- •Тоэ Лекция 5,6
- •2. Катодные процессы
- •2.1. Особенности катодных процессов при размерной эхо
- •2.2. Электрокристаллизация металлов
- •2.2.1. Стадии процесса электрокристаллизации металлов
- •2.2.2. Образование кристаллических зародышей
- •2.2.2.1. Виды электрокристаллизации металлов
- •2.2.2.2. Зависимость числа зародышей и их распределения
- •3.2.3. Рост кристаллических образований
- •2.2.2.4. Формирование поликристаллических осадков
- •2.2.2.4.1. Последовательность формирования поликристаллических осадков
- •2.2.2.4.2. Крупно- и мелкокристаллические осадки
- •2.2.2.4.3. Блестящие осадки
- •3.2.5. Влияние параллельной реакции выделения водорода на электроосаждение металлов
- •3.2.5.1. Основные закономерности выделения водорода
- •2.2.2.5.2. Катодный выход по току Катодный выход по току для электроотрицательных металлов зависит от
Тоэ Лекция 5,6
2. Катодные процессы
2.1. Особенности катодных процессов при размерной эхо
На катоде протекают реакции разряда водорода по схеме Н+ + е → Н и разложения воды: Н2О + е → Н + ОН- с последующим образованием и выделением молекулярного водорода. В результате прикатодные слои раствора насыщаются пузырьками водорода, а раствор обогащается анионами ОН-.
Масса
выделившегося в единицу времени водорода
может быть определена по уравнению:
,
где Iср – величина среднего тока.
Так, при рабочем токе Iср= 1000 А в МЭП образуется 1,036·10-2 г/с водорода. Объём выделяющегося водорода зависит от давления в МЭП. На катоде могут также протекать реакции восстановления катионов, находящихся в ра-створе электролита и перешедших в раствор с анода, имеющих равновесные потенциалы того же порядка, что и потенциал катода (например, для Fe+2 E0= - 0,44 В, для Со+2 E0= - 0,28 В, для Мо3+ E0= - 0,20 В, для Ni2+ E0= - 0,24 В).
Катодное осаждение возможно на тех участках катода, где местная плотность тока низкая, рН в прикатодной области невысокий и, следовательно, концентрация осаждающихся катионов сравнительно невелика. Появление осадка на катоде ведёт к изменению его формы и физико-химических свойств поверхности. Это сказывается на точности обработки и стабильности процесса. Для предотвращения возможности осаждения металла на катоде следует использовать для катода металлы, имеющие высокие стандартные потенциалы (например, медь), либо использовать для удаления осадка обратное напряжение небольшой амплитуды и длительности, в течение которого меняется полярность электрода.
2.2. Электрокристаллизация металлов
2.2.1. Стадии процесса электрокристаллизации металлов
Процессы электрокристаллизации металлов представляют собой наиболее сложный тип электрохимических реакций, связанных с образованием новой фазы на поверхности электрода.
Вы уже знаете основные стадии электрохимических реакций:
диффузия ионов металла к поверхности электрода;
химические реакции в объёме раствора или на поверхности электрода;
стадия переноса электрона.
Помимо этих стадий непосредственно сам процесс электрокристаллизации включает стадии образования и роста зародышей с последующим образованием поликристаллического осадка. При анодном растворении металлов, по существу, протекает обратный процесс декристаллизации.
Перенос иона на подложку является стадией, предшествующей встраиванию атома в кристаллическую решетку металла-основы. Металлом-основой может являться либо другой металл, либо осаждающийся металл. Перенос иона на подложку может осуществляться двумя путями:
прямой перенос в вакантное место на поверхности подложки. Здесь ион в результате дальнейшего переноса заряда закрепляется.
Перенос на поверхность с последующей поверхностной диффузией к месту роста кристалла или образования зародыша.
Во втором случае перенос электрона может произойти при первом контакте иона с поверхностью. Тогда он превращается в адсорбированный атом – адатом. Или будет происходить постепенный перенос заряда, который завершится в месте встраивания в кристаллическую решётку. Таким образом, в зависимости от того, когда произойдёт перенос заряда, в поверхностной диффузии будут участвовать адсорбированные ионы (адионы) и адатомы. Наиболее вероятен следующий процесс:
перенос иона на плоскую поверхность с образованием адиона;
последующая поверхностная диффузия в виде адиона или адатома к месту встраивания в кристаллическую решётку;
окончательный перенос заряда для адиона.
