- •А.Н. Игнатов
- •Новосибирск 2013
- •Предисловие
- •1.1 Введение в волоконную оптику
- •1.2 Особенности оптической электроники
- •1.3 История развития оптоэлектроники
- •1.4 Современное состояние оптоэлектронной элементной базы
- •1.5 Система обозначений оптоэлектронных приборов индикации
- •1.6 Система обозначений полупроводниковых приборов и оптронов
- •Тестовые вопросы к главе 1 «Введение в оптоэлектронику»
- •2 Физические основы оптоэлектроники
- •2.1 Различие между фотометрическими и энергетическими характеристиками
- •2.2 Фотометрические характеристики оптического излучения
- •2.2.1 Функция видности и ее зависимость от длины электромагнитной волны
- •2.2.2 Телесный угол, световой поток и механический эквивалент света
- •2.2.3 Сила света, IV
- •2.2.4 Освещенность поверхности, е
- •2.2.5 Закон освещенности
- •2.2.6 Светимость излучающей поверхности, м
- •2.2.7 Яркость светящейся поверхности, l
- •Величина
- •2.2.8 Закон Ламберта
- •2.2.9 Световая экспозиция, нv
- •2.5 Колориметрические параметры
- •2.6 Когерентность оптического излучения
- •2.6.1 Монохроматическая электромагнитная волна (мэв)
- •2.6.2 Особенности излучения электромагнитных волн в ультрафиолетовом (уф), видимом и инфракрасном (ик) диапазонах
- •2.7 Квантовые переходы и вероятности излучательных переходов
- •2.7.1 Энергетические уровни и квантовые переходы
- •2.7.2 Спонтанные переходы
- •2.7.3 Вынужденные переходы
- •2.7.4 Соотношения между коэффициентами Эйнштейна
- •2.7.5 Релаксационные переходы
- •2.8 Ширина спектральной линии
- •2.9 Использование вынужденных переходов для усиления электромагнитного поля
- •2.10 Механизм генерации излучения в полупроводниках
- •2.11 Прямозонные и непрямозонные полупроводники
- •2.12 Внешний квантовый выход и потери излучения
- •2.13 Излучатели на основе гетероструктур
- •2.14 Поглощение света в твердых телах
- •2.15 Типы переходов и характеристики излучающих полупроводниковых структур.
- •2.16 Параметры оптического излучения
- •Тестовые вопросы к главе 2 «Физические основы оптоэлектроники»
- •3 Приборы некогерентного излучения
- •3.1 Источники света
- •3.1.1 Разновидности источников
- •3.2 Основные характеристики и параметры светодиодов
- •3.2.1 Параметры светодиодов
- •3.2.2 Характеристики светодиодов
- •3.2.3 Определение и оценка параметров светодиодов
- •3.2.4 Схемы возбуждения, обеспечивающие высокую световую эффективность светодиодов
- •3.2.5 Влияние температуры
- •3.2.6 Срок службы
- •3.2.7 Ограничение тока
- •3.2.8 Достоинства твердотельных излучателей
- •3.3 Конструкции светодиодов
- •3.4 Основные схемы возбуждения светодиодов
- •3.5 Выбор типа светодиода
- •3.5.1 Основные соображения для выбора типа светодиода
- •3.5.2 Памятка разработчику
- •3.6 Электрическая модель светодиода
- •3.7 Светодиоды инфракрасного излучения
- •3.8 Светодиодные источники повышенной яркости и белого света
- •Тестовые вопросы к главе 3 «Источники некогерентного излучения»
- •4 Приборы когерентного излучения
- •4.1 Физические основы усиления и генерации лазерного излучения
- •4.2 Структурная схема лазера
- •4.3 Лазеры на основе кристаллических диэлектриков
- •4.4 Жидкостные лазеры
- •4.5 Газовые лазеры
- •4.6 Устройство и принцип действия полупроводникового инжекционного моно лазера
- •4.7 Устройство и принцип действия полупроводниковых лазеров с гетероструктурами
- •4.8 Волоконно-оптические усилители и лазеры
- •4.8.1 Волоконные усилители
- •4.8.2 Волоконные лазеры
- •4.8.3 Волоконные лазеры на основе вынужденного комбинационного рассеяния
- •4.9 Светоизлучающие диоды для волоконно-оптических систем
- •4.10 Сравнительная характеристика лазеров и светодиодов
- •4.10.1 Параметры отечественных полупроводниковых лазеров и оптических модулей
- •4.11. Квантовые эффекты в полупроводниках
- •4.12. Фотонные нанокристаллы.
