Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Минскер Ф.Е. Сборка полупроводниковых приборов учеб. пособие

.pdf
Скачиваний:
46
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
5.08 Mб
Скачать

пайки производят герметизацию интегральных схем. Это объяс­ няется особенностями конструкции ряда широко распространен­ ных корпусов микросхем:

боковым расположением выводов и наличием стеклоизолято­ ра пли керамического изолятора непосредственно под зоной гер­ метизации, что делает герметизацию сваркой и давлением прак­ тически невозможной;

широким использованием многослойных керамических корпу­ сов с герметизацией по металлизированной поверхности ке­ рамики;

с целью получения оптимального отношения полезной пло­ щади.интегральной схемы (площадь, занятая элементами схемы) ко всей площади корпуса применяют корпуса прямоугольной формы.

Следует отметить, что после герметизации пайкой можно производить последующую разгерметизацию, ремонт схемы и вто­ ричную герметизацию корпусов. Герметизированные холодной и электроконтактной сваркой корпуса таким преимуществом не обладают.

Сущность процесса герметизации пайкой заключается в сое­ динении металлических или металлизированных поверхностей узлов и деталей с помощью припоя. Достоинством пайки для окончательной герметизации является отсутствие значительных давлений при герметизации и специального инструмента (элект­ роды для сварки). К недостаткам герметизации пайкой относят­ ся: необходимость нагрева всего прибора до значительной тем­ пературы (200—420°С), вредное влияние флюсов и высокие требования по плоскопараллельности соединяемых поверхностей, если же пайка ведется без флюса, то необходимость работы в атмосфере водорода, который не всегда желателен, или дорого­ стоящего инертного газа.

Для герметизации могут быть использованы припои с темпе­ ратурой пайки от 85—90° С (сплав Розе) до 400—420° С (ПСР-3) и выше. Особенно распространенными можно считать припои ПОС-61 (температура пайки около 200° С) и ПСР-2,5 (темпера­ тура пайки около 340°С). Выбор припоев для герметизации пайкой достаточно ограничен, так как при проведении процесса пайки должны сохраняться все ранее полученные соединения.

Самым важным при подготовке элементов корпуса к герме­ тизации пайкой является смачивание паяемых поверхностей припоем. С этой целью производят их очистку и отмывку, а так­ же никелирование, золочение, лужение и нанесение других видов предварительных покрытий.

Для примера рассмотрим процесс герметизации пайкой при­ боров в малогабаритном металло-стеклянном корпусе в конвей­ ерной водородной печи. Существенным моментом при герметиза­ ции пайкой является правильный выбор конструкции кассеты (рис. 70), которая должна обеспечивать взаимное расположение деталей с необходимой точностью в процессе пайки, определен­

ия

з-д

ное давление для контакта паяемых поверхностей или получения необходимых характеристик прибора с точечным контактом.

Основные технологические приемы работы при герметизации пайкой следующие: загрузка шайбы припоя в гнездо кассеты, загрузка металло-стеклянного баллона, загрузка держателя; загрузка шайбы припоя в пробку кассеты, загрузка вывода в пробку со стороны шайбы припоя, установка загруженной проб­ ки в направляющее отверстие кассеты, опускание вывода в верх­ нее отверстие баллона до прижима к алюминиевому электроду кристалла, опускание шайбы на торец баллона, герметизация приборов пайкой в печи, разгрузка загерметизированных при­ боров.

При герметизации пайкой корпусов микросхем число техно­ логических переходов значительно уменьшается: установка кор­ пуса с собранной схемой в гнездо кассеты; установка крышки в зону герметизации; обеспечение давления в процессе пайки; установка кассеты в печь для герметизации корпусов; разгрузка загерметизированных приборов; контроль по внешнему виду и на герметичность.

Кроме пайки в конвейерной печи в атмосфере водорода ис­ пользуют и другие методы пайки:

с нагревом в поле токов высокой частоты;

винертной среде с нагревом в колпаковой печи или спиралью; на воздухе с контактным нагревом или нагревом с помощью

паяльника; припоями на основе галлия, температура пайки которыми в

несколько раз ниже рабочей температуры.

Однако кроме пайки в конвейерной и колпаковых печах, все остальные методы не имеют широкого распространения из-за возможных загрязнений при пайке (пайке на воздухе), незначи­ тельной производительности, сложности проведения процесса и пористости получаемого соединения.

