13 (/=400 кГц), ВИМП-31 (/=12 кГц), ВИМП-51 (/=200 кГц) — конструирова­ лось по этой схеме. Дальнейшее усовершенствование приборов за­ ключалось в разработке стабильных унифицированных для всей се­ рии электронных узлов (генераторы, усилители, амплитудный де­ тектор, аналого-цифровые преобразователи) приборов на основе новейших достижений электронной техники с использованием квар­ цевых резонаторов и цифровой микроэлектроники. Все приборы данного поколения имеют отстройку от влияния зазора на резуль­ таты измерений, линейную шкалу, просты в обращении и настройке.

Последние приборы из

данной серии имеют автонастройку нуля

в промежутке между

измерениями (ВИМП-31М, ВИМП-51,

ВИМП-51 М, ВИМП-52)

и автонастройку на оптимальный режим

в процессе измерений (ВИМП-13М, ВИМП-51М, ВИМП-52). Таким образом, на основе разработанной импедансной мето­

дики был создан ряд приборов серии ВИМП для измерения пара­ метров металлических вакуумных покрытий на диэлектриках. Усо­ вершенствование приборов проводилось в направлении упрощения их конструкции на основе использования оригинальных вихрето­ ковых преобразователей и совершенствования и развития импедан­ сной методики контроля. Использование новых электронных узлов позволило разработать систему унификации приборов с примене­ нием стандартных печатных плат ВЧ-генераторов с фиксирован­ ной частотой, ВЧ-усилителей и амплитудных детекторов с усиле­ нием постоянного тока.

Дальнейшая модернизация приборов серии ВИМП проводи­ лась в направлении повышения их надежности, стабильности и точ­ ности за счет применения новейших достижений микроэлектроники, упрощения их настройки посредством унификации блоков прибо­ ров, использования систем автоподстройки нуля и режима изме­ рений.

В результате создан комплекс унифицированных высокоточных стабильных приборов, не требующих специальной квалификации при их использовании в промышленных условиях.

5.2. ПРИБОРЫ ВИМП-1 И ВИМП-4 С ПАРАМЕТРИЧЕСКИМИ НАКЛАДНЫМИ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЯМИ

Первый экспериментальный образец прибора из серии ВИМП (ВИМП-1) был разработан и выпущен по заказу СКВ ва­ куумных покрытий Госплана ЛатвССР в 1978 г. для контроля

134

5. Приборы вихретокового неразрушающего контроля

 

3

Рис. 5.2. Схема металли­ зации вакуумной уста­ новки

проводимости квадрата поверхности тонких алюминиевых покрытий на полимерных пленках большой площади в процессе вакуумной металлизации на установке УВ-26М [29, 52, 68, 69, 71, 75, 89]. Краткие технические характеристики прибора ВИМП-1: диапазон измерения проводимости квадрата поверхности 0,1—5,0 Ом/П; диапазон измерения толщины 0,01—0,5 мкм; погрешность ±5% ;

локальность одного канала 9X12 см2; потребляемая

мощность не

более 50 Вт; область рабочих температур от +10

до + 3 0 °С;

размеры 10X430X220 мм; масса не более 10 кг.

На рис. 5.2 на схеме металлизации установки УВ-26М пока­ зано место расположения вихретоковых преобразователей 1. Ди­ электрическая пленка 2 по роликам 3 перематывается над испа-

Пр 2 с

Рис. 5.3. Блок-схема одного канала приборов ВИМП-1

5.2. Приборы ВИМП-1 и ВИМП-4

135

Рис. 5.4. Градуировочная мая прибора ВИМП-1

рителями металла 4. Прибор имеет три измерительных канала с тремя параметрическими преобразователями 1, которые встраи­ ваются в вакуумную камеру. Блок-схема одного канала прибора (рис. 5.3) включает в себя ВЧ-генератор 1 (/«500 кГц), измери­ тельную мостовую схему с преобразователем 2, амплитудный де­ тектор с усилителем 3, индикатор 4, аналоговый выход 5 (0—5 мА) и стабилизатор 6. На рис. 5.4 приведена градуировочная прямая прибора, снятая для образцов алюминиевого покрытия. Как и сле­ довало ожидать (см. п. 2.3.3), зависимость линейна. На рис. 5.5 приведена зависимость показаний прибора от изменения зазора между измерительным преобразователем и покрытием. На рис. 5.6 представлен внешний вид прибора ВИМП-1.

Рис. 5.5. Зависимость выходного сигнала вт зазора прибора ВИМП-1 для четырех образцов

5.3. Приборы ВИМП-2 и ВИМП-3

137

женного на пульте управления вакуумной установки; ВЧ-блока, расположенного вблизи вакуумной камеры и связанного кабелем длиной до 20 м с блоком питания и выхода; блока датчиков, рас­

положенного

в вакуумной камере и связанного через ВЧ-кабель

с ВЧ-блоком

[70, 75].