- •4.13. Наноэлектронные лазеры
- •4.13.1. Наноэлектронные лазеры с горизонтальными резонаторами
- •4.13.2. Наноэлектронные лазеры с вертикальными резонаторами
- •4.14.1. Органические светодиоды
- •4.14.2. Пассивно-матричные oled
- •4.14.3. Активно-матричные oled
- •4.14.4. Технологии получения органических светодиодов
- •Тестовые вопросы к главе 4 «Приборы когерентного излучения»
- •5 Полупроводниковые фотоприемные приборы
- •5.1 Принцип работы фотоприемных приборов
- •5.2 Характеристики, параметры и модели фотоприемников
- •5.2.1 Параметры фотоприемников
- •5.2.2 Характеристики фотоприемников
- •5.2.3 Параметры фотоприемника как элемента оптопары
- •5.2.4 Электрические модели фотоприемников
- •5.3 Фотодиоды на основе p-n – перехода
- •5.4 Фотодиоды с p–I–n структурой
- •5.5 Фотодиоды Шоттки
- •5.6 Фотодиоды с гетероструктурой
- •5.7 Лавинные фотодиоды
- •5.8 Фототранзисторы
- •5.9 Фототиристоры
- •5.10 Фоторезисторы
- •5.11 Основные характеристики и параметры фоторезистора
- •5.12 Пзс приемные фотоприборы
- •5.13 Фотодиодные сбис на основе моп – транзисторов
- •5.14 Пиротехнические фотоприемники
- •5.15. Фотоприемные наноэлектронные приборы
- •5.15.1. Фотоприемники на квантовых ямах
- •5.15.2. Фотоприемники на основе квантовых точек
- •Тестовые вопросы к главе 5 «Полупроводниковые фотоприемные Приборы»
- •6 Оптроны
- •6.1 Устройство и принцип действия оптронов
- •6.2 Структурная схема оптрона
- •6.3 Классификация и параметры оптронов
- •6.4 Электрическая модель оптрона
- •6.5 Резисторные оптопары
- •6.6 Диодные оптопары
- •6.7 Транзисторные оптопары
- •6.8 Тиристорные оптопары
- •Тестовые вопросы к главе 6 «Оптроны»
- •7 Индикаторные приборы
- •7.1 Жидкокристаллические индикаторы
- •7.1.1 Основы теории
- •7.1.2 Ячейки на основе эффекта динамического рассеяния (др – ячейки)
- •7.1.3 Ячейки на основе твист-эффекта
- •7.1.4 Основные типы и параметры
- •7.1.5 Схемы включения жидкокристаллических индикаторов
- •7.1.6 Схемы управления многоразрядными индикаторами
- •7.2 Электролюминесцентные индикаторы
- •7.2.1 Устройство и принцип действия
- •7.2.2 Типы и параметры
- •7.2.3 Схемы включения электролюминесцентных индикаторов
- •7.3 Плазменные панели и устройства на их основе
- •7.4 Электрохромные индикаторы
- •7.5. Отображение информации индикаторными приборами
- •Тестовые вопросы к главе 7 «Индикаторные приборы»
- •8 Применение оптоэлектроннх приборов
- •8.1 Устройство и принцип действия оптоэлектронных генераторов
- •8.1.1 Блокинг - генератор
- •8.1.2 Генератор линейно изменяющегося напряжения
- •8.1.3 Генератор с мостом Вина
- •8.2 Применение оптоэлектронных приборов в аналоговых ключах и регуляторах
- •8.3 Применение оптронов для выполнения логических функций
- •8.4 Применение оптронов как аналогов электрорадиокомпонентов
- •8.5 Устройство и принцип действия оптоэлектронных усилителей
- •8.6 Устройство и принцип действия оптоэлектронных цифровых ключей
- •8.7 Применение оптоэлектронных приборов для измерения высоких напряжений и управления устройствами большой мощности