Важнейшими методами определения качества герметизации пайкой являются визуальный контроль зоны пайки или контроль под микроскопом, с помощью гелиевого течеискателя, избыточ­ ным давлением в спирте и вакуумно-жидкостным методом. Кри­ терием качества соединения является величина течи, которая не должна превышать 1 • ІО-5 л-мкм/сек.

Характерными видами брака при герметизации пайкой могут быть щели в паяном соединении, затекание припоя внутрь при­ бора, перекосы паяемых деталей, полное или частичное отсутст­ вие смачивания паяемых поверхностей припоем.

Причиной плохого смачивания является возможное загряз­ нение поверхности, наличие окисного слоя на паяемых поверх­ ностях, дефекты покрытия на этих поверхностях, недостаточная температура в зоне пайки печи. Наличие щелей и затекания припоя внутрь прибора свидетельствует о чрезмерных зазорах между деталями, о глубоких царапинах на паяемых поверхнос­ тях, а также чрезмерном перегреве герметизируемого прибора.

104

Перекосы деталей при пайке указывают на плохое качество кассет или их чрезмерный износ. Эти виды брака могут быть устранены и предупреждены при соблюдении технологии, ка­ чественном контроле паяемых деталей и узлов и тщательной проверке кассет после изготовления и в процессе работы.

§ 26. Герметизация заваркой стеклом

Сущность метода герметизации заваркой стеклом заключает­ ся в создании спая стекла со стеклом или стекла с платинитом. Обычно для этой цели используют стекло С88-1 с температурой герметизации около 800°С в виде трубки различного диаметра. Существуют два способа герметизации стеклом:

В

ЛО*

I I

Рис.

71. Схема изготовления прибора в стеклянном корпусе:

/ — БЫ вод с

контактной пружиной,

2 — вывод с

трубкой, 3 — вывод с бусон, 4 —

 

вывод, 5 — буса,

5 — трубка,

7 — кристалл

Г) «огневой», заключающийся в заварке стеклом с помощью газовых горелок;

2 ) с радиационным нагревом места спая, образующим «бусинковый спай» (рис. 71). «Огневой» способ заварки основан на получении спая стеклотрубки баллона с впаянным в него полупроводниковым кристаллом и платинитового вывода с при­ варенным к нему пружинным контактом. Поскольку диаметр платинитового вывода (0,5 мм) значительно меньше внутренне­ го диаметра стеклянной трубки (1,4 мм), требуется длительное время нагрева места спая для получения качественного соедине­ ния. При этом наблюдаются значительные разбросы по габарит-

105

ным размерам корпуса из-за неравномерной усадки стекла при оплавлении. Значительные разбросы по габаритам нежелатель­ ны для приборов, предназначенных для монтажа на печатных платах. Колебания состава газовой смеси и ее теплотворной способности вызывают колебание температурного режима завар­ ки и усугубляют разброс загерметизированных приборов по диаметру и длине.

Заварка стеклом с помощью радиационного нагрева места спая в настоящее время является наиболее распространенной. Связано это, в первую очередь, с тем, что при этом способе зна­ чительно легче добиться воспроизводимости технологического процесса и стабилизации режимов заварки. С целью уменьшения зазора между соединяемыми поверхностями и связанного с этим уменьшения времени заварки и разбросов по габаритным разме­

 

 

 

 

 

рам, на платинитовый вывод

 

 

 

 

 

напаивают

бусу .

из

того

же

 

 

 

 

 

стекла с диаметром на 50—

 

 

 

 

 

100

мкм

меньше

внутреннего

 

 

 

 

 

диаметра

стеклянной

трубки

 

 

 

 

 

баллона для обеспечения хоро­

 

 

 

 

 

шего сопряжения. Герметиза­

 

 

 

 

 

ция приборов заваркой стек­

 

 

 

 

 

лом

производится

в специаль­

 

 

 

 

 

ном приспособлении с одновре­

 

 

 

 

 

менным

контролем

электриче­

 

 

 

 

 

ских

 

параметров

 

приборов

 

 

 

 

 

(рис. 72). Для уменьшения

 

 

 

 

 

опасности перегрева

кристалла

 

 

 

 

 

с р-п-переходом при заварке

 

 

 

 

 