При изменении зазора между преобразователем и измеряемым покрытием в пределах ±0,5 мм выходной сигнал прибора изме­ няется не более чем на 2%. Прибор ВИМП-4 предусматривает включение непосредственно в систему управления процессом ме­ таллизации. При отклонении значения сопротивления квадрата поверхности от номинала (2 Ом/О) на выходе прибора появля­ ются сигналы различной полярности, которые затем использу­ ются в системе управления процессом металлизации.

ВИМП-1, ВИМП-4 являлись первыми стационарными прибо­ рами серии ВИМП, которые несмотря на их недостатки доказали применимость разработанных методов к реальным приборам и эф­ фективность использования приборов вихретокового контроля тонких металлических покрытий в процессе вакуумной металли­ зации, позволили впервые наладить непрерывный оперативный контроль технологии металлизации диэлектрических пленок. Вы­ пущены две партии приборов, которые внедрены на ряде пред­ приятий.

5.3. ПРИБОРЫ ВИМП-2 И ВИМП-3 ДЛЯ КОНТРОЛЯ МЕТАЛЛИЗАЦИИ СТАЛЬНЫХ ЛЕНТ

и п о л у п р о в о д н и к о в ы х д и с к о в

Приборы ВИМП-2 и ВИМП-3 предназначены для непре­ рывного контроля толщины металлических покрытий на стальных лентах и кремниевых дисках в процессе вакуумной металлизации [28, 48, 52, 54, 60, 76, 86, 88].

В связи со все более широким использованием непрерывной вакуумной металлизации движущихся изделий для получения ка­ чественных металлических покрытий появляется потребность в оперативном бесконтактном контроле их параметров в процессе производства с последующим подключением к автоматизирован­ ной системе управления.

Существующие приборы неразрушающего контроля на основе вихретокового накладного преобразователя для измерения тол­ щины серебряных, медных, алюминиевых покрытий на стальных, диэлектрических и полупроводниковых подложках [163] не пред­ назначены для контроля параметров покрытий в процессе произ­ водства непосредственно в вакуумной камере. Необходима или существенная модернизация их, или разработка новых приборов

138

5. Приборы вихретокового неразрушаЛщего контроля

Рис. 5.7. Блок-схема приборов ВИМП-2 и ВИМП-3

с учетом технологических требований и специфики производства для каждой конкретной вакуумной установки (температуры в мес?е расположения датчиков, отстройки от влияния зазора, кон­ структивных особенностей и т. д.), что особенно важно при непре­ рывном контроле движущихся изделий.' - ■

Изменение зазора' при контроле параметров1движущихся лент

ввакуумной камере может составить 1—2 мм. Приборы ВИМП-2

иВИМП-3 обеспечивают надежный непрерывный контроль тол­ щины напыленного металлического покрытия на движущейся сталь­ ной ленте (ВИМП-2)- и кремниевых дисках (ВИМП-3) непосред­ ственно в процессе .металлизации ,с отстройкой от изменений за­ зора в пределах 0,5 мм [48, 54, 58, 75, 88].

Принцип работы приборов основан на использовании прибли­ жения плоской волны импёданснои’ методики взаимодействия электромагнитного поля вихретокового накладного преобразова­

теля с хорошо проводящей металлической структурой (см. пп. 2.3.1, 3.1.2). Выходной сигнал приборов зависит от вносимых параметров вихретокового преобразователя и черезних — от входного импеданса структур.

Приборы ВИМП-2 и ВИМП-3 идентичны по внешнему виду, конструкции и принципиальной электрической схеме (рис. -5.7). Различие заключается в их настройке, калибровке и области ис­ пользования. ВИМП-2 работает на частоте 1,5 МГц ВИМП-3 — на частоте 0,9 МГц. В приборах реализована отстройка от влия­ ния зазора на основе специального преобразования сигнала с помощью мостовой неуравновешенной схемы '[.60]. Генератор ка­ чающейся частоты 1 питает частично расстроенный неуравновешен­ ный измерительный мост 2 с преобразователем и компенсацион­ ной катушкой, сигнал с которого подается на ВЧ-усилитель с амплитудным детектором высокой частоты 3 и усилитель-вычита- тель с амплитудным детектором низкой частоты 4, к которому подключены индикатор 5 и аналоговый выход 0—5 мА 6. Пита-

140

а) I, мкА

5. Приборы вихретокового неразрушающего контроля

1

АО

*/

У

 

 

 

30

/

 

t

 

 

 

20

1

 

1

 

 

i

 

