Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Арсенид галлия. Получение, свойства и применение

.pdf
Скачиваний:
103
Добавлен:
25.10.2023
Размер:
18.36 Mб
Скачать

8.2]

Э Я Е К Т Р О Л Ю М И Н Е С Ц Е Н Т Н Ы Е С В О Й С Т В А

381

ток I-~-Un,

где «=0,3—0,5

(рис. 8.14). При

более низ­

ких температурах п =

0,5—0,8 и ток

больше, чем дает

теория

[156],

и зависит

от

качества

обработки поверх­

ности.

 

 

 

 

 

 

 

8.2.2. р—й-переходы

в среднелегированиом

арсениде

галлия.

Особенностью этих р—«-переходов

является то,

что при относительно малых прямых токах и низких тем­

пературах

наклон характеристики

lg / = / (U)

не за­

висит

от температуры,

т. е.

 

 

 

 

 

 

 

I— е х р V'

 

 

 

где характеристическая

энергия е =

const.

 

При

больших

токах

и высоких

температурах,

однако,

причем

параметр

В в зависимости

от напряжения

может

быть

равен

двум,

полутора и одному, а в некоторых слу­

чаях

и

половине.

 

 

 

 

 

При

обратных

напряжениях ток значительно больше,

чем дают классические теории Шоклп и Шокли—Нойса— Саа и зависит' от напряжения, сильнее, чем требуют эти теории.

Впервые независимость е от температуры была обна­ ружена в избыточном токе туннельных диодов [161, 162].

р—«-переходы этой группы являются весьма эффек­ тивными преобразователями электрического тока в свет.

Стимулированное излучение из р—«-перехода

впервые

было

получено на р—«-переходе GaAs [186], и

впервые

был

создан лазер с р—?г-переходом [187]. Исследование

электролюминесценции дало много полезной информацпп

о рекомбинационных

процессах в GaAs

р—7г-структурах.

Электролюминесценция исследовалась

в ряде работ

(см. например, [163,

177]).

 

В спектрах излучения наблюдается полоса с энергией фотонов в максимуме hv =1,508 эв (77° К), hv =1,423 эв (298° К), очень близкой к ширине запрещенной зоны, объясняющаяся рекомбинацией свободного электрона и дыркн [188, 189]. Полоса эта излучается в 7г-области и ее удобно наблюдать в гетеропереходах 7i-GaAs — p-GaP 1190].

382

Э Л Е К Т Р О Н Н О - Д Ы Р О Ч Н Ы Е П Е Р Е Х О Д Ы

[ГЛ. 8

Обычно

преобладает квазимежэонная полоса

с hv=

= 1,48 эв при 77° К и /tv=l,36 эв при 295° К (рис. 8.15), объясняющаяся рекомбинацией свободных электронов или электронов, находящихся на мелких донорных уровнях, с дырками, захваченными мелкими акцепторами. Эта полоса преимущественно излучается в р-области, по за­ метна также и в ?г-областп, если гг-область содержит мел­ кие акцепторы Zn, Cd, Be и др. Именно эта полоса

hv.oO

Рггс. 8.15. Т п п п ч п ы й спектр злектролюмппссиенппп GaAs п р п 295° К .

используется в полупроводниковых источниках некогерент­ ного света и в лазерах. Наиболее эффективными полупро­ водниковыми лампами в настоящее время являются CaAs р—«-структуры, легированные только амфотерной при­ месью кремнием.

В относительно несовершенных образцах наблюдаются

значительные

полосы с

/Yv=l,05

эв

(77е К); 0,97 эв

(295° К) и 1,26

эв (77° К), а также

с

Av = l,3—1,35 эв

(77° К), которые

можно

объяспить рекомбинацией через

глубокие уровни,

создаваемые дефектами [12, 191].

Легирование кристалла примесями, создающими глу­ бокие уровни Мн, Fe, Си, Сг и др., приводит к появлению соответствующих длинноволновых полос излучения.

8.2]

Э Л Е К Т Р О Л Ю М И Н Е С Ц Е Н Т Н Ы Е С В О Й С Т В А

383

 

Кромо этих полос, еще наблюдается перемещающаяся

полоса. Энергия фотонов в ее максимуме зависит от напря­ жения на потенциальном барьере, hv qU. Эта полоса при увеличении напряжения часто переходит в квазимежзоиную. Однако при низкой температуре удается наблю­ дать обе полосы раздельно. В сильно легированных р—«-переходах, используемых для изготовления туннель­ ных диодов, обе полосы паблюдаются раздельно и при комнатной температуре.

