Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Твердотельная электроника.-3

.pdf
Скачиваний:
225
Добавлен:
05.02.2023
Размер:
3.04 Mб
Скачать

216

Rб Rш

Cш

Рис. 3.8. Эквивалентная схема диода Шоттки

Rб - омическое сопротивление базы. Данный элемент отражает падение напряжения на базе при протекании тока через прибор. Численное значение Rб при простейшей геометрии диода определяется по следующей формуле

R = r

 

W

,

(3.16)

 

б

б S

 

где rб - удельное сопротивление полупроводника n - типа;

W - толщина слоя n - типа;

 

S - площадь контакта.

системы M 2 - n+ мало

Предполагается, что сопротивление

ина величину Rб мало влияет.

Внекоторых учебниках сопротивление Rб обозначают через

Rs и называют сопротивлением растекания. Для точечного контакта сопротивление растекания можно определять по формуле

R = r

 

1

,

(3.17)

 

б

б pа

 

где а - радиус точечного контакта.

Эффект односторонней проводимости диода Шоттки отражен на эквивалентной схеме дифференциальным сопротивле-

нием R . По определению

R =

dU

. Продифференцируем вы-

 

 

ш

ш

dI

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ражение для тока через диод по напряжению

 

dI

=

qIs

exp

qU

.

 

 

(3.18)

 

 

 

 

 

 

dU kT kT

217

 

I = I

 

æ

qU

ö

Тогда, с учетом того, что

s

çexp

 

-1÷ , данное выраже-

kT

 

 

è

ø

ние можно представить как I + Is = Is exp qU и, взяв обратную kT

величину от (3.18), получим

Rш =

kT

 

.

(3.19)

q(I + Is )

 

 

 

Видно, что при прямых включениях диода, когда через него

течет значительный ток, Rш мало, а при обратных -

Rш велико.

Диод Шоттки обладает емкостными свойствами. На эквива-

лентной

схеме емкостные свойства отражены

емкостьюCш .

Cш - это емкость плоского конденсатора, одной из обкладок ко-

торой является металл, а второй (воображаемой) обкладкой является изменяющаяся граница ОПЗ(рис.3.9). Функцию диэлектрика в таком плоском конденсаторе выполняет ОПЗ. Тогда

Cш = ee0 S L

Cш

или с учетом (3.15)

= S

ee0qNд

 

2(jso ±U ).

(3.20)

Ec

М EF

Ev

L

Рисунок 3.9. Структура контакта М-П, поясняющая смысл Сш

Видно, что Cш зависит от концентрации легирующей приме-

си в полупроводнике и приложенного напряжения. При прямых смещениях ширина ОПЗ уменьшается, что вызывает увеличение

 

 

 

218

Cш , а

при

обратных

напряженияхL увеличивается и

Cш уменьшается. Емкость Cш отражает наличие токов смещения на контакте М-П.

~

Полная величина переменного тока через диодI равна

д

сумме переменного тока, связанного с движением зарядов через

~

~

ОПЗ I и тока смещения I см . Таким образом, для протекания переменного тока через диод Шоттки существуют два параллельных канала: через Rш и Cш . Причем и сопротивление Rш и

емкость Cш зависят от величины и полярности подаваемого на диод напряжения. При обратном смещении диода Rш резко воз-

растает, и основная часть переменного тока протекает через Cш , а эквивалентную схему для переменного сигнала можно представить как последовательное соединение сопротивленияRб и

емкости Cш .

Модель диода Шоттки. Для автоматизированного моделирования и расчета электронных схем с использованием диода Шоттки используется модель диода в системе"Самрис". Любая модель предполагает совокупность схемы замещения прибора и набор математических выражений. Обычно в качестве схемы замещения используются физические эквивалентные схемы. Такие модели относятся к числу электрических функциональных моделей.

Iш = Cш dU + Uш + Iш' dt Rш

(3.21)

Iш' = Is æçexp dUm -1ö÷ è mkT ø

 

 

 

 

 

 

 

 

 

219

 

æ

 

Uш

ö-

1

 

 

 

2

 

Cш

o ç

 

÷

 

 

 

o

 

 

= Cш ç1 +

÷

(3.21)

 

è

 

js

ø

C o

= S

 

ee0qNб

 

 

 

 

 

ш

 

 

 

2jso

 

 

 

 

W Rб = rб S

U Б = Iш Rб

где m - коэффициент неидеальности диода Шоттки. Определяется экспериментально.

Таким образом, схема замещения (рис.3.10) и система уравнений (3.21) представляют собой модель диода Шоттки.

