Твердотельная электроника.-3
.pdf
216
Rб Rш
Cш
Рис. 3.8. Эквивалентная схема диода Шоттки
Rб - омическое сопротивление базы. Данный элемент отражает падение напряжения на базе при протекании тока через прибор. Численное значение Rб при простейшей геометрии диода определяется по следующей формуле
R = r  | 
	
  | 
	W  | 
	,  | 
	(3.16)  | 
  | 
||||
б  | 
	б S  | 
	
  | 
||
где rб - удельное сопротивление полупроводника n - типа;  | 
||||
W - толщина слоя n - типа;  | 
	
  | 
|||
S - площадь контакта.  | 
	системы M 2 - n+ мало  | 
|||
Предполагается, что сопротивление  | 
||||
ина величину Rб мало влияет.
Внекоторых учебниках сопротивление Rб обозначают через
Rs и называют сопротивлением растекания. Для точечного контакта сопротивление растекания можно определять по формуле
R = r  | 
	
  | 
	1  | 
	,  | 
	(3.17)  | 
  | 
||||
б  | 
	б pа  | 
	
  | 
||
где а - радиус точечного контакта.
Эффект односторонней проводимости диода Шоттки отражен на эквивалентной схеме дифференциальным сопротивле-
нием R . По определению  | 
	R =  | 
	dU  | 
	. Продифференцируем вы-  | 
||||||
  | 
|||||||||
  | 
	ш  | 
	ш  | 
	dI  | 
	
  | 
|||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|
ражение для тока через диод по напряжению  | 
|||||||||
  | 
	dI  | 
	=  | 
	qIs  | 
	exp  | 
	qU  | 
	.  | 
	
  | 
	
  | 
	(3.18)  | 
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||
dU kT kT
217
  | 
	I = I  | 
	
  | 
	æ  | 
	qU  | 
	ö  | 
|
Тогда, с учетом того, что  | 
	s  | 
	çexp  | 
	
  | 
	-1÷ , данное выраже-  | 
||
kT  | 
||||||
  | 
	
  | 
	è  | 
	ø  | 
ние можно представить как I + Is = Is exp qU и, взяв обратную kT
величину от (3.18), получим
Rш =  | 
	kT  | 
	
  | 
	.  | 
	(3.19)  | 
|
q(I + Is )  | 
|||||
  | 
	
  | 
	
  | 
|||
Видно, что при прямых включениях диода, когда через него  | 
|||||
течет значительный ток, Rш мало, а при обратных -  | 
	Rш велико.  | 
||||
Диод Шоттки обладает емкостными свойствами. На эквива-  | 
|||||
лентной  | 
	схеме емкостные свойства отражены  | 
	емкостьюCш .  | 
|||
Cш - это емкость плоского конденсатора, одной из обкладок ко-
торой является металл, а второй (воображаемой) обкладкой является изменяющаяся граница ОПЗ(рис.3.9). Функцию диэлектрика в таком плоском конденсаторе выполняет ОПЗ. Тогда
Cш = ee0 S L
Cш
или с учетом (3.15)
= S  | 
	ee0qNд  | 
	
  | 
2(jso ±U ).  | 
	(3.20)  | 
Ec
М 
 EF
Ev
L
Рисунок 3.9. Структура контакта М-П, поясняющая смысл Сш
Видно, что Cш зависит от концентрации легирующей приме-
си в полупроводнике и приложенного напряжения. При прямых смещениях ширина ОПЗ уменьшается, что вызывает увеличение
  | 
	
  | 
	
  | 
	218  | 
Cш , а  | 
	при  | 
	обратных  | 
	напряженияхL увеличивается и  | 
Cш уменьшается. Емкость Cш отражает наличие токов смещения на контакте М-П.
~
Полная величина переменного тока через диодI равна
д
сумме переменного тока, связанного с движением зарядов через
~  | 
	~  | 
ОПЗ I и тока смещения I см . Таким образом, для протекания переменного тока через диод Шоттки существуют два параллельных канала: через Rш и Cш . Причем и сопротивление Rш и
емкость Cш зависят от величины и полярности подаваемого на диод напряжения. При обратном смещении диода Rш резко воз-
растает, и основная часть переменного тока протекает через Cш , а эквивалентную схему для переменного сигнала можно представить как последовательное соединение сопротивленияRб и
емкости Cш .
Модель диода Шоттки. Для автоматизированного моделирования и расчета электронных схем с использованием диода Шоттки используется модель диода в системе"Самрис". Любая модель предполагает совокупность схемы замещения прибора и набор математических выражений. Обычно в качестве схемы замещения используются физические эквивалентные схемы. Такие модели относятся к числу электрических функциональных моделей.
Iш = Cш dU + Uш + Iш' dt Rш
(3.21)
Iш' = Is æçexp dUm -1ö÷ è mkT ø
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	219  | 
|
  | 
	æ  | 
	