нижний

 

платинитовый

вывод

 

 

 

 

 

помещают в охлаждаемый

во­

 

 

 

 

 

дой холодильник. Для центров­

 

 

 

 

 

ки верхнего вывода при сборке

 

 

 

 

 

и настройке

прибора

служит

Рис. 72. Окончательная герметизация

специальная консольно закреп­

ленная оправка. Место заварки

цельностеклянного корпуса

радиаци­

нагревают с помощью спирали

онной

заваркой

стеклом:

 

из нихрома

или специального

/ — электрическая схема

настройки с

ос­

циллографом,

2 — трубка

с

выводом

и

сплава,

 

расположенной

по ок­

кристаллом,

3 — держатель с

контактной

ружности вокруг прибора. Пос­

пружиной, 4 — нагревательная спираль

 

 

 

 

 

 

ле загрузки

деталей

в приспо­

собление приваривают пружинный контакт верхнего вывода к кристаллу, а затем прибор заваривают стеклом. Температура нагрева контролируется косвенно. Время заварки выбирают экспериментально. Трубка арматуры и буса держателя с пру­ жинным контактом должны быть строго в центре спирали. При этом спираль должна находиться на уровне спая с бусой.

Основными видами брака при заварке стеклом являются трещины в спае, непровар, сильное оплавление стекла. Для

106

устранения этих видов брака необходимо точно соблюдать режим заварки, не допускать использования деталей и узлов, образую­ щих большой зазор между соединяемыми поверхностями, не допускать слишком быстрого охлаждения прибора после завар­ ки, выдерживать необходимую температуру холодильника.

Сравнительная простота технологического процесса гермети­ зации стеклом, возможность визуального контроля взаимного расположения пружинного контакта и поверхности кристалла полупроводника (что является необходимым для приборов с точечным контактом), небольшие габариты прибора в цельно-

•стеклянном корпусе позволяют широко применять этот метод герметизации в полупроводниковом производстве. Однако метод обладает также существенными недостатками, связанными с вы­ сокой температурой нагрева, небезопасной для кристалла, использованием холодильника и охлаждением полученного спая

на воздухе. Одновременное возденет^

 

 

 

вие на корпус нагрева со стороны за­

 

 

 

варки и охлаждения со стороны крис­

 

 

 

талла с помощью холодильника вызы­

 

 

 

вает образование в стекле баллона

 

г

J

опасных напряжений переменного зна­

 

ка с концентрацией их в зоне раздела

Рис. 73. Герметизация стек­

горячей и холодной частей корпуса.

 

лом:

Охлаждение на воздухе с неконт­

/ — вывод

из платинита, 2 — по­

лупроводниковая

структура,

ролируемой скоростью не способству­

5 — 6уса

нз герметизирующего

ет снятию или уменьшению этих на­

 

стекла

С.88-1

пряжений. В связи с тем что интервал

 

 

снятие на­

отжига стекла С.88-1 лежит в пределах 460—340° С,

пряжений отжигом также не представляется возможным. Поэто­ му значительная часть приборов имеет величину напряжения, близкую к разрушающему стекло, и брак по трещинам и разло­ му стекла у таких конструкций достаточно высок.

Необходимость уменьшения длины собранного прибора и улучшения теплоотвода явилась причиной разработки техноло­ гии герметизации стеклом полупроводниковых структур, способ­ ных выдерживать без потери работоспособности воздействия температур 650—820° С. Для герметизации таких конструкций используют кольцевой разрезной нагреватель, взаимное переме­ щение частей которого позволяет автоматически устанавливать собранный узел на позицию заварки с помощью конвейерной ленты. При этом следует проводить более медленный нагрев и охлаждение места спая с целью уменьшения возможных напря­ жений. Платинитовый вывод, применяемый в этой конструкции, должен иметь на торце слой меди. Слой меди на торце вывода способствует образованию медно-серебряной эвтектики с темпе­ ратурой плавления 780° С (серебро применяется в качестве кон­ такта полупроводниковой структуры), механически прочному сое­ динению выводов со структурой и одновременно образует герме­ тизирующий металло-стеклянный спай (рис. 73).

107

§ 27. Бескорпусная герметизация

Под бескорпусной герметизацией чаще всего понимают гер­ метизацию полупроводниковых приборов пластмассами, хотя она включает в себя более широкое понятие, например, герме­ тизацию пленками окиси и нитрида кремния.

