- •1. Технологическая схема репродукционного процесса, стадии и их суть.
- •2. Система rgb, ее применение в полиграфии.
- •3. Структурные свойства регистрирующих сред.
- •1. Система cmy, ее использование в полиграфии.
- •2. Физические свойства источников излучения.
- •3. Допечатные процессы, их цель и задачи.
- •1. Реальные краски и система cmyk.
- •2. Классификация источников излучения
- •3. 3 Компонента изобразительной информации.
- •1. Классификация оригинала по технологическим признакам.
- •2. Автотипный синтез.
- •3. Технологические свойства источников излучения.
- •1. Информационное содержание оригинала.
- •2.Цветоделение: основные принципы, связь со светофильтрами, выделение краски.
- •3.Физические свойства оптического звена.
- •1. Обработанная информация - геометрические признаки.
- •2. Недостаток цветоделения реальных красок.
- •3. Основные свойства объектива.
- •1. Формы представления изобразительной информации.
- •2. Аберрации, методы устранения.
- •3. Метод цветовой коррекции.
- •1. Технологическая схема оптического звена.
- •2.Технологические действия связанные с физическими свойствами оптического звена.
- •2. Информационные признаки изображения.
- •3. Искажения по избытку и недостатку краски.
- •1. Методы электронного растрирования.
- •2. Задачи при воспроизведении штрихового изображения.
- •3. Фотографические свойства фотоматериалов.
- •1. Задачи при воспроизведении тонового изображения. Воспроизведение тонового изображения в различных базовых видах печати.
- •2. Градационный процесс при цветном воспроизведении.
- •3. Структурные свойства регистрирующих сред.
- •1. Растровые принципы воспроизведения градации.
- •2. Технологические свойства регистрирующих сред.
- •3. Назначение черной краски и способ получения фотоформы для нее.
- •1.Линиатура (частота растра).
- •2. Понятие о муарообразовании.
- •3.Требования к фототехническим материалам и химико-фотографической обработке.
- •1. Внешняя модуляция.
- •2. Методы уменьшения муара.
- •3. Принцип маскирующего звена.
- •1.Воспроизведение градации. Формула Шеберстова-Мюррея-Девисса.
- •2. Развитие фотоматериалов.
- •3. Оценка муара.
- •1. Структурные признаки автотипных растровых структур.
- •2. Выбор углов поворота растра.
- •3. Номенклатура и спецификация полиграфических материалов.
- •1. Принцип формирования автотипного растра.
- •2. Применение маскирующего звена.
- •3. Требования к фотоформам многокрасочной продукции.
- •1.Контактное копирование, схема, методы управления, параметры.
- •2. Методы контроля комплекта цветоделенных фотоформ.
- •3. Рассеивающее звено.
- •1. Проекционный растр.
- •2. Схема обработки сфои и спои.
- •3. Дифракционное звено.
- •1. Профиль растрового элемента. Связь градации с профилем.
- •2. Состав системы форматной обработки изображения (Состав сфои).
- •3. Технологическая схема форматной обработки – прямой процесс.
- •1. Внутренняя модуляция.
- •2. Схема косвенного процесса.
- •3. Контактное копирование – преимущества, недостатки.
- •1. Электронное растрирование. Общие принципы.
- •2. Проекционный способ записи.
- •3. Оптическое звено – естественные и технологические преобразования.
- •1. Электронное растрирование.
- •2. Дополнительные звенья.
- •3. Преобразования регистрирующих сред.
- •1. Внутренняя модуляция. Признаки автотипного растра.
- •2. Копировальные системы.
- •3. Дополнительное звено. Технологические признаки.
2. Развитие фотоматериалов.
Современные фт-плёнки, разрабатываемые для поэлементной записи в фото выводных устройствах, отличаются тем, что являются высококонтрастными (γ=6-10), а мах спектральной сенсибилизации совпадает с длиной волны излучения лазера. Данные фт-плёнки отличаются повышенной разрешающей способностью (≥800 мм-1), в то время как у контрастных 300-500.
Современные фт-плёнки одного назначения, но представленные различными производителями, имеют весьма близкие фотографические характеристики. Например, фт-плёнки для записи в ФВУ на длине волны излучения лазера λ=780нм имеют близкие назначения максимума спектральной чувствительности (Sλmax=780нм), коэффициента контрастности и разрешающей способности, их совместимость с различными проявителями, а не только с теми, которые рекомендованы производителем фт-плёнки.
3. Оценка муара.
Муар – вторичная низкочастотная повторяющаяся структура, возникающая при наложении друг на друга двух или более регулярных структур. Простейшей моделью муара является наложение двух одинаковых решёток – линейчатых структур. Воздействовать на величину муара в многокрасочной репродукции может точность совмещения изображений на ф/ф, п/ф, при печатании (приводка). Степень проявления муара зависит от линиатуры, угла поворота растровой структуры относительно другой, формы растрового элемента, т.е. самой растровой структуры, что особенно заметно при воспроизведении светов, телесных оттенков оригинала. Количественно муар описывается двумя характеристиками – периодом Тм и контрастом Км. Периодом муара называется расстояние между осевыми линиями светлых или тёмных полос. При строгом совмещении линий растровых решёток муар отсутствует.
Контраст муара – это разность между максимальной и минимальной плотностями в данном изображении, возникающая в следствии муара: Км=Dmax – Dmin. Контраст муара определяет степень влияния муара на качество изображения. При увеличении периода и контраста муара ухудшается качество репродукции.
Билет № 15.
1. Структурные признаки автотипных растровых структур.
1)регулярность решётки: а)регулярная смешенная решётка, линейчатая, необычная, перекрёстная: одно-структурная, многоструктурная; ортогональная, гексагональная; б)периодическая нерегулярная (стохастическая): случайные расстояния постоянный размер и форма; случайный размер и форма; случайные расстояния размер и форма. квазипериодическая решётка.
Видимая структура растровой решётки, которую можно наблюдать на фотоформе, на печатной форме. Наиболее важным признаком структуры является признак регулярности. Регулярная решетка, у которой расстояние между растровыми элементами постоянно. Нерегулярная растровая структура характеризуется тем, что её структурные параметры (расстояние между центрами растровых точек, форма, размер) являются нерегулярными. Важными признаками также являются частота растровой решётки, угол наклона.
2. Выбор углов поворота растра.
Уменьшение муара обеспечивается повышением линиатура растра и соблюдением оптимальных углов поворота растровой структуры в одном изображении относительно другого. Значения углов поворота определены экспериментально и рассчётно. Сейчас принято Желтая краска 0 (90) градусов, черная-45 градусов, Пурпурная-15 градусов, Голубая- 75 градусов, но возможно и использование и других углов.
Важно что растровые структуры ф/ф рисующих красок были отклонены на возможно большой угол по отношению к растровой структуре фотоформы чёрной краски в пределах угла 90% . Углы поворота в оптических системах устанавливаются визуально. Они должны быть максимально возможными в пределах квадрата. Эти углы соответствуют min период при 45 градусов, такой угол для всех красок обеспечить невозможно. Проекционные растры делаются круглой формы с использованием разметки. Метку на растре совмещают с меткой на фотоаппарате. При электронном растрировании эта регулировка поворота устанавливается программным методом.