
- •654100 – Электроника и микроэлектроника
- •Оглавление
- •Часть первая. Микроэлектроника Глава 1. Общая характеристика микроэлектроники. Принципы функционирования элементов
- •1.1. Основные определения
- •1.2. Классификация изделий микроэлектроники
- •1.3. Физические явления, используемые в интегральной микроэлектронике
- •1.4. Процессы и явления, определяющие функционирование интегральных схем (ис)
- •1.5. Контактные явления в микроэлектронных структурах
- •1.6. Поверхностные явления в полупроводниках
- •1.7. Механизмы переноса носителей заряда
- •Глава 2. Базовые физико-химические методы создания микроэлектронных структур
- •2.1. Очистка поверхности пластин для ис
- •2.2. Получение полупроводниковых монокристаллов методом вытягивания из расплава
- •2.3. Термическое окисление
- •2.4. Эпитаксия
- •2.5. Фотолитография
- •2.6. Диффузия
- •2.7. Ионная имплантация (ионное легирование)
- •2.8. Металлизация
- •Глава 3.Типы подложек интегральных схем, их основные характеристики и процессы изготовления подложек
- •3.1. Изготовление подложек ис
- •3.3. Оптический метод ориентации полупроводниковых пластин
- •3.4. Шлифовка и полировка пластин
- •3.5. Строение нарушенного слоя после механической обработки пластины
- •Глава 4. Технология химической обработки подложек для интегральных микросхем
- •4.1. Механизм химической обработки кремниевых пластин
- •4.2. Термохимическое (газовое) травление
- •4.3. Ионно-плазменное травление
- •Глава 5. Диэлектрические пленки в ис. Методы их получения. Технологии изготовления гибридных ис
- •5.1. Конструктивно-технологические функции диэлектрических плёнок
- •5.2. Формирование плёнок SiO2термическим окислением кремния
- •5.3. Методы получения диэлектрических пленок в технологии гибридных ис
- •5.3.1. Термовакуумное реактивное испарение
- •5.3.2. Анодное окисление
- •5.3.3. Ионно-плазменное окисление
- •Глава 6. Ионное легирование полупроводников
- •6. 1. Общие принципы процесса ионного легирования
- •Для количественной оценки ф согласно (6.1) необходимо знать потенциал φ(u) взаимодействия частиц. В простейшем случае он равен кулоновскому потенциалу. Однако в реальном случае
- •6.2. Отжиг дефектов и электрические свойства слоёв
- •6.3. Импульсный лазерный отжиг
- •6.4. Маскирование в процессах ионного легирования
- •6.5. Маскирование фоторезистами
- •6.6. Маскирование пленками металлов
- •Глава 7. Элионные методы литографических процессов
- •7.1. Электронно-лучевая литография
- •7.2. Рентгенолучевая литография (рлл)
- •7.2.1. Особенности экспонирования в рлл
- •7.2.2. Технология рентгенолитографических процессов
- •7.2.3. Выбор резистов для рлл
- •Глава 8.Пленки в технологии ис, микросборок и коммутационных элементов
- •8.1. Металлические пленки для ис
- •8.2. Технология коммутационных элементов ис
- •8.3. Технология пленочных резисторов
- •8.4. Чистый металл и сплавы
- •8.5. Керметы (микрокомпозиционные пленки)
- •8.6. Изготовление тонкопленочных конденсаторов
- •8.7. Монооксид кремнияSiO
- •8.8. Пятиокись тантала Та2о5
- •8.9. Оксид алюминия Al2o3 и диоксид кремнияSiО2
- •8.10. Диоксид титана ТiО2
- •Глава 9.Монтаж кристаллов ис на носителях. Типы носителей. Особенности сборки ис в корпуса
- •9.1. Конструктивно-технологические варианты монтажа
- •9.2. Изготовление ленточных носителей
- •9.3. Получение внутренних выводов на кристаллах ис
- •9.4. Монтаж кристалла ис на гибкую ленту
- •9.5. Монтаж гибридных ис и микросборок