Бескорпусная герметизация обладает существенными преиму­ ществами перед другими способами герметизации:

уменьшение габаритов приборов; резкое сокращение числа технологических операций; высокая производительность процесса.

Однако при отверждении компаунда возникают напряжения в результате уплотнения молекулярной структуры и разницы в КТР, а также старения в процессе хранения и эксплуатации из-за образования фаз другой плотности. Эти напряжения вследствие непосредственного контакта компаунда с полупроводниковым кристаллом и выводами могут вызвать изменения характеристик прибора и разрушение его элементов (в частности, выводов).

Герметизация пластмассами дает возможность механизиро­ вать процессы сборки полупроводниковых приборов. При этом сборку приборов проводят на ленте, и кристалл соединяют с вы­ водами ленты с помощью термокомпрессии. Лента в этом случае служит в качестве элемента конструкции приборов и транспорте­ ра. Герметизация пластмассой на ленте производится одновре­ менно для нескольких приборов.

Поскольку при герметизации полупроводниковых приборов пластмассой наиболее существенными являются защита от про­ никновения влаги через пластмассу и места соединения пласт­ массы с выводами, а также защита от загрязнения поверхности полупроводника вредными примесями, содержащимися в герме­ тизирующем материале, можно определить для герметизирую­ щих материалов пять обязательных условий: 1 ) влагонепрони­ цаемость; 2 ) термостойкость; 3) возможность получения вакуумплотного соединения с материалом вывода; 4) отсутствие загряз­ нений, влияющих на характеристики полупроводниковых при­ боров; 5) минимальное искусственное старение в течение дли­ тельного срока и минимальная усадка.

Наилучшую защиту от воздействия влаги обеспечивают ма­ териалы, которые либо реагируют с гидроксильными группами на поверхности химически, либо активно их адсорбируют.

Наиболее распространены

три

метода герметизации

пласт­

массами:

пленкой

полимерного

материала

1 ) обволакивание тонкой

(рис. 74);

 

 

 

 

 

2 ) заливка жидкими полимерными материалами с примене­

нием литьевых форм (рис. 75);

 

или

литьевое

прессование

3) трансферная опрессовка

(рис. 76).

 

 

 

 

 

Герметизация обволакиванием

тонкой полимерной

пленкой

108

отличается простотой и дешевизной. С помощью этого метода легко решаются требования микроминиатюризации полупровод­ никовых приборов. Процесс герметизации обычно осуществля­ ется капельным методом с помощью вращения приборов вокруг оси выводов вручную. При растекании компаунда за счет сил поверхностного натяжения получается сферическая форма, гео­ метрия которой, определяется габаритными размерами прибора

Смола

Отвердитель

Смола

Отвердитель

 

-ВзВешиданиеи

I— Взвешивание —I

 

 

Вакуумирование

Вакуумирование

Нанесение на армат уру Время

 

Залидка

 

 

 

Время

 

цикла

 

ж л

 

360 мин

 

цикла

 

 

 

 

24ОSSO

 

 

 

 

'мин

 

 

 

] ПрьЗВаритель-

 

Сушка

 

j

ное отвержде­

 

 

 

 

ние

 

 

 

.

Удаление

 

 

 

 

из формь/

Изделие

ТермооораВатка

 

 

Изделие

Рис. 74. Схема метода многослойной

Рис. 75. Схема процесса герметизации

гер.метизации обволакиванием

приборов заливкой в разъемных фор­

 

мах

после герметизации. Для увеличения надежности приборов при малой толщине пленки на них иногда наносят три слоя пленки с

промежуточной подсушкой при

температуре

100—120° С:

1-й слой — 4—6%-ный раствор

триацетатной

электроизоля­

ционной слабопластнфицированной пленки; 2

слой — смесь

заливочного компаунда с наполнителем из нитрида бора и отвер­ дителя; 3-й слой — смесь из специального лака и связующего. Кристалл предварительно должен быть спланирован.

Метод защиты обволакиванием обеспечивает высокую устой­ чивость приборов в условиях воздействия влажной атмосферы, по имеет ряд недостатков: необходимость применения легколету­ чих растворителей; длительность процесса сушки на воздухе и

і09

необходимость последующего отверждения покрытий при повы­ шенных температурах; трудность нанесения равномерного по толщине покрытия.