  | 
	Uш  | 
	ö-  | 
	1  | 
	
  | 
||||
  | 
	
  | 
	2  | 
	
  | 
|||||||
Cш  | 
	o ç  | 
	
  | 
	÷  | 
	
  | 
	
  | 
|||||
  | 
	o  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||
= Cш ç1 +  | 
	÷  | 
	(3.21)  | 
||||||||
  | 
	è  | 
	
  | 
	js  | 
	ø  | 
||||||
C o  | 
	= S  | 
	
  | 
	ee0qNб  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||
ш  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	2jso  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||
W Rб = rб S
U Б = Iш Rб
где m - коэффициент неидеальности диода Шоттки. Определяется экспериментально.
Таким образом, схема замещения (рис.3.10) и система уравнений (3.21) представляют собой модель диода Шоттки.
Iш  | 
	I ш/ VD  | 
Rб  | 
Cш
Rш  | 
Uб Uш
U
Рис. 3.10. Схема замещения для модели диода Шоттки
3.7. Эффект Шоттки
Эффект Шоттки - это понижение высоты потенциального барьера Шоттки jб на контакте М-П, возникающее из-за нали-
чия сильного электрического поля и сил зеркального изображения.
Сущность эффекта проще всего рассмотреть на примере контакта металл-вакуум, а затем применить полученные выводы для контакта М-П, заменив в выражениях диэлектрическую проницаемость вакуума e = 1на диэлектрическую проницаемость полупроводника. Изначально на контакте металл-вакуум
220
существует прямоугольный потенциальный барьерjб . Из-за наличия электрического поля у поверхности металла прямоугольный барьер OAB превращается в треугольный OAC . Учет сил зеркального изображения (при выходе электрона из металла в вакуум в металле на таком же расстоянии от поверхности образуется его зеркальное изображение, т.е. положительный заряд), определяемый законом Кулона, преобразует прямоугольный барьер OAB к виду ODB (рис.3.11).
Совместное действие сил электрического поля и учет сил зеркального изображения приводит к тому, что прямоугольный барьер OAB превращается в колоколообразный OFC . В данном случае для выхода электрона из металла в вакуум необходимо преодолеть барьер не jб , а jб - Djб .
Оценим величину Djб .
jб = [jзи (x )+jE  | 
	(x )]= -  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	q2  | 
	
  | 
	
  | 
	- qEx .  | 
	(3.22)  | 
|||||
16pee  | 
	0 x  | 
|||||||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||
Djб = 2qExm  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||
  | 
	
  | 
	
  | 
	А  | 
	
  | 
	xm  | 
	
  | 
	
  | 
	Вакуум  | 
	В  | 
|||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||
  | 
	Djб  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	D  | 
	j  | 
	зи  | 
||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||
jб  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	F  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	C  | 
	
  | 
|
М  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	0  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	jE  | 
	
  | 
||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||
+- e
Рис. 3.11. Контакт металла с вакуумом
jб - высота прямоугольного барьера; Djб - понижение высоты барьера j ;
jзи - потенциальный барьер с учетом сил зеркального изображения;
jЕ - потенциальный барьер с учетом сил электрического поля
221
Необходимо найти x из условия, что при x  | 
	= x  | 
	
  | 
	djб  | 
	= 0 .  | 
||||||||||
  | 
	
  | 
|||||||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	m  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	m  | 
	
  | 
	dx  | 
||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	djб  | 
	
  | 
|||
Тогда,  | 
	
  | 
	диффернцируя (3.22) и приравнивая  | 
	= 0 , получим  | 
|||||||||||
dx  | 
||||||||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|
xm =  | 
	
  | 
	q  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	(3.23)  | 
|||
  | 
	16pee0 E  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|
и Dj  | 
	б = 2Exm  | 
	=  | 
	
