МЭТ лабораторные / МЭТ_2 лаб_отчёт
.docxМИНОБРНАУКИ РОССИИ
Санкт-Петербургский государственный
электротехнический университет
«ЛЭТИ» им. В. И. Ульянова (Ленина)
Кафедра МНЭ
отчёт
по лабораторной работе №2
по дисциплине «Материалы электронной техники»
Тема: Исследование электрических свойств
полупроводниковых материалов
Студентка гр. 9283 |
|
Зикратова А.А. |
Преподаватель |
|
Кузнецова М. А. |
Санкт-Петербург
2020
Экспериментальные результаты.
Обработка результатов эксперимента.
Рассчитать удельное сопротивление исследуемых полупроводниковых материалов для каждой температурной точки и соответствующие удельные проводимости образцов.
Пример расчёта для Si при T = 298 К:
ρ = = ‧ 10-4 Ом ‧ м = 7,294 ‧ 10-4 Ом ‧ м;
γэксп = = См / м ≈ 1371 См / м;
2) По данным табл. 2 построить температурные зависимости удельной проводимости полупроводников, откладывая по оси абсцисс параметр T−1, а по оси ординат – значения ln γэксп,. Графики ln γ=f(T−1) для всех исследованных полупроводниковых материалов привести на одном рисунке.
3 - 4) По данным табл. 3, рассчитать концентрации собственных носителей заряда в полупроводниках Si, Ge, InSb и SiC. Оценить значения собственной удельной проводимости в этих полупроводниках при T = 300 К.
Пример расчёта для Si:
= ‧ exp ( ) м3 ≈ 1,6962 ‧ 1025 ‧ exp (-21,7) м3 ≈ 6,63 ‧ 1015 м3.
γi = q ‧ n ‧ (μn + μp) = 1,6 ‧ 10-19 ‧ 6,63 ‧ 1015 ‧ (0,13 + 0,05) См / м ≈ 1,91 ‧ 10-4 См/м
5) Сравнивания полученные в результате расчетов значения γi со своими экспериментальными данными γэксп (табл. 2), решить, какие же носители (собственные или примесные) определяют электрическую проводимость исследуемых образцов в интервале температур от Tmin = 300 К до Тmax – максимальной температуры измерений.
Сравнивая данные из таблицы 1 и таблицы из п. 3 – 4:
Si: γэксп >> γi – примесная проводимость
Ge: γэксп ≈ γi – собственная проводимость
SiC: γэксп >> γi – примесная проводимость
InSb: γэксп ≈ γi – собственная проводимость
Если ∆Эпр <<kTmax, то примеси в полупроводнике с большой вероятностью ионизированы: nпр ≈ Nпр. По значению γэксп следует определить всю концентрацию этих примесей.
|
kTmax, эВ |
∆Эпр, эВ |
м-3 |
Si |
0,032141 |
0,01…0,02 |
4,76E+22 |
SiC |
0,04…0,40 |
не все примеси иониз. |
Для Si при T = 298 К:
nпр = = м-3 ≈ 4,76 ‧ 1022 м-3.
6) Если в полупроводнике не все примеси ионизированы, то по наклону кривой можно найти ∆Эпр.
Для SiC:
= = м-3 ≈ 2,6 ‧ 1020 м-3
ΔЭпр = = 2 ‧ 8,62 ‧ 10-5 ‧ ( ) ≈ 4,22 ‧ 10-1 эВ
|
T1, К |
T2, К |
n(T2), м-3 |
n(T1), м-3 |
∆Эпр, эВ |
SiC |
313 |
318 |
2,60E+20 |
2,30E+20 |
4,22E-01 |
7) Для полупроводников, у которых γэксп ≈ γi, определить ∆Э.
Пример расчёта для Ge:
n(T1) = = м-3 ≈ 5,2 ‧ 1021 м-3
ΔЭ = = 2 ‧ 8,62 ‧ 10-5 ‧ ) ≈ 1,56 ‧ 10-1 эВ
|
T1, К |
T2, К |
n(T2), м-3 |
n(T1), м-3 |
∆Эпр, эВ |
Ge |
308 |
313 |
5,1807E+21 |
5,2996E+21 |
1,56E-01 |
InSb |
303 |
313 |
2,79455E+21 |
2,60213E+21 |
3,70E-02 |
8) Рассчитать значение n эксп для Ge и InSb.
Пример расчёта для InSb при T = 358 К:
nэксп = = м-3 ≈ 3,87 ‧ 1021 м-3
T = 358 К |
γэксп, См / м |
q, Кл |
μn, м2 / (В ‧ с) |
μp, м2 / (В ‧ с) |
nэксп, м-3 |
Ge |
4,55E+02 |
1,6E-19 |
0,39 |
0,19 |
4,90E+21 |
InSb |
4,88E+03 |
7,8 |
0,075 |
3,87E+21 |
9) Для каждого из материалов на построенных зависимостях .определить температурные диапазоны реализации участков:
ионизации примеси;
истощения примеси;
собственной электропроводности
а) Si:
T = 298 373 К - ионизация примеси;
б) Ge:
T = 298 333 К - ионизация примеси;
T = 333 338 К - истощение примеси;
T = 338 373 - собственная электропроводность;
в) SiC:
T = 298 373 К – уч-к истощения примеси;
г) InSb:
T = 298 318 К - ионизация примеси;
T = 318 323 К - истощение примеси;
T = 323 373 К - собственная электропроводность;
Вывод:
в ходе работы были исследованы электрические свойства полупроводниковых материалов. Установлена температурная зависимость удельного сопротивления. Для Ge и InSb найдена энергия ионизации примесей.