Метод заливки жидкими полимерными материалами осуще- . ствляется в литьевых формах; он наиболее распространен в по­ лупроводниковом производстве. Применяют формы из силиконо­ вой резины, к которой заливочный компаунд имеет минимальную адгезию. Однако стойкость таких форм незначительна. Заливка производится с помощью шприца или на специальном оборудо­ вании. В качестве материалов для заливки используют эпокспд-

2

Время

 

цикла. ■

 

¥г-8

Вспрыск

мин

прессматериа-

 

л а и отверж­

 

дение

Изделие

Рис. 76. Схема герметизации приборов тран­ сферным литьем под давлением:

I — плунжер, 2 — пресс-порошок, 3 — плита пресса

ные компаунды, которые имеют низкую вязкость, могут быть модифицированы, легко отверждаются, имеют малую усадку, высокую адгезию, достаточную химическую стойкость и влаго­ стойкость, а также кремнийорганическне материалы, полиурета­ ны и полиэфиры.

Кремнийорганическне материалы отличаются термостойко­ стью до 250—300°С (что позволяет вести отбраковку приборов по'надежности при высокой температуре), хорошими электриче­ скими свойствами, морозостойкостью (—65°С), ничтожной влагопоглощаемостыо, нетоксичностыо и отсутствием ионных при­ месей, которые являются причиной необратимых изменений па­ раметров приборов в условиях повышенной влажности.

Полиуретаны и полиэфиры работоспособны только до 150° С. В качестве подслоя при применении эпоксидных компаундов

по

служат различные эмали. Приборы после заливки вместе с лить­ евыми формами помещают в сушильные камеры и выдерживают при температуре полимеризации 2—12 ч. В связи с этим тре­ буется большое количество литьевых форм. Этот метод гермети­ зации очень чувствителен к отклонениям от технологического режима. При нарушении соотношения компонентов смеси, недо­ статочном их перемешивании, попадании влаги, отклонении вверх или вниз от оптимальной температуры полимеризации появляется брак, так как отливка не твердеет, спекается с литье­ вой формой, отделяется по краям формы и выводам, становится жидкой при высокой температуре, образуются пузыри или поры на поверхности герметизации.

Метод литьевого прессования (трансферная опрессовка) ос­ нован на особенности некоторых полимерных материалов в виде порошка млн таблеток расплавляться и течь, заполняя пустоты в металлической форме с герметизируемыми изделиями, под воз­ действием температуры 120—150° С и давления 3,5—20 кГ/сму. Поскольку время формования с отверждением составляет всего 2—3 мин, метод литьевого прессования является наиболее эко­ номичным и производительным, несмотря на более высокую стои­ мость процесса по сравнению с заливкой. При литьевом прессо­ вании исключается операция приготовления герметизирующего материала. Из-за высокой стоимости оборудования и оснастки этот метод используется при значительном объеме производства и требует применения многоместных пресс-форм с числом гнезд

150—200.

Основными требованиями к материалам для литьевого прес­ сования являются: хорошая текучесть при минимальном давле­ нии для сохранения целостности полупроводникового прибора в процессе заливки, строго определенное время сохранения теку­ чести (до заполнения формы), стабильность при хранении в те­ чение 4—6 месяцев, отсутствие абразивного воздействия на пресс-форму, малая адгезия к стенкам формы (легкая выгрузка залитого прибора), влагостойкость, совместимость по КТР с ма­ териалом выводов, отсутствие ионных примесей, высокая тепло­ проводность, хорошие механические и электрические свойства.

В наибольшей степени такими свойствами обладают феноль­ ные и алкидные материалы, эпоксиды и силиконы. Эпоксиды и силиконы имеют нанлучшие свойства п наиболее предпочтитель­ ны. Однако силиконовые компаунды более хрупки и обладают худшими механическими свойствами, чем эпоксидные, но более термостойки (до 350° С) и хорошо согласуются с полупроводни­ ковыми приборами по КТР.

Процесс литьевого прессования состоит из:

загрузки порошка в разогретую загрузочную камеру; сборки пресс-форм с установленными в них арматурами;

установки пресс-формы на плиту под отверстие для впрыски­ вания расплавленного материала через литники и литья под дав­ лением;

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