- •9.6. Особенности сборки сверхбыстродействующих ис и процессоров
- •Глава 10. Технология герметизации ис и мп
- •10.1. Пассивирующие и защитные покрытия ис
- •10.2. Принципы герметизации ис в корпусах
- •10.3. Герметизация ис в металлических корпусах
- •Часть вторая наноэлектроника
- •Глава 11. Теоретические основы наноэлектроники. Одноэлектронные приборы
- •11.1. Проблемы наноэлектроники (одноэлектроники)
- •11.2. Базовая теория кулоновской блокады
- •11.3. "Кулоновская лестница"
- •11.5. Квантовые размерные эффекты
- •11.6. Классификация одноэлектронных приборов
- •11.7. Одноэлектронный прибор на основе сканирующего туннельного микроскопа
- •11.8. Субмикронный вертикальный одноэлектронный транзистор (транзистор Остина)
- •11.9. Применение одноэлектронных приборов
- •Глава 12. Наночастицы и нанокластеры
- •12.1. Свойства наночастиц и их характеристики
- •12.2. Теоретическое моделирование наночастиц (модель ″желе″)
- •12.3. Геометрическая и электронная структуры нанокластеров
- •12.4. Реакционная способность наночастиц
- •12.5. Флуктуационные наноструктуры
- •12.6. Магнитные кластеры
- •12.7. Переход от макро- к нано-
- •12.8. Полупроводниковые наночастицы
- •12.9. Кулоновский взрыв
- •12.10. Молекулярные кластеры
- •12.11. Методы синтеза наночастиц
- •12.12. Химические методы синтеза наночастиц
- •12.13. Термолиз
- •12.14. Импульсные лазерные методы
- •Глава 13.Углеродные наноструктуры
- •13. 1. Природа углеродной связи
- •13.2. Малые углеродные кластеры – с60.
- •13.3. Неуглеродная шарообразная молекула
- •13.4. Углеродные нанотрубки
- •13.4.1. Методы получения нанотрубок
- •13.4.2. Электрические свойства нанотрубок
- •13.4.3. Колебательные свойства нанотрубок
- •13.4.4. Механические свойства нанотрубок
- •13.5. Применение углеродных нанотрубок
- •13.5.1. Полевая эмиссия и экранирование
- •13.5.2. Информационные технологии, электроника
- •13.5.3. Топливные элементы
- •13.5.4. Химические сенсоры
- •13.5.5. Катализ
- •13.5.6. Механическое упрочнение материалов
- •Глава 14.Объемные наноструктурированные материалы: разупорядоченные и кристаллизованные
- •14.1. Методы синтеза разупорядоченных структур
- •14.2. Механизмы разрушения традиционных материалов
- •14.3. Механические свойства наноструктурированных материалов
- •14.4. Многослойные наноструктурированные материалы
- •14.5. Электрические свойства наноструктурированных материалов
- •14.6. Нанокластеры в оптическом материаловедении
- •14.7. Пористый кремний
- •14.8. Упорядоченные наноструктуры
- •14.8.1. Упорядоченные структуры в цеолитах
- •14.8.2. Кристаллы из металлических наночастиц
- •14.8.3. Нанокристаллы для фотоники
- •Глава 15.Наноприборы и наномашины
- •15.1. Микроэлектромеханические устройства (mems)
- •15.2. Наноэлектромеханические системы (nems)
- •15.3. Наноактуаторы
- •15.4. Молекулярные и супрамолекулярные переключатели
- •Библиографический список Основной
- •Физические основы технологии микро- и наноэлектроники
- •620002, Екатеринбург, Мира, 19
- •620002, Екатеринбург, Мира, 19
9.5. Монтаж гибридных ис и микросборок
Монтаж активных элементов включает установку, пайку и/или приварку к пленочной пассивной части ИС. В зависимости от того, какие выводы имеют активные элементы (жесткие или гибкие), их монтаж ведется различными методами. В последнее время все шире используется метод монтажа кристаллов с твердыми выводами, обеспечивающий возможность широкой автоматизации процессов сборки.