Две основные гипотезы были выдвинуты для объясне­ ния перемещения полос. Во-первых, межзонный или квазимежзонный туннельный эффект в р—/г-переходе с испу­ сканием фотона 1167]. Во-вторых, заполнение хвостов зон неосновными носителями до квазиуровня Ферми и после­ дующая рекомбинация их с основными носителями [168, 169, 1711. Хвосты зон — это разрешенные состояния в запрещенной зоне, плотность которых забывает в глубь запрещенной • эоны. Хвосты зоп, как следует из теории [179—1851, возникают при сильном легировании полупро­ водника. В работах [166, 170] приводится феноменологи­ ческий расчет тока, обусловленного межзонным туннель­ ным эффектом с излучением фотона. Как следует пз расче­ та, главный вклад в ток должна давать рекомбинация электронов и дырок, тунпелирующих в слой объемного заряда. Только при больших напряжениях некоторый вклад дает рекомбинация носителей, туннелпрующих сквозь барьер в толщу п- и р-области. Зависимость тока от напряжения имеет вид

где е не зависит от температуры, а для данного полупро­ водника зависят в основном от ширины потенциального барьера.

В работах [22, 24] приводится расчет тока, вызван­ ного заполнением хвостов зон. Ток зависит экспоненци­ ально от напряжения только тогда, когда плотность со­ стоянии убывает в глубь запрещенной зоны экспоненци­ ально, тогда как, согласно теории, плотность состояний в хвостах должна убывать по кривой функции ошибок как

384

Э Л Е К Т Р О Н Н О - Д Ы Р О Ч Н Ы Е П Е Р Е Х О Д Ы

[ГЛ. 8

где е — эпергня электрона в хвосте, отсчитанпая от

края

разрешенной

зоны в иелетированном полупроводнике,

е0 — характеристическая энергия. Одпако надо отметить, что хвосты зон еще изучены теоретически и эксперименталь­ но недостаточно и возможны другие зависимости плотно­ сти состояний в хвостах от энергии.

Для межзоттого туннельного эффекта с излучением фотона проделан строгий теоретический расчет [178], дающий такой же характер зависимости тока от напряже­ ния, как п феноменологический расчет.

Одновременное наличие двух полос и их поремещеппе указывают, что осуществляются оба мохатшзма. Переме­ щение квазнмежзоняой полосы в этом случае вызвано заполнением хвостов зон. Поремещеппе длппповолновой полосы вызвано туннельным эффектом с излученном фо­ тона. Когда же наблюдается только одпа полоса и она перемещается, трудно выбрать прпчнпу перемещения. Если перемещение вызвано туннельным эффектом с излу­ чением фотона, то излучение оказывается поляризован­ ным [193], так как исходит из слоя объемного заряда, где имеется спльпое электрическое поле [194], а интенсив­

ность излучения прп фиксированном hv

< sg

падает,

когда qU > hv [172, 178].

 

 

Перемещение, связанное с заполпеппем хвостов зоны

неосновных носителей, паблюдается только

тогда,

когда

в области рекомбинации одновременно присутствуют и доноры и акцепторы [193]. Это указывает на то, что ак­ цепторы практически не дают хвостов около зоны прово­ димости, а доноры — около валентной зоны, как и следует

пз теоретических

соображений [195].

В р—«-переходах

GaAs был

обнаружен еще один

важный механизм

тока — ударная

безызлучательпая ре­

комбинация электронов и дырок, туппелпрующих в слой объемпого заряда [215, 216].

Этот механизм был привлечен для объяснения умепьшепия общего квантового выхода излучения при пониже­

нии напряжения и наличия при низких

папряжеинях

п низких температурах квазимежзонного

излучения,

интенсивность которого па много порядков превышает ожидаемую для ппжекциоппого тока [1661. Схема меж­ зонной ударной рекомбинации в слое объемного заряда показана на рис. 8.16.