- •8.8 Устройство и принцип действия оптических устройств записи информации
- •8.9 Принцип лазерно-оптического считывания информации
- •8.10 Принципы цифровой оптической записи и воспроизведения информации с компакт дисков
- •8.10.1 Устройство компакт-диска
- •8.10.2 Запись на компакт диски
- •8.10.3 Отличия cd-r/cd-rw дисков от штампованных
- •8.10.4 Маркировка дисков
- •8.10.5 Надежность дисков cd-r/rw в сравнении со штампованными
- •8.10.6 Изготовление и тиражирование компакт-дисков
- •8.10.7 Воспроизведение компакт-диска
- •8.10.8 Устройство накопителей на cd-rom
- •8.10.9 Представление и параметры звукового сигнала на cd
- •8.10.10 Джиттер
- •8.11 Оптоэлектронные сенсорные системы взаимодействия человека с электронной техникой.
- •8.11 Лазерный микропроектор со спиральной разверткой для мобильных устройств
- •Тестовые вопросы к главе 8 «Применение оптоэлектронных приборов»
- •9. Волоконно-оптические системы связи
- •9.1. Общие сведения
- •9.2. Классификация волоконно-оптических систем распределения
- •9.3. Волоконно-оптические системы распределения
- •9.4. Оптические передатчики
- •9.5 Приемники волоконно-оптических систем связи
- •9.5.1 Приемные оптоэлектронные модули
- •9.6. Цифровые волоконно-оптические системы связи
- •9.7. Аналоговые волоконно-оптические системы связи
- •9.8 Умные соединители на основе смартлинков
- •9.8.1 Технические решения смартлинков
- •9.8.2 Самоформирующиеся компьютеры
- •9.8.3 Оптоволоконные нейроинтерфейсы
- •9.9 Волоконно оптические технологии для сетей доступа
- •9.9.1 Общие сведения
- •9.9.2 Тенденции мирового развития сетей доступа
- •9.9.3 Технологии оптических сетей доступа
- •9.9.4 Категории оптических сетей доступа
- •9.9.5 Волокно до бизнеса – FttBusiness
- •9.9.6 Волокно до дома – ftth
- •9.9.7 Волокно до многоквартирного дома – fттb
- •9.9.8 Волокно до сельского района
- •9.10 Медиоконверторы и их применение в оптических системах связи
- •9.10.1 Общие сведения
- •9.10.2. Основные технические требования, предъявляемые к оборудованию
- •9.10.3. Классификация медиаконвертеров по критерию управляемости
- •9.10.4. Конструктивное исполнение
- •9.10.5. Основные параметры медиаконвертеров
- •9.10.6. Система управления
- •9.10.7. Устройство и применение медиоконвертора rs-485
- •Тестовые вопросы к главе 9 «Волоконно-оптические системы связи»
- •Приложение п1
- •Приложение п2
- •Приложение п3
- •Приложение п4 Перечень принятых сокращений
- •Список цитированной литературы
2.14 Поглощение света в твердых телах
Свет, попадая в твердое тело, вступает с ним во взаимодействие, связанное с обменом энергии. Часть энергии излучения поглощается и идет на увеличение энергии электронов или фотонов (теплового движения атомов). Поглощение света в твердом теле происходит в соответствии с законом Бугера-Ламберта
,
(2.78)
где k – коэффициент отражения;
Ф(х) – поток световой энергии на расстоянии x от поверхности (вдоль луча);
Ф0 – падающий на поверхность поток световой энергии;
– коэффициент поглощения.