  | 
	q3 E  | 
	
  | 
	.  | 
	
  | 
	
  | 
	(3.24)  | 
|||||
  | 
	4pee  | 
	0  | 
	
  | 
	
  | 
||||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||
Значение напряженности поля E не является постоянным и зависит от x . Однако, учитывая, что значение xm невелико,
можно взять значение E постоянным, равным максимальной напряженности на контакте М-П, т.е. при x = 0
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	.  | 
	
  | 
||||||||
E  | 
	=  | 
	qNд  | 
	L =  | 
	qNд  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	2ee0 (jso  | 
	±U )  | 
	=  | 
	
  | 
	2qNд (jso ±U )  | 
	
  | 
	(3.25)  | 
||||||||||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||||||||||||||||
(x =0)  | 
	
  | 
	
  | 
	ee0  | 
	
  | 
	ee0  | 
	
  | 
	
  | 
	qNд  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	ee0  | 
	
  | 
|||||||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||||||||||||
Выражение для Djб будет иметь вид  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||||||||||||||||||||
Djб = bш (jso ±U )1/ 4 ,  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	(3.26)  | 
||||||||||||||||
  | 
	
  | 
	é  | 
	
  | 
	
  | 
	q3 N  | 
	д  | 
	ù1/ 4  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||||
где bш  | 
	= ê  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	ú .  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	ê8p 2 (ee  | 
	0  | 
	3)ú  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||||
  | 
	
  | 
	ë  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	û  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||||
С учетом эффекта Шоттки ВАХ имеет вид  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||||||||||||||||||||||
  | 
	
  | 
	* 2  | 
	æ  | 
	
  | 
	j  | 
	
  | 
	
  | 
	- Dj  | 
	ö  | 
	æ  | 
	
  | 
	
  | 
	qU  | 
	ö  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	б  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||||||||||||||||||
J =  | 
	
  | 
	A T  | 
	expç  | 
	-  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	б  | 
	÷  | 
	×çexp kT  | 
	-1÷  | 
	(3.27)  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||||||||||||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	è  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	kT  | 
	ø  | 
	ç  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	÷  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	è  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	ø  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||||||||
При прямом смещении, когда U ³ 2,3kT / q  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|||||||||||||||||||||||||||
  | 
	
  | 
	* 2  | 
	æ  | 
	
  | 
	
  | 
	jб  | 
	ö  | 
	æU + Djб  | 
	ö  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||||||||||||||||
j =  | 
	A T  | 
	expç  | 
	
  | 
	-  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	÷ ×expç  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	÷ .  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	(3.28)  | 
|||||||||
  | 
	kT  | 
	
  | 
	
  | 
	kT  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||||||||||||||||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	è  | 
	
  | 
	
  | 
	ø  | 
	è  | 
	
  | 
	
  | 
	ø  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||||||||||||
С  | 
	увеличением  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	прямого  | 
	напряженияDjб = bш (jso -U )1/ 4  | 
||||||||||||||||||||||||
уменьшается и рост тока с напряжением происходит медленнее, чем дает теория. Это отклонение от теории можно учесть, записав ВАХ в следующем виде
222
*  | 
	2  | 
	æ  | 
	
  | 
	j  | 
	б  | 
	ö  | 
	æ qU ö  | 
||
j = A T  | 
	
  | 
	expç  | 
	-  | 
	
  | 
	
  | 
	÷  | 
	×expç  | 
	
  | 
	÷ ,  | 
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
||||||
  | 
	
  | 
	è  | 
	
  | 
	kT ø  | 
	è nkT ø  | 
||||
(3.29)
где n - коэффициент неидеальности диода Шоттки. Его опреде-
ляют по углу наклона  | 
	,ВАХпостроенной в координатах  | 
|||
ln j = f (U ) как  | 
	d (ln j)  | 
	=  | 
	q  | 
	(рис.3.12).  | 
  | 
	nkT  | 
|||
  | 
	dU  | 
	
  | 
||
lnj
lnjs
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	U  | 
Рис. 3.12. Зависимость ln j от U для диодов Шоттки  | 
||||||
Экстраполируя отрезок прямой на рис.3.12 до U = 0 , полу-  | 
||||||
чают значение ln js  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
|
ln js = ln(A*T 2 )-  | 
	jб  | 
	.  | 
	(3.30)  | 
|||
  | 
||||||
  | 
	
