
- •Введение
- •1. Основы металловедения
- •1.1. Кристаллические решетки металлов
- •1.2. Реальное строение металлических кристаллов
- •1.3. Анизотропия кристаллов
- •1.4. Кристаллизация металлов
- •1.5. Аллотропия (полиморфизм) металлов
- •1.6. Основы теории сплавов
- •1.6.1. Кристаллическое строение сплавов
- •1.6.2. Особенности кристаллизации сплавов
- •1.6.3. Диаграммы состояния двойных сплавов
- •1.6.4. Свойства металлов и сплавов
- •1.7. Железо и его сплавы
- •1.7.1. Фазы в железоуглеродистых сплавах
- •1.7.2. Диаграмма состояния железо — цементит
- •1.7.3. Применение диаграммы Fe—Fe3c
- •1.7.4. Основные виды термической обработки стали
- •1.7.5. Классификация углеродистых сталей
- •1.7.6. Стали обыкновенного качества
- •1.7.7. Углеродистые качественные стали
- •1.7.8. Автоматные стали
- •1.7.9. Углеродистые инструментальные стали
- •1.7.10. Легированные стали
- •1.7.11. Классификация легированных сталей
- •1.7.12. Маркировка легированных сталей
- •1.7.13. Чугуны
- •1.8. Цветные металлы и сплавы
- •2.2. Сплавы с заданным температурным коэффициентом модуля упругости
- •3. Материалы с особыми физическими свойствами
- •3.1. Материалы с особыми магнитными свойствами
- •3.1.1. Общие сведения о ферромагнетиках
- •3.1.2. Магнитно-мягкие материалы
- •3.1.3. Магнитно-твердые материалы
- •4. Полупроводниковые материалы
- •5. Диэлектрики
- •6. Проводниковые материалы
- •6.1. Электропроводность твердых тел
- •6.2. Металлы высокой проводимости
- •6.3. Припои
- •6.4. Сверхпроводники
- •6.5. Сплавы повышенного электросопротивления
- •Рассмотрим характеристики некоторых сплавов повышенного электросопротивления.
- •6.6. Контактные материалы
- •7. Неметаллические материалы
- •7.1. Пластмассы
- •7.1.1. Классификация пластмасс
- •7.1.2. Термопластичные пластмассы
- •7.1.3. Полярные термопласты
- •7.1.4. Термореактивные пластмассы
- •7.1.5. Пластмассы с порошковыми наполнителями
- •7.1.6. Газонаполненные пластмассы
- •7.2. Резины
- •7.3. Клеи
- •7.4. Неорганическое стекло
- •7.5. Ситаллы (стеклокристаллические материалы)
- •7.6. Керамические материалы
- •394026 Воронеж, Московский просп., 14
4. Полупроводниковые материалы
К полупроводниковым относятся материалы, обладающие удельным электросопротивлением в пределах от 10-3 до 10+1° Ом∙см. К этим материалам относятся 12 элементов, представляющие простые полупроводники, а также многие химические соединения элементов различных групп периодической таблицы Д.И. Менделеева. Из простых полупроводников наиболее распространены германий (Ge) и кремний (Si).
Германий и кремний — элементы IV группы, имеют кристаллическую решетку алмаза с ковалентным типом межатомной связи. В такой решетке атом, расположенный в центре правильного тетраэдра, имеет четырех соседей, с которыми он вступает в ковалентную связь, достраивая свою валентную зону до восьми электронов. В результате каждый валентный электрон становится «общим» для двух атомов и валентная зона каждого атома оказывается заполненной.
Появление электрического тока в полупроводнике возможно лишь тогда, когда часть электронов покидает заполненную валентную зону и переходит в зону проводимости, где они становятся носителями электрического тока. Для перехода из одной зоны в другую электроны должны пройти зону запрещенных энергий, для чего необходима определенная энергия, которую полупроводник может получить в виде света или теплоты. При нагреве увеличивается концентрация носителей электрического тока и электросопротивление полупроводника уменьшается.
