53 Шлаковый режим. Подробнее о выборе кремниевого модуля SiO2/а12о3.

Имеется оптимальное содержание А1₂О₃ , тк вязкость и тем-ра плавления зависит от содержания А1₂О₃. SiO₂/А1₂О₃=3-5 (А1₂О₃)=8-10% на ммк. Увеличение концентрации А1₂О₃ улучшает десульфурацию согласно зависимости Воскобойникова (см график), тк SiO₂ является кислым по сравнению А1₂О_3.