Обратная
к нему величина
численно равна толщине слоя, при
прохождении через который интенсивность
света уменьшается в e
раз (см рис.2.21). Зависимость коэффициента
поглощения от частоты ()
или от длины волны ()
называется спектром поглощения тела.
Рис. 2.21. Поглощение оптического излучения в полупроводнике
В полупроводниках различают пять основных механизмов поглощения излучения: собственное, примесное, экситонное, решеточное, на свободных носителях. Собственное (фундаментальное) поглощение определяется межзонными переходами электронов из валентной зоны в свободную и сопровождается генерацией электронно-дырочных пар. В зависимости от энергетического расстояния между зонами такое поглощение наблюдается в широкой области спектра, включая видимую, инфракрасную и ультрафиолетовую.
Собственное поглощение – типично пороговый процесс, поскольку минимальная энергия поглощаемых фотонов определяется шириной запрещенной зоны полупроводника. Область вблизи h·ν ≈ EG называется краем собственного поглощения. При h·ν < EG коэффициент собственного поглощения равен нулю и излучение проходит через полупроводник без потерь. Вид спектральных зависимостей коэффициентов поглощения различных полупроводников определяется структурой их энергетических зон. Для прямозонных полупроводников типа GaAs у края собственного поглощения [9]:
α = А(h·ν – EG)1/2 , (2.79)
где А – коэффициент, зависящий от эффективных масс носителей.
Для полупроводников группы AIIIBV можно принять А ≈ 104 см-1 · эВ-1/2.
Тогда если для h·ν =EG α = 0, то при h·ν – EG = 0,01 эВ α = 103 см -1, т.е. собственное поглощение для прямозонных полупроводников резко возрастает даже при малых превышениях энергии поглощаемых фотонов относительно EG.
Для непрямозонных полупроводников (Si, Ge, GaP и др.) переброс электрона в зону проводимости сопровождается изменением его квазиимпульса и требует участия в процессе поглощения третьего тела, например фонона. Минимальная энергия, необходимая для совершения непрямого перехода, равна h·νmin = EG + Eф для перехода с испусканием фонона. Тогда α будет состоять из двух слагаемых[9]:
α
= В·
, (2.80)
где Еф – энергия фонона; В – постоянная, не зависящая от температуры.
Примесное поглощение связано с процессами ионизации или возбуждения примесных уровней, лежащих в запрещенной зоне полупроводника. При этом под действием фотонов соответствующих энергий возможны переходы электронов с примесного уровня в зону проводимости, из валентной зоны на примесные уровни (фотоионизация мелких уровней) или с одного примесного уровня на другой (фотоионизация и фотонейтрализация глубоких уровней). В первых двух случаях генерируются свободные носители одного знака и спектр поглощения имеет вид сравнительно широкой полосы, сдвинутой в сторону более длинных волн относительно собственного поглощения. В третьем варианте свободные носители заряда не возникают, а спектр поглощения имеет вид узких линий.
Следует учитывать, что пари комнатной температуре «мелкие» примесные во многих полупроводниках ионизированы термически, так как энергия тепловых колебаний кристаллической решетки больше энергии активации (КT > Ea). Поэтому поглощение излучения примесями можно наблюдать лишь при достаточно низких температурах в ИК области спектра (λ = 10 – 200 мкм). В то же время в полупроводниках существуют «глубокие» примесные уровни, вероятность термической ионизации которых при комнатной температуре мала. Они играют большую роль в фотоприемниках, поскольку определяют такие параметры полупроводников, как скорость рекомбинации неравновесных носителей, время их жизни и др.
На краю примесного поглощения, где h·ν ≈ Еа, получаем, что α ≈ 8,3∙10-17∙me∙N/( me*∙Ea), где N – концентрация примесей; Ea – энергия активации примесного уровня; me, me* - соответственно масса свободного электрона и его эффективная масса в полупроводнике; n – показатель преломления.
В следствии меньшей концентрации атомов примесей по сравнению с концентрацией атомов основного материала коэффициент примесного поглощения будет значительно меньше, чем собственного. Он находится в пределах 0,1 – 100 см-1.