Чем больше ширина запрещенной зоны, тем выше должен быть нагрев полупроводника для разрушения ковалентных связей и образования носителей тока. Так, у кремния эта величина существенно выше, чем у германия, поэтому при нагреве кремний сохраняет высокие постоянные значения электросопротивления до больших температур, что позволяет использовать кремниевые приборы для работы при более высоких температурах, чем германиевые.
В кристаллах с ковалентной связью проводимость электрического тока может осуществляться как путем перемещения электронов (электронная - n проводимость), так и путем перемещения «дырок» (дырочная - p проводимость). Вследствие большой подвижности электронов в «идеальных» кристаллах химически чистого полупроводника электронная проводимость превалирует. В реальных кристаллах химически чистых германия и кремния может превалировать дырочная проводимость из-за неизбежных дефектов в упаковке атомов (дислокации, вакансии, границы зерен, блоков и т. д.). Проводимость, обусловленная нарушением ковалентных связей в химически чистом полупроводнике, называется собственной проводимостью. Однако получить химически чистые элементы весьма сложно. Вследствие этого, полупроводники всегда содержат примеси, которые меняют характер и величину проводимости. Электропроводность, обусловленная присутствием примесей в полупроводнике, называется примесной.
Примеси элементов V группы в германии и кремнии вызывают преобладание электронной проводимости, так как отдают в валентную зону кристалла полупроводника четыре электрона, а пятый становится носителем электрического тока. Такие примеси называют донорными. Для германия ими являются мышьяк и сурьма, а для кремния - фосфор и мышьяк. Полупроводники, в которых преобладают донорные примеси, называются электронными или n-типа.
Примеси элементов III группы вызывают преобладание дырочной проводимости, так как отдают в валентную зону кристалла полупроводника только три электрона. В кристалле образуются незаполненные связи – "дырки", что вызывает ряд последовательных перемещений соседних электронов. В результате дырка перемещается подобно положительному заряду. Такие примеси называют акцепторными. Для германия ими служат: галлий и индий, для кремния - бор и алюминий. Полупроводники с преобладанием акцепторных примесей называются дырочными или р-типа.
Примеси резко изменяют собственную проводимость полупроводника. Ширина запрещенной зоны у примесей меньше, чем у полупроводников, и поэтому уже при комнатной температуре практически все атомы примесей ионизированы. В результате этого концентрация примесных носителей электрического тока обычно выше концентрации собственных носителей. Даже при относительно невысоком содержании примесей концентрация носителей, а, следовательно, проводимость может так возрасти, что полупроводник превратится в проводник. При содержании 1014 атомов примесей в 1 см3 полупроводника, что составляет всего 10-7 % примеси, собственное удельное электросопротивление германия 50 Ом∙см снижается до 15 Ом∙см. В кремнии при том же содержании примесей оно снижается от 100 тыс. Ом∙см до 100 Ом∙см.
Помимо концентрации носителей электрического тока, большое влияние на проводимость оказывает их подвижность. Для германия подвижность электронов и дырок при 20 °С соответственно равна: 3800 и 1800 см2/В∙с. Наличие различного рода дефектов кристаллической решетки, примесей и тепловых колебаний атомов вызывает рассеяние носителей, снижая тем самым их подвижность. Все это вызывает неконтролируемые изменения проводимости полупроводника и может быть частично устранено применением монокристаллов, в которых дефекты кристаллической структуры значительно уменьшены.
Важной характеристикой полупроводников является также время жизни носителей электрического тока. В полупроводнике одновременно с процессом возникновения "свободных" электронов и дырок идет обратный процесс рекомбинации, в результате которого электроны из зоны проводимости вновь возвращаются в валентную зону, ликвидируя дырки. В результате концентрация носителей уменьшится. При данной температуре между этими двумя процессами устанавливается равновесие. Среднее время, в течение которого "живет" носитель до своей рекомбинации, называют временем жизни. Его оценивают расстоянием, которое успеет за это время пройти носитель, диффузионной длиной, выражаемой в мм. Некоторые примеси и дефекты уменьшают время жизни носителей электрического тока и тем самым ухудшают работу прибора. Для хорошей работы полупроводникового прибора время жизни носителей должно быть не меньше, чем 10-5 с.
