Федеральное агентство по образованию

ГОУ ВПО Рыбинская государственная авиационная

технологическая академия им. П. А. Соловьева

Кафедра Общей и технической физики

Лаборатория «Статистическая физика и термодинамика»

УТВЕРЖДЕНО

на заседании методического

семинара кафедры физики

« » _________ 2007 г.

Зав.каф. Пиралишвили Ш.А.

ЛАБОРАТОРНЫЕ РАБОТЫ

ПО СТАТИСТИЧЕСКОЙ ФИЗИКЕ И ТЕРМОДИНАМИКЕ

ЛАБОРАТОРНАЯ РАБОТА №CТ-6

Статистика электронов и дырок в полупроводниках

Методическое руководство

разработано доц. Суворовой З.В.

Рецензент Шувалов В.В.

Рыбинск, 2007 г.

УКАЗАНИЯ ПО

ТЕХНИКЕ БЕЗОПАСНОСТИ

К работе с прибором допускаются лица, ознакомленные с устройством, принципом работы и прошедшие инструкцию по технике безопасности.

Запрещается включать установку в сеть без заземления.

Запрещается работать со снятым кожухом установок.

Прибор имеет подключение к электрической сети. Соблюдайте нормы электробезопасности и требования инструкции №170 по технике безопасности. Не включайте прибор в сеть, пока не ознакомитесь с его конструкцией и основными требованиями к работе с ним.

Перед началом работы убедитесь, что тумблеры выключены, а переключатели находятся в крайнем левом положении.

Цель работы: исследование проводимости контактов двух полупроводников с различной проводимостью

1.Краткие теоретические сведения

1.1. Р-п переход

Для создания контакта двух областей с разным типом проводимости (р-п –переход) в полупроводник вводится как донорная, так и акцепторная примеси. При этом концентрации доноров и акцепторов меняются так, что в одной части образец содержит доноры и обладает электронной проводимостью, а в другой части содержит акцепторы и обладает дырочной проводимостью, и, следовательно, в некоторой области кристалла происходит смена электропроводности с электронной на дырочную.

При малых концентрациях примеси (10) проводник не вырожден, и уровень Ферми лежит в запрещенной зоне. Когда концентрация примесей превышает эффективные плотности состояний (), уровень Ферми перемещается в зону проводимости (при донорной примеси). Такой полупроводник считается вырожденным.

Будем считать, что переход бесконечно узкий, и акцепторная область полупроводника легирована сильнее, чем донорная, т.е.N_a > N_d , где - концентрация донорной примеси, - акцепторной. Распределение примесей показано на рис. 1.1.

В первый момент соприкосновения n- и p-областей вблизи границы перехода будет существовать большой градиент концентрации электронов и дырок. В результате начнется диффузия электронов из n-области в p и дырок из p в n. Происходит разделение зарядов, вследствие чего появится положительный объемный заряд в n-области, примыкающей к переходу, обусловленный положительными ионами донорной примеси; и отрицательный – в p-области, созданный отрицательными ионами акцепторной примеси (рис.1.2). Эти объемные заряды в области контакта создадут сильное электрическое поле, направленное от n к p-области и препятствующее движению электронов и дырок (рис. 1.2). В результате установится равновесное состояние, характеризующееся постоянством уровня Ферми для всего полупроводника, а в области перехода, где есть поле, энергетические зоны будут искривлены (рис. 1.3). Это искривление вызовет перераспределение концентрации электронов и дырок и изменит ход электрического потенциала в областиp-n перехода.

Основные носители заряда при переходе через контакт должны преодолевать потенциальный барьер высотой . Переход неосновных носителей заряда совершается под действием электрического поляp-n перехода. В состоянии термодинамического равновесия плотность диффузионного тока основных носителей и уравновешена плотностью дрейфового тока неосновных носителей ,, и суммарный ток черезp-n переход равен нулю.

Обозначим уровни Ферми в электронном и дырочном полупроводнике соответственно и. Высота потенциального барьера равна

,

где - концентрация электронов вп- области, - концентрация дырок вр- области, - концентрация электронов вр- области, - концентрация дырок вп- области, - концентрация собственных носителей. Можно показать, что контактная разность потенциалов тем больше, чем сильнее легированыn и p-области полупроводника.

В обеих областях полупроводника, прилегающих к переходу, объемные заряды равны, т.е. сохраняется электронейтральность, и .

Толщина слоя объемного заряда , где- диэлектрическая проницаемость полупроводника.

В области p-n перехода имеет место значительное уменьшение концентрации носителей заряда, поэтому сопротивление перехода велико по сравнению с сопротивлением слоя n или p полупроводника той же площади и толщины, что и область объемного заряда, т.е. p-n переход ведет себя как конденсатор. Это слой низкой удельной проводимости, заключенный между слоями высокой проводимости. Емкость p-n перехода, приходящаяся на единицу площади (барьерная емкость):