- •5.9.1. Увеличение проводимости базы
- •5.9.2. Диффузионное поле и дрейфовые токи ннз
- •5.9.3. Изменение времени жизни в базе
- •5.9.4. Амбиполярные подвижность и коэффициент диффузии, рассеяние носителей друг на друге
- •Амбиполярные коэффициент диффузии и подвижность
- •Рассеяние носителей друг на друге
- •5.9.5. Ослабление потенциальной зависимости тока через p-n переход
- •Снижение эффективности несимметричного p-n перехода
- •Изменение температурной