- •Курсовая работа
- •«Изготовление плат методом тонкопленочной технологии».
- •Введение.
- •Глава 1 Необходимость развития технологий для производства тонкопленочных микросхем
- •Глава 2 Классификация процессов изготовления плат методом тонкопленочной технологии
- •2.1. Процессы напыления
- •2.1.1. Термическое вакуумное напыление
- •2.1.2. Резистивное напыление
- •2.1.3. Индукционное напыление
- •2.1.4. Электронно-лучевое напыление
- •2.1.5. Лазерное напыление
- •2.1.6. Электродуговое напыление
- •2.1.7. Распыление ионной бомбардировкой
- •2.1.8. Катодное распыление
- •2.1.9. Магнетронное распыление
- •2.1.10. Высокочастотное распыление
- •2.1.11. Плазмо-ионное распыление в несамостоятельном газовом разряде
- •2.2. Фотолитография
- •Способы экспонирования
- •Методы и технология формирования рисунка интегральных микросхем
- •Глава 3. Материалы, используемые в тонкопленочной технологии
- •Глава 4 Технологическое оборудование для производства изделий методом тонкопленочной технологии
- •Глава 5 Специальная оснастка и инструмент для производства тонкопленочных микросхем. Фотошаблоны и технология их получения
- •Глава 6 Особенности организации участка производства микросхем
- •Глава 7 Безопасность труда в производстве изделий микроэлектроники (2-3 листа)
- •Ниже приведены основные требования и необходимые меры для обеспечения безопасности
- •Список используемой литературы
М
ИНИСТЕРСТВО
ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ РФ
Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение
высшего профессионального образования
"Московский Авиационный Институт (национальный исследовательский
университет) (МАИ)
Кафедра «Управление инновациями»
Курсовая работа
По дисциплине «Промышленные технологии и инновации»
на тему
«Изготовление плат методом тонкопленочной технологии».
Выполнила: Филатова А..А.
Группа: 3УИН-3ДБ-011
Проверил: Луценко А.В.
Москва, 2016
Содержание
|
|
Стр. |
|
Введение |
|
Глава 1. |
Необходимость развития технологий для производства тонкопленочных микросхем |
|
Глава 2. |
Классификация процессов изготовления плат методом тонкопленочной технологии |
|
2.1. |
Процессы напыления |
|
2.1.1. |
Термическое вакуумное напыление |
|
2.1.2. |
Резистивное напыление |
|
2.1.3. |
Индукционное напыление |
|
2.1.4. |
Электронно-лучевое напыление |
|
2.1.5. |
Лазерное напыление |
|
2.1.6. |
Электродуговое напыление |
|
2.1.7. |
Распыление ионной бомбардировкой |
|
2.1.8. |
Катодное распыление |
|
2.1.9. |
Магнетронное распыление |
|
2.1.10. |
Высокочастотное рапыление |
|
2.1.11. |
Плазмо-ионное распыление в несамостоятельном газовом разряде |
|
2.2. |
Процессы литографии |
|
2.2.1. |
Фотолитография |
|
2.2.2. |
|
|
2.3. |
Процессы разделения подложек |
|
2.3.1. |
|
|
2.4. |
Контроль |
|
Глава 3 |
Материалы, используемые в тонкопленочной технологии |
|
Глава 4. |
Технологическое оборудование для производства изделий методом тонкопленочной технологии |
|
Глава 5. |
Специальная оснастка и инструмент для производства тонкопленочных микросхем. Фотошаблоны и технология их получения. |
|
Глава 6. |
Особенности организации участка производства микросхем |
|
Глава 7. |
Безопасность труда в производстве изделий микроэлектроники |
|
|
Список используемой литературы |
|