Независимо от применяемой технологии присоединения, всегда производится совмещение контактных выступов на кристалле с контактными площадками на плате, после чего контакты соединяются пайкой или сваркой.
Для успешной сборки гибридных ИС следует выполнить, по крайней мере, следующие условия:
предусмотреть возможность удаления неисправного кристалла и его замену после электрических испытаний;
обеспечить устойчивость ИС к высоким температурам, возникающим в момент пайки и сварки при герметизации корпуса;
создать надежный электрический и механический контакты в месте соединения кристалла с платой.
Наиболее распространенный метод монтажа – метод перевернутого кристалла, состоящий в беспроволочном монтаже кристаллов путем расположения их «лицом» к плате.
Для простоты монтажа целесообразно контактные выводы изготовлять несколько приподнятыми над поверхностью кристалла ИС с тем, чтобы избежать влияния неровностей платы.
Высота приподнятого вывода:
;
(9.1)
здесь hкр, hпл – высота неровностей кристалла и платы; Δhв – максимальный разброс высоты выводов.
Высота выводов, применяемых в технологии ИС, составляет:
для кремниевых кристаллов 3-5 мкм;
для керамических плат 18-20 мкм;
для стеклянных плат 8-10 мкм.
При этом диаметр выводов обычно не превышает 50-100 мкм.
При монтаже кристаллов на плату с помощью медных шариковых выводов последние покрывают припоем (облуживают). Диаметр шариков должен превышать шероховатость платы в несколько раз. Обычно он составляет ~0,08 мм. Шариковые выводы, выступающие над поверхностью кристалла, присоединяют к контактным площадкам на плате. После этого кристалл и плату нагревают и припой растекается по поверхности, ликвидируя неровности и образуя спай.
Сила поверхностного натяжения припоя сдвигает кристалл в нужное положение даже в том случае, если первоначально он был установлен не совсем точно.
Неисправный кристалл ИС можно удалить с помощью нагреваемой вакуумной присоски с разогретым наконечником. На место неисправного устанавливается новый кристалл. Далее процесс припайки повторяется.
Вместо шариковых выводов можно использовать балочные выводы, создаваемые методами ФЛ. Для балочных выводов было предложено применять спаи индия с медью, где индий служит временным припоем, обеспечивающим контакт для проведения электрических испытаний. После проведения успешных испытаний вся плата нагревается, и индий, диффундируя в медь, образует сплав, температура плавления которого ~700ºC. Такой спай остается достаточно прочным до температуры – 500-600ºC.
Балочные выводы должны на 200-250 мкм выступать над поверхностью кристаллов, которые монтируются к контактным площадкам платы и помещаются в печь для пайки. После охлаждения прочность соединения испытывается воздушным ударом струи воздуха давлением 2,5·106 Па. Присоединение балочных выводов к контактным площадкам можно производить не только пайкой, но и сваркой. Часто используют ультразвуковую сварку с частотой сигнала 60 кГц, мощностью 2 Вт, длительностью 0,3 с при усилии 1,7 Н.
При сборке методом совмещения возникает ряд технических сложностей. Например, проблемой является точная дозировка энергии, необходимой для осуществления надежного крепления выводов ИС. Недостаточная по значению энергия может привести или к плохому контакту, или к тому, что некоторые выступы останутся вообще не присоединенными к контактным площадкам на плате. Приложение избыточной энергии может наоборот сдавить металлизацию настолько, что зазор исчезнет, вызвав замыкание или же привести к растрескиванию всего полупроводникового кристалла.
Необходимо также, чтобы температурный коэффициент расширения платы ТКР по возможности совпадал с ТКР кремния. При значительном расхождении в значениях ТКР температурные изменения могут вызвать растрескивание кристалла или сдвиг, и даже обрыв контакта, что особенно неблагоприятно для больших гибридных ИС.
Перечень указанных проблем позволяет считать сборку посредством гибких проволочных выводов конкурентоспособной с методами жесткого монтажа.
Метод монтажа совмещением обеспечивает возможность объединения отдельных ИС в сложные подсистемы, которые могут содержать тысячи элементов, заключенных в один корпус.