Iш

I ш/ VD

Rб

Cш

Rш

Uб Uш

U

Рис. 3.10. Схема замещения для модели диода Шоттки

3.7. Эффект Шоттки

Эффект Шоттки - это понижение высоты потенциального барьера Шоттки jб на контакте М-П, возникающее из-за нали-

чия сильного электрического поля и сил зеркального изображения.

Сущность эффекта проще всего рассмотреть на примере контакта металл-вакуум, а затем применить полученные выводы для контакта М-П, заменив в выражениях диэлектрическую проницаемость вакуума e = 1на диэлектрическую проницаемость полупроводника. Изначально на контакте металл-вакуум

220

существует прямоугольный потенциальный барьерjб . Из-за наличия электрического поля у поверхности металла прямоугольный барьер OAB превращается в треугольный OAC . Учет сил зеркального изображения (при выходе электрона из металла в вакуум в металле на таком же расстоянии от поверхности образуется его зеркальное изображение, т.е. положительный заряд), определяемый законом Кулона, преобразует прямоугольный барьер OAB к виду ODB (рис.3.11).

Совместное действие сил электрического поля и учет сил зеркального изображения приводит к тому, что прямоугольный барьер OAB превращается в колоколообразный OFC . В данном случае для выхода электрона из металла в вакуум необходимо преодолеть барьер не jб , а jб - Djб .

Оценим величину Djб .

jб = [jзи (x )+jE

(x )]= -

 

 

 

q2

 

 

- qEx .

(3.22)

16pee

0 x

 

 

 

 

 

 

 

 

Djб = 2qExm

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

А

 

xm

 

 

Вакуум

В

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Djб

 

 

 

 

D

j

зи

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

jб

 

 

 

 

F

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

C

 

М

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

jE

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

+- e

Рис. 3.11. Контакт металла с вакуумом

jб - высота прямоугольного барьера; Djб - понижение высоты барьера j ;

jзи - потенциальный барьер с учетом сил зеркального изображения;

jЕ - потенциальный барьер с учетом сил электрического поля

221

Необходимо найти x из условия, что при x

= x

 

djб

= 0 .

 

 

 

 

 

 

 

m

 

 

 

 

m

 

dx

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

djб

 

Тогда,

 

диффернцируя (3.22) и приравнивая

= 0 , получим

dx

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

xm =

 

q

 

 

 

 

 

 

 

 

(3.23)

 

16pee0 E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

и Dj

б = 2Exm

=

 

q3 E

 

.

 

 

(3.24)

 

4pee

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Значение напряженности поля E не является постоянным и зависит от x . Однако, учитывая, что значение xm невелико,

можно взять значение E постоянным, равным максимальной напряженности на контакте М-П, т.е. при x = 0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

.

 

E

=

qNд

L =

qNд

 

 

 

 

2ee0 (jso

±U )

=

 

2qNд (jso ±U )

 

(3.25)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(x =0)

 

 

ee0

 

ee0

 

 

qNд

 

 

 

 

 

 

 

 

ee0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Выражение для Djб будет иметь вид

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Djб = bш (jso ±U )1/ 4 ,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(3.26)

 

 

é

 

 

q3 N

д

ù1/ 4

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где bш

= ê

 

 

 

 

 

 

ú .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ê8p 2 (ee

0

3)ú

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ë

 

 

 

 

 

û

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

С учетом эффекта Шоттки ВАХ имеет вид

 

 

 

 

 

 

* 2

æ

 

j

 

 

- Dj

ö

æ

 

 

qU

ö

 

 

 

 

 

 

 

б

 

 

 

 

 

 

 

 

J =

 

A T

expç

-

 

 

 

 

 

 

б

÷

×çexp kT

-1÷

(3.27)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

è

 

 

 

 

 

 

 

kT

ø

ç

 

 

 

÷

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

è

 

 

 

ø

 

 

 

 

При прямом смещении, когда U ³ 2,3kT / q

 

 

 

 

 

 

* 2

æ

 

 

jб

ö

æU + Djб

ö

 

 

 

 

j =

A T

expç

 

-

 

 

 

 

 

 

÷ ×expç

 

 

 

 

 

 

÷ .

 

 

 

(3.28)

 

kT

 

 

kT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

è

 

 

ø

è

 

 

ø

 

 

 

 

С

увеличением

 

 

 

 

прямого

напряженияDjб = bш (jso -U )1/ 4

уменьшается и рост тока с напряжением происходит медленнее, чем дает теория. Это отклонение от теории можно учесть, записав ВАХ в следующем виде

222

*

2

æ

 

j

б

ö

æ qU ö

j = A T

 

expç

-

 

 

÷

×expç

 

÷ ,

 

 

 

 

 

 

è

 

kT ø

è nkT ø

(3.29)

где n - коэффициент неидеальности диода Шоттки. Его опреде-

ляют по углу наклона

,ВАХпостроенной в координатах

ln j = f (U ) как

d (ln j)

=

q

(рис.3.12).

