- •Характерные отличительные свойства полупроводников и общее представление о природе этих свойств Феноменологические отличия
- •Фундаментальное физическое отличие между кристаллическими полупроводниками и металлами
- •Основные типы современных полупроводниковых приборных структур
- •Биполярные транзисторы Краткое введение: определение, история, применения
- •Структура и основные режимы работы
- •Распределение стационарных потоков носителей заряда
- •Полевые транзисторы Краткое введение: определение, история, изготовление, применения
- •Основные преимущества
Биполярные транзисторы Краткое введение: определение, история, применения
Примечание: в строке 5 первого абзаца сверху вместо «До 1974 г…..» следует читать: «До 1947 г….».
Структура и основные режимы работы
рисунках 17 а, б и 18 а, б. На рисунке 17 в схематически показана одна из структур реального биполярного транзистора (1 - эмиттер, 2 - коллектор, 3 – электрод к базовой области, 4 – активная, 5 – пассивная, 6 – периферийная части базы). Кроме того, на рисунке 18 показаны условные схемотехнические обозначения транзистора p-n-p (a) и n-p-n (б) типа.
в)
Рисунок 17
Рисунок 18
(Рис. 17 в).
Рисунок 19
.
Рисунок 20
:
Распределение стационарных потоков носителей заряда
Рисунок 21
Распределение стационарных потоков носителей заряда в транзисторе при активном режиме его работы
Вместе с тем, наиболее значительное усиление входного сигнала обеспечивает включение биполярного транзистора по схеме с общим эмиттером.
При этом в случае активного режима работы транзистора
іЭ = іК + іБ,
а поскольку
іБ << іК,
то іЭ ≈ іК.
В результате, коэффициент усиления по току
,
где:
- максимальный
выходной ток;
- максимальный ток
коллектора;
- максимальный
входной ток;
- максимальный ток
базы.
Коэффициент усиления по напряжению
.
Коэффициент усиления мощности
Полевые транзисторы Краткое введение: определение, история, изготовление, применения
г)
Рисунок 22 – Топологические схемы полевых транзисторов (ПТ) с одним управляющим p-n-переходом (а), с двумя управляющими p-n-переходами (б), принципиальная схема (в) включения с общим истоком ПТ с двумя управляющими p-n-переходами, условные схемотехнические обозначения ПТ с каналами n-типа и p-типа (г): И – исток, С – сток, З ‑ затвор
На рисунке 23 приведены топологические схемы МДП-транзисторов со встроенным и индуцированным каналами, трехмерное схематическое изображение одного из МДП-транзисторов, а также схемотехнические изображения указанных транзисторов.
а) б) г)
в)
Рисунок 23, а-д - Топологические схемы МДП-транзисторов со встроенным (а) и индуцированным (б) каналами, трехмерное схематическое изображение одного из МДП-транзисторов (в), а также схемотехнические изображения МДП-транзисторов (г, д): П - подложка
е)
ж)
Рисунок 23 е, ж - Схемотехнические изображения МДП-транзисторов со встроенным (е) и индуцированным (ж) каналами n- и р-типа при различных способах подключения подложки
_______________________________________________________________________
___________________________________________________________________________
Примечание: Рисунок 3(24) является увеличенным фрагментом в) рисунка 23, в.
Рисунок 24 - Схематическое изображение архитектуры n-канального МОП-транзистора
Схематическое трехмерное изображение МОП-транзистора со встроенным каналом практически не отличается от приведенного на рисунке 24, что следует, например, из сопоставления двумерных схематических изображений, показанных на рис. 23, а и рис. 23, б.
Начиная с 1960 года, когда были изготовлены первые кремниевые МОП-транзисторы, под влиянием требований повышения уровня интеграции электронных схем для обеспечения возрастания объема оперативной компьютерной памяти, и до настоящего времени характерный размер отдельного элемента оперативной памяти (МОП-транзистора) уменьшался, а число таких элементов на поверхности одного кристалла (чипа с площадью поверхности около 1-2 см2) соответственно быстро увеличивалось со временем.
Рисунок 25 – Зависимость характер-ного
размера одного МОП-транзистора в
интегральных схемах коммерческого
на-значения от времени
Как видно из рисунка 25, с 1960 года по 2000
год характерный размер соответ-ствующих
элементов снизился с 60 мкм
до примерно 0,3-0,4 мкм. При этом, согла-сно
приведенному на рисунке 26 графику,
хорошо отражающему закон Мура, сте-пень
интеграции возросла примерно от 1000
транзисторов на кристалле в 1960 г. до 80
млн. в 2000 г. К 2006 году на кри-сталле
размещалось уже более 1 млрд. эл-ементов,
что обеспечивалось снижением их
характерного планарного размера
примерно до 40-45 нм.
Рисунок 25 – Зависимость числа МОП-транзисторов на кристалле от времени (возле точек на графике указаны типы микросхем и процессоров с соответствующими кристаллами)
Остальные комментарии по этому вопросу следует смотреть на страницах 5-6 настоящего файла.