8.2]

ЭЛЕКТРОЛЮМИНЕСЩЕНТНЫЕ СВОЙСТВА

385

Электроны и дырки за счет туннельного эффекта при­ сутствуют в слое объемного заряда, создавая электроннодырочное облако. Плотность электронного и дырочного облака можно описать квадратом функции Эйри, если считать электрическое поле однородным:

п (х) )

 

ехр|

 

(8.7)

 

4

 

 

 

 

р(х)

 

exp

 

(8.8)

 

2mnq

(UK

U)

 

(8.9)

 

 

 

 

 

i P =

{w

x)

tl2W

i

(8.10)

 

 

 

 

Хотя средняя

плотность

облака

практически не зави­

сит от времени, вероятность пребывания каждого отдель­ ного электрона в слое объем­ ного заряда колеблется с соб­

ственной частотой колебаний

электрона

где б п — энергия электрона. Эта частота представляет со­

бой частоту актов взаимо­ действия каждого электрона с электронно-дырочным об­

лаком. В результате взаи­

модействия электрон может передать другому электрону энергию r^qU и занять место

ДЫР™1'

 

Рис. 8.16.

Схема туннельного

Суммарная энергия элект-

эффекта

с

отдачей

энергии

ронов и проекция их импуль-

электрону

в

р—л-переходе.

Са На ПЛОСКОСТЬ, ПврпеНДИКу-

J y — плотность

тока,

обусловлен-

ЛЯрную электрическому

ПО-

ного ударной рекомбинацией.

лю, сохраняются. Изменяется

только импульс вдоль элект­

рического поля за счет

взаимодействия

 

электронов с

электрическим полем. Дл я

д в у х электронов вероятности

остаться в старом состоянии

и л и перейти в новое

пропор-

25 Арсенид галлия

 

 

 

 

 

 

386

 

Э Л Е К Т Р О Н Н О - Д Ы Р О Ч Н Ы Е П Е Р Е Х О Д Ы

 

 

[ГЛ.

8

циональны

плотности старых и

новых

состояний

соот­

ветственно.

Не все электроны могут принимать

учас­

тие

в ударной

рекомбинации,

а только те,

для

кото­

рых

имеются

места

с подходящим

импульсом

в новом

состоянии.

В однородном полупроводнике,

как

показа­

ли

Битти и

Ландсберг [198],

только

несколько

про­

центов всех электронов может принимать участие

в

ударной рекомбинации. В однородном арсениде

галлия

межзонная

ударная

рекомбинация

маловероятна,

так

как для выполнения

условия

сохранения

суммарного

импульса электронов дырка должна иметь довольно

большой импульс и естественно большую

кинетическую

энергию. Термических дырок с такой

энергией

крайне

мало [198]. В

электрическом поле

составляющая им­

пульса вдоль поля может меняться, и межзонная

ударная

рекомбинация

становится осзчгцествимой.

Долю

элект­

ронов, способных участвовать в ударной рекомбинации, обозначим буквой к п .

Наибольшая скорость рекомбинации будет в середпне барьера, где плотности электронного и дырочного облака равны и соответственно примерно равны плотности нового и старого состояний. Здесь для /«„-электронов равноверо­

ятно остаться в старом

состоянии или перейти

в новое.

В сторону га-области скорость

рекомбинации

спадает,

так" как уменьшается

плотность

новых

состояний. В сто­

рону р-области скорость рекомбинации

спадает,

так как

уменьшается плотность

электронного

облака.

 

Таким

образом,

плотность

тока, обусловленного

межзонной

ударной

рекомбинацией,

можно

выразить

формулой:

 

 

 

 

 

 

 

/у — VtqLnfa)

v n j

 

(8.11)

х0 координата, где скорость ударной рекомбинации максимальна; L — эффективная ширина области рекомби­ нации (сумма расстояний, на которых скорость рекомби­ нации в сторону га- и р-области от точки х0 спадает в е раз):

£ « 2 / . ю / $ / 2 .