10

1

 

 

i

 

0

5

10 15 с1,мкм

Рис. 5.9. Градуировочные кривые для измерения

толщины

мед­

ных

покрытий прибором ВИМП-2 (а)

и алюминиевых покры­

тий

прибором ВИМП-3 (б) для зазоров

(мм): 0

(О); 0,5

(+ ) ;

1,5

( • )

 

 

 

Для предварительной градуировки прибора используются комп­ лекты эталонных образцов, с помощью которых не реже одного раза в год проверяется правильность работы прибора. Прибор ВИМП-2 позволяет контролировать толщину алюминиевого, мед­ ного и серебряного покрытий на стальных лентах в диапазоне 0—15 мкм, прибор ВИМП-3 — алюминиевых покрытий на крем­ ниевых дисках в диапазоне 3—30 мкм. Площадь контроля не ме­ нее 4X4 мм2.

На рис. 5.9, а представлена градуировочная кривая прибора ВИМП-2, построенная по эталонным образцам медного покрытия на стальной ленте 08КП, а на рис. 5.9, б — градуировочная кривая

прибора ВИМП-3 для алюминиевых

покрытий

на

кремниевых

дисках.

 

 

 

 

 

 

 

Основная погрешность приборов в постоянных температурных

условиях

(±2°) при изменении зазора

в пределах

1,5

мм

менее

4% ±0,05

мкм в течение 24 ч непрерывной работы без

предвари-

рительной

подстройки. Погрешность прибора определяется пу­

тем испытаний и складывается из

статистической

(уСт ~ 1,7%),

временной

(у<«1%), температурной (уг~1,6% ) погрешностей и

погрешности, вызванной изменением

зазора (у3«2,2% ).

Темпе­

ратурные

изменения в пределах от 10 до 30 °С

в течение эксплу­

атации прибора без подстройки вносят дополнительную погреш­ ность не более 5%.

На рис. 5.10, а представлены кривые, полученные при проверке стабильности непрерывной работы прибора без дополнительной подстройки в течение 24 ч.

5.4. Приборы ВИМП-5, ВИМП-11, ВИМП-12, ВИМП-13 и ВИМП-13М

141

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

о) Ч

г + -

 

 

 

f ---- - —

 

 

 

 

 

 

мк/

 

 

 

 

 

 

 

 

 

<■ У—К

 

АО

 

<--- —с

х—;<----->с—

 

АО ytr* - * М У X X

 

 

• г-у-

^-------

 

 

 

+-*■►—4 • •

 

30

 

 

 

»_ _

 

 

30

 

 

 

 

;г -* ~

- ——-

' — н

 

 

 

 

 

 

 

- - V-1-

 

 

 

 

 

 

20

 

 

 

 

 

 

20

 

 

 

 

10 ____

 

 

1

 

 

10

 

 

 

 

H " f

 

1 ■ 1

1

]

H-S-ff-fW-f

 

 

И

- ?

- ? - * - ?

21,0

21,5 t,4

273

283

293

303Т, К

 

0

0,5

1,0

1,5

 

Рис. 5./0. Временная (а) и температурная (б) стабильность приборов без до­ полнительной подстройки для зазоров (мм): 0 (О); 0,5 (+ ); 1,5 (# ) . X — «калибровка»

Рис. 5.10,6 иллюстрирует зависимость показаний прибора от температуры без дополнительной подстройки в течение испытаний для трех зазоров.

Недостатками приборов являются сложность электрических схем и настройки, нелинейность шкалы по толщине покрытия. Ис­ пользование линеаризаторов снижает точность и стабильность ра­ боты приборов. Несмотря на эти недостатки приборы ВИМП-2 и ВИМП-3 обладают хорошей стабильностью, имеют отстройку от влияния зазора, что позволяет успешно использовать их в ряде вакуумных установок и для оперативного контроля толщины ме­ таллических покрытий в процессе производства.

Выпущена опытная партия приборов, которые внедрены на ряде предприятий страны [52, 76, 86, 88].

5.4. ПРИБОРЫ ВИМП-5, ВИМП-11, ВИМП-12, ВИМП-13 И ВИМП-13М ДЛЯ ОТРАБОТКИ ТЕХНОЛОГИИ НАНЕСЕНИЯ ТОНКИХ ПРОВОДЯЩИХ ПОКРЫТИЙ

Последующие типы приборов серии ВИМП были выпол­ нены на основе использования некоторых видов дифференциаль­ ных накладных преобразователей [25, 32]. В приборах реализо­ ваны изложенные в параграфе 3.2 методы контроля с отстройкой от влияния зазора с помощью несимметричных преобразователей (см. выражения (3.30), (3.31)) [32].

Соседние файлы в папке книги