 

nkT

 

dU

 

lnj

lnjs

 

 

 

 

 

 

U

Рис. 3.12. Зависимость ln j от U для диодов Шоттки

Экстраполируя отрезок прямой на рис.3.12 до U = 0 , полу-

чают значение ln js

 

 

 

 

 

ln js = ln(A*T 2 )-

jб

.

(3.30)

 

 

 

 

 

kT

 

Отсюда можно определить высоту барьера jб

æ

A*T 2 ö

 

ç

 

 

÷

 

(3.31)

 

 

 

jб = kT lnç

js

÷ .

 

è

ø

 

Djб = bш (jso +U )-1/ 4 и

При обратном

напряжении, когда

уменьшение барьера Djб существенно, это приводит к росту

тока в обратном направлении. Таким образом, эффект Шоттки проявляется и при прямом, и при обратном напряжениях в изменении тока по сравнению с идеальной ВАХ (рис.3.13).

223

j

2

1

1

U

 

2

Рисунок 3.13. ВАХ идеального диода (1), и с учетом эффекта Шоттки (2)

3.8. Достоинства и недостатки диодов Шоттки

Диоды Шоттки используются для изготовления дискретных приборов СВЧ-диапазона, как импульсные диоды, а также в интегральных схемах. Мощные (силовые) диоды изготавливаются обычно на основе n - кремния и имеют рабочие токи до сотен ампер и очень высокое быстродействие по сравнению с диодами на основе p - n переходов.

Главное достоинство диодов Шотткивысокое быстродействие, что связано с отсутствием эффекта накопления неосновных носителей в базе диода и не требуется времени для их рассасывания, что определяет длительность переходных процессов, а также более низкие рабочие напряжения при прямом смещении, особенно для больших токов.

К недостаткам диодов Шоттки следует отнести низкие -об ратно допустимые напряжения и большие, чем в диодах на основе p - n переходов, обратные токи. Низкие пробивные на-

пряжения связаны с эффектом усиления напряженности электрического поля на краях контакта М-П (рис.3.14). Этот эффект устраняется, если в слое SiO2 окно имеет пологие края(как показано на рис.3.7 а) или применением охранного p - n перехода

(рис.3.15). Более высокие обратные токи обусловлены малой высотой реальных барьеров Шоттки, а также наличием туннелирования сквозь барьер при больших обратных напряжениях.

 

224

n

a)

 

n+

 

Е

 

 

б)

 

Х

Рис. 3.14. Структура диода Шоттки (а) и распределение напряженности электрического поля на контакте (б)

SiO2

р

р

n

n+

Рисунок 3.15. Конструкция диода Шоттки с охранным p-n переходом

3.9. Омические контакты и их параметры

Основное назначение омических переходов - электрическое соединение полупроводника с токопроводящими частями полупроводникового прибора. Омические переходы играют важную роль в работе полупроводниковых, особенно интегральных, приборов, поскольку их число больше, чем выпрямляющих. Теория омических переходов разработана недостаточно хорошо, и поэтому их формирование базируется на экспериментальных данных.

Основные требования, предъявляемые к омическим переходам, следующие:

1) отсутствие инжекции из контакта в полупроводник;

225

2)минимальное падение напряжения на переходе;

3)линейность и симметричность ВАХ;

4)высокая скорость рекомбинации.

Количественно омические переходы характеризуются следующими параметрами.

1. Скорость рекомбинации. Определяется как отношение потока носителей через переход jn к избыточной концентрации носителей у перехода nгр - n0 ( nгр - концентрация носителей у

перехода, n0

- равновесная концентрация) S =

 

j

 

 

.

nгр

 

 

 

- n0

2. Сопротивление омического перехода. Оценивается как отношение падения напряжения на переходеDU к току через переход I .

R = DU . I

Падение напряжения DU определяется как разница между падением потенциала в полупроводнике, измеренное методом зонда и падением напряжения между полупроводником и контактом. Чем меньше сопротивление R , тем лучше переход.

3. Коэффициент выпрямления KB . Определяется как от-

ношение прямого тока через переходI + к обратному I - при равных значениях прикладываемого напряжения.

I +

KB = I - U = const .

Идеальный омический переход соответствует KB = 1 .

4. Коэффициент нелинейности KH . Оценивается как от-

ношение статического сопротивления Rст к дифференциально-

му сопротивлению Rд при заданном токе I .

KH = Rст I = const Rд