(8.12)

Д л я межзонной ударной рекомбинации, в которой уча­ ствуют две дырки и электрон, формула для тока аналогич­ на, только коэффициент kv имеет другую величину, повидимому меньшую, чем к п , и другую частоту взаимодей-

8.2]

Э Л Е К Т Р О Л Ю М И Н Е С Ц Е Н Т Н Ы Е С В О Й С Т В А

387

ствия. Обозначим vn fcn 4-vp 7 «p=v/c. Тогда плотность сум­ марного тока, обусловленного ударной рекомбинацией, равна:

 

7 у ^

kvND

^

ехр ( -

- | - С0а/

(8.13)

з,

w

(2m„q)':'

 

 

 

 

 

где Со'3 — - jf - \

" /

{UK-U)

в

случае

резкого р - га -

перехода,

B = l-f-(7?in //7Zp)^,

Ы70 ширина

потенциального

барьера при (7=0. Тогда плотность суммарного тока в ин­ тересующем нас интервале No и w

 

7У ~А:-105 ехр^

£ 0 7 j

[а - сж -2].

 

(8.13а)

Рассчитаем также феноменологически ток, вызванный

межзонным туннельным эффектом

с испусканием

фотона

 

 

 

/ф

^

q J Ягар da:,

 

 

(8.14)

 

 

 

 

 

о

 

 

 

 

 

 

где В — коэффициент скорости межзонной

нзлучательной

рекомбинации.

В

однородном

 

полупроводнике

5 =

= 5 •

10-8см3/сек.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Поскольку rap мало

зависит от

координаты,

 

/ ф «

д£и;/1а (*0) «

9 Яи;Л& - щ - ехр ( -

~

^ /

з ) ,

(8.15)

т . е . .

 

у ф _ ; - 2 .

 

 

 

 

( 8

- 1 5 а у

 

Экспериментальный

прямой

ток

в

р—га-переходах:

GaAs,

имеющих

ширину

слоя

объемного

заряда

200—

о

1000 А, оказывается близким к расчетному для ударной межзонной рекомбинации в слое объемного заряда. На рис. 8.17 показаны расчетные величины этого тока д л я рга-переходов, исследованных Думиным и Пирсоном

[80].Превышение расчетного тока над экспериментальным

вслучае образца 2, по-видимому, связано с неточностью-

ойределения площади р—/г-перехода, а следовательно, и ширины слоя объемного заряда. Это лишний раз указы­ вает на трудности исследования туннельных рга-пере-- ходов, так как в них очень сильно сказываются йеодно^ 5*

388 Э Л Е К Т Р О Н Н О - Д Ы Р О Ч Н Ы Е П Е Р Е Х О Д Ы [ГЛ . 8

родности ширины слоя объемного заряда. Одним из дока­

зательств наличия

межзонной

ударной

рекомбинации

в

р—га-переходах

GaAs можно

считать

возникновение

в

них квазимежзонного излучения, интенсивность кото­

рого больше, чем может дать термическая

инжекция —

 

/, а/см2

 

 

 

10°

ЯГ*

Щ'6

о

Gfi

0,8

/,г

 

 

 

и , в

Рис. 8.17. Экспериментальные

вольтамперные характеристики [80]

и теоретические (штриховые) для туннельного эффекта с отдачей энергии электрону для р—n-переходов в GaAs при 4,2 °К,-

ток Шокли. Часть электронов высокой энергии, возбуж­ денных ударной рекомбинацией, может при напряжениях, превышающих половину контактной разности потенци­

алов, попадать

в р-область и в ней рекомбинировать

с дырками.

 

Межзонная

ударная безызлучательная рекомбинация

и межзонньгй излучательный туннельный эффект действу­ ют параллельно. Поскольку второй зависит от напряже­ ния резче первого, то, согласно, формуле (8.15а), кванто­ вый выход, излучения при малых токах должен быть примерно.'пропорционален току, как и наблюдается на опыте. - •

8.2]

Э Л Е К Т Р О Л Ю М И Н Е С Ц Е Н Т Н Ы Е С В О Й С Т В А

389

Таким

образом, в р—«-переходах

с относительно

узким потенциальным барьером проявляются две разно­ видности межзонного или квазимежзонного туннельного эффекта с отдачей энергии c^qU: туннелирование с излу­ чением фотопа и туннелирование с отдачей энергии вто­ рому электрону или дырке. Последний является безызлучательным. Не исключено, что последний в р—re-перехо­ дах GaAs всегда преобладает над первым. Наличие дополни­

тельных

«горбов»

иа

характеристике

ток—напряжение

можно

объяснить туннельным эффектом

зона—уровень.