  | 
	
  | 
	
  | 
	kT  | 
	
  | 
|
Отсюда можно определить высоту барьера jб  | 
||||||
æ  | 
	A*T 2 ö  | 
	
  | 
||||
ç  | 
	
  | 
	
  | 
	÷  | 
	
  | 
	(3.31)  | 
|
  | 
	
  | 
	
  | 
||||
jб = kT lnç  | 
	js  | 
	÷ .  | 
	
  | 
|||
è  | 
	ø  | 
	
  | 
	Djб = bш (jso +U )-1/ 4 и  | 
|||
При обратном  | 
	напряжении, когда  | 
|||||
уменьшение барьера Djб существенно, это приводит к росту
тока в обратном направлении. Таким образом, эффект Шоттки проявляется и при прямом, и при обратном напряжениях в изменении тока по сравнению с идеальной ВАХ (рис.3.13).
223
j
2
1
1  | 
	U  | 
  | 
	2  | 
Рисунок 3.13. ВАХ идеального диода (1), и с учетом эффекта Шоттки (2)
3.8. Достоинства и недостатки диодов Шоттки
Диоды Шоттки используются для изготовления дискретных приборов СВЧ-диапазона, как импульсные диоды, а также в интегральных схемах. Мощные (силовые) диоды изготавливаются обычно на основе n - кремния и имеют рабочие токи до сотен ампер и очень высокое быстродействие по сравнению с диодами на основе p - n переходов.
Главное достоинство диодов Шотткивысокое быстродействие, что связано с отсутствием эффекта накопления неосновных носителей в базе диода и не требуется времени для их рассасывания, что определяет длительность переходных процессов, а также более низкие рабочие напряжения при прямом смещении, особенно для больших токов.
К недостаткам диодов Шоттки следует отнести низкие -об ратно допустимые напряжения и большие, чем в диодах на основе p - n переходов, обратные токи. Низкие пробивные на-
пряжения связаны с эффектом усиления напряженности электрического поля на краях контакта М-П (рис.3.14). Этот эффект устраняется, если в слое SiO2 окно имеет пологие края(как показано на рис.3.7 а) или применением охранного p - n перехода
(рис.3.15). Более высокие обратные токи обусловлены малой высотой реальных барьеров Шоттки, а также наличием туннелирования сквозь барьер при больших обратных напряжениях.
  | 
	224  | 
n  | 
	a)  | 
  | 
|
n+  | 
	
  | 
Е  | 
	
  | 
  | 
	б)  | 
  | 
	Х  | 
Рис. 3.14. Структура диода Шоттки (а) и распределение напряженности электрического поля на контакте (б)
SiO2
р  | 
	р  | 
n
n+
Рисунок 3.15. Конструкция диода Шоттки с охранным p-n переходом
3.9. Омические контакты и их параметры
Основное назначение омических переходов - электрическое соединение полупроводника с токопроводящими частями полупроводникового прибора. Омические переходы играют важную роль в работе полупроводниковых, особенно интегральных, приборов, поскольку их число больше, чем выпрямляющих. Теория омических переходов разработана недостаточно хорошо, и поэтому их формирование базируется на экспериментальных данных.
Основные требования, предъявляемые к омическим переходам, следующие:
1) отсутствие инжекции из контакта в полупроводник;
225
2)минимальное падение напряжения на переходе;
3)линейность и симметричность ВАХ;
4)высокая скорость рекомбинации.
Количественно омические переходы характеризуются следующими параметрами.
1. Скорость рекомбинации. Определяется как отношение потока носителей через переход jn к избыточной концентрации носителей у перехода nгр - n0 ( nгр - концентрация носителей у
перехода, n0  | 
	- равновесная концентрация) S =  | 
	
  | 
	j  | 
|
  | 
	
  | 
	.  | 
||
nгр  | 
	
  | 
|||
  | 
	
  | 
	- n0  | 
||
2. Сопротивление омического перехода. Оценивается как отношение падения напряжения на переходеDU к току через переход I .
R = DU . I
Падение напряжения DU определяется как разница между падением потенциала в полупроводнике, измеренное методом зонда и падением напряжения между полупроводником и контактом. Чем меньше сопротивление R , тем лучше переход.
3. Коэффициент выпрямления KB . Определяется как от-
ношение прямого тока через переходI + к обратному I - при равных значениях прикладываемого напряжения.
I +
KB = I - U = const .
Идеальный омический переход соответствует KB = 1 .
4. Коэффициент нелинейности KH . Оценивается как от-
ношение статического сопротивления Rст к дифференциально-
му сопротивлению Rд при заданном токе I .
KH = Rст I = const Rд