Таким образом, к основным характеристикам полупроводниковых материалов относятся электросопротивление, которое зависит от концентрации и подвижности носителей электрического тока, а также время жизни носителей электрического тока. Каждая из этих характеристик зависит от природы и количества примесей, а также от наличия дефектов кристаллической структуры.
Все сказанное объясняет необходимость получения монокристаллического германия и кремния высокой степени чистоты и совершенной кристаллической структуры с последующим легированием в строго контролируемых микродозах.
Кроме химически чистых элементов, в полупроводниковой технике находят применение сложные полупроводниковые соединения. Это промежуточные фазы элементов разных групп периодической таблицы: соединения элементов четвертой группы AIVBIV; третьей и пятой группы AIIIBV, а также второй и шестой группы AIIBVI.
Основной представитель соединения типа AIVBIV — карбид кремния SiC. В гексагональной кристаллической решетке карбида кремния, как и в кубической решетке алмаза, каждый атом кремния (или углерода) имеет четырех соседей (тетраэдрическое окружение), с которыми он вступает в ковалентную связь. Атомы углерода занимают тетра-эдрические поры. В результате межатомного взаимодействия валентные электроны объединяются, также как в германии и кремнии. Карбид кремния является фазой определенного стехиометрического состава, поэтому проводимость ее создают точечные дефекты структуры, частичная разупорядоченность атомов в кристаллической решетке или примеси. Примеси III и II групп относятся к акцепторным, а примеси V и IV групп — к донорным.
Полупроводниковые фазы типа AIIIBV определенного стехиометрического состава не являются чисто ковалентными кристаллами, так как из-за различия в валентности элементов в них наряду с ковалентными возникают и ионные связи. Кристаллографическая решетка таких соединений аналогична решетке алмаза. Атомы соединения находятся в тетраэдрическом окружении, т. е. каждый атом А окружен четырьмя атомами В (К = 4).
Из соединений типа AIIIBV применяются соединения с сурьмой (антимониды), например InSb и соединения с мышьяком (арсениды), например GaAs. Фаза InSb также, как и фаза GaAs, имеет определенный химический состав, поэтому неосновные носители электрического тока возникают из-за примесей, точечных дефектов и разупорядоченности. Примеси III и V групп мало влияют на проводимость. Примеси II группы являются акцепторными, VI - донорными. Элементы IV группы в тех случаях, когда они замещают атомы А - доноры и акцепторы, если замещают атомы В.
Применение находят также соединения типа AIIBVI. К ним относятся сульфиды (соединения с серой) и окислы (соединения с кислородом). В таких соединениях преобладает ионный тип связи. Кроме того, такие соединения в отличие от предыдущих, имеют переменный химический состав. На их основе образуются твердые растворы с избытком элемента А или В.
В связи с большим различием в радиусах металлического (положительного) иона А и неметаллического (отрицательного) иона В в первом случае образуется твердый раствор внедрения иона А в соединении AIIBVI. При этом ион элемента А располагается в между-узлиях кристаллической решетки (например, окислы ZnO и А12О3). В некоторых окислах ZrO2, αFe2O3, TiO3 избыток металлических атомов создается за счет вакансий в узлах, где должны быть ионы кислорода, т.е. образуется твердый раствор вычитания. Избыток металлических атомов в соединении создает электронную проводимость.
При избытке ионов В вследствие их большого радиуса внедрения происходить не может, поэтому образуется твердый раствор вычитания, т. е. раствор с дефектной кристаллической решеткой, имеющий вакантные узлы, не занятые ионами металла, которых в соединении не хватает (например, окислы Сu2О и FeO). В результате избытка неметаллических атомов В соединение приобретает дырочную проводимость.
В соединении типа AIIBVI преобладание электронной или дырочной проводимости можно получить изменением состава соединения путем нагрева кристаллов в парах одного из элементов.
Многие полупроводниковые соединения имеют большое значение ширины запрещенной зоны, что позволяет использовать их в приборах при более высоких температурах нагрева.