Глубокие

уровни в барьере могут, кроме

того, создавать

дополнительный

ток,

экспоненциально

зависящий от

напряжения.

 

 

 

При обратных напряжениях до пробоя туннелирование играет главную роль в протекании тока. Обратный ток часто оказывается близок к ожидаемому для прямого туннелирования зопа—зона [80], а в некоторых образцах, отличающихся повышенной плотностью обратного тока, погвидимому, происходит туннелирование через глубокие уровни.

Именно диффузионный ток может быть наиболее полно преобразован в свет. Поэтому для полупроводниковых ламп используются р—«-структуры с относительно широ­ ким потенциальным барьером, чтобы исключить туннели­ рование. Рекомбинация через глубокие уровни неконтро­ лируемых примесей и дефектов сказывается только при малых токах. При больших токах эти уровни насы­ щаются [211].

К а к статические, так и релаксационные характери­ стики полупроводниковых ламп не описываются в пол­ ной мере теорией Шокли или Шокли—Нойса—Саа даже при инжекционном механизме переноса носителей через потенциальный барьер. Коэффициент В при экспоненци­ альной зависимости плотности тока от напряжения на барьере типа

/~ехр(?/7/В/сГ)

отличается от 1 или 2, а время релаксации импульсов света зависит от напряжения (рис. 8.18). Наблюдающиеся на опыте значения В около 1,5 и 0,6 (рис. 8.19) не удается объяснить в рамках этих теорий. Однако при наличии ударной рекомбинации, осуществляющейся через примес­ ные уровни, такие значения |3 возможны.

390

 

 

Э Л Е К Т Р О Н Н О - Д Ы Р О Ч Н Ы Е

П Е Р Е Х О Д Ы

 

[ГЛ . 8

Можно полагать, что главную роль в рекомбинации

играют

примесные центры,

поскольку

экстраполяция

зависимости напряжения на барьере при

фиксированном

 

 

 

 

 

токе

от температуры к нулю тем­

 

 

 

 

 

ператур не дает &g/q

(рис. 8.19,

 

 

 

 

173"УУ

8.20).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Анализ обоблгенного

выраже­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ния

для

рекомбинации

через

 

 

 

 

 

примесный

уровень показал, что

 

 

 

 

 

рекомбинация

в

слое

объемного

 

 

 

V

 

заряда может вызвать ток с раз­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

личными р=1/2,

2/3,3/4,

3/2,

2,

 

 

 

 

 

3 или со в зависимости от того,

1,2

 

 

1,3

1,4

какие

коэффициенты

рекомбина­

 

 

 

.

и , в

ции оказываются

преобладающи­

 

 

 

 

 

Рис.

8.18.

Зависимость

ми. Дл я рекомбинации в толще

времени, в

течение ко­

возможны

[5=2/3, 1, 2

в

случае

торого

импульс

излу­

резкого р—тг-перехода.

Близкие к

чения

спадает в

е раз

этим

значения

(3 получаются

в

после

прекращения им­

плавном р—га-переходе,

в котором

пульса

тока, от напря­

жения

на

потенциаль­

концентрация

рекомбинационных

ном барьере для р—п-

центров и

концентрация

приме­

переходя GaAs,

легиро­

сей не меняется существенно на

ванного

Si, при темпера­

 

туре 173 °К.

расстоянии, равном глубине ин-

жекции.

Ростом концентрации свободных дырок и соответствуюгцим ускорениям ударной рекомбинации при повышении температуры объясняется в работах [204, 213] уменьше­ ние квантового выхода излучения при повышении темпе­

ратуры.

р—га-структур

Заметим, что разброс характеристик

GaAs весьма значителен даже среди образцов, изготов­ ленных одинаковым образом из одного кристалла. В ос­ нове этого разброса, по-видимому, лежит преимуществен­ ное проявление тех или иных конкурирующих рекомбина­ ционных процессов в зависимости от местных условий в кристалле. Количественные величины коэффициентов рекомбинации в арсениде галлия пока не определены.

8.2.3. Туннельные р— «-переходы. Отличительной осо­ бенностью этих р—га-переходов является то, что их вольтамперная характеристика имеет iV-образную форму. Возможность туннельного эффекта в р—га-переходах была

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