Поглощение н6а свободных носителях, обусловленное электронными переходами внутри зон, существенно при концентрациях носителей выше 1019 - 1020 см-3.
В общем случае спектральная зависимость коэффициента поглощения на свободных носителях заряда может быть аппроксимирована степенной функцией вида α ≈ nλb, где n – концентрация свободных носителей заряда; b – постоянный коэффициент, зависящий от механизма рассеяния (например, b = 1,5 при рассеянии на акустических фононах, b = 3,5 при рассеянии на ионизированных примесях).
Экситонное поглощение характерно для полупроводников с достаточно широкой запрещенной зоной. Экситон – слабосвязанная пара электрон-дырка, имеющая серию энергетических уровней. Это нейтральное образование. Его появление не приводит к изменению электрических характеристик образца. Если температура достаточно высока, под действием тепловой энергии электрон переходит в зону проводимости, т.е. в этом случае получается результат, достигаемый при собственном поглощении света. При этом фотопроводимость не меняется.
Решеточное поглощение происходит в результате взаимодействия поля световой волны с колеблющимися зарядами узлов решетки. Другими словами, при решеточном поглощении фотона происходит рождение фонона, причем этот процесс не сопровождается фотогенерацией свободных носителей заряда. Спектр решеточного поглощения характеризуется рядом пиков поглощения, расположенных в ИК области, которые обычно накладываются на линии поглощения свободными носителями:
Таким образом, в результате поглощения излучения в полупроводнике возникают свободные носители заряда или изменяется их концентрация. Это явление, называемое внутренним фотоэффектом, характеризуется количественно безразмерной величиной – квантовым выходом η, равным отношению числа генерируемых фотоносителей к числу поглощаемых полупроводником фотонов. При hν < EG η = 0, а при hν > EG η резко увеличивается и становится близким к единице, практически не меняясь при дальнейшем увеличении энергии фотонов. Избыточная энергия ΔЕ = hν – ЕG идет на увеличение кинетической энергии электронов в зонепроводимости.
Спектр поглощения света твердым полупроводниковым материалом иллюстрирует рис. 2.25, а типы электронных переходов отображены на рис. 2.26.
Рис. 2.22 Спектральные характеристики поглощения света
в полупроводниковом материале.
Рис. 2.23 Электронные переходы при поглощении света в полупроводниковом материале.
1. собственное (фундаментальное) поглощение (электрон из связанного состояния переходит в свободное, из валентной зоны в зону проводимости). hν≥EG;
2,3 примесное поглощение;
4. внутрицентровой переход;
5. экситонное поглощение;
6. поглощение свободными носителями заряда.
В случае 1 электрон из связанного состояния переходит в свободное (переходит из валентной зоны в зону проводимости). Это соответствует собственному (фундаментальному) поглощению. Случай 2 соответствует примесному поглощению. Как при собственном поглощении так и при примесном поглощении наблюдается изменение электропроводности полупроводникового материала. При внутрицентровых переходах (случай 4) электрон не освобождается и, следовательно, электропроводность не меняется. Случай 5 соответствует экситонному поглощению и не сопровождается изменением электропроводности. Если температура достаточно высока, то под действием тепловой энергии электрон переходит в зону проводимости т.е. в этом случае получается результат, достигаемый при собственном поглощении света. Случай 6 – иллюстрирует поглощение света свободными электронами, пропорционально их концентрации. При собственном поглощении, если коэффициент поглощения α=105 см-1 глубина поглощения х=0,1 мкм, при примесном поглощении при концентрации электронов N=1017 см-3, α=10 см-1 , а глубина поглощения увеличивается до х=0,1 см. При hν≈0,1 эВ наблюдается поглощение света ионами решетки (случай 7 на рис. 2.22).
В основе работы фотоприемников, как правило, используется эффект собственного поглощения. В некоторых случаях, например, для расширения спектральной характеристики, в длинноволновой области используют примесное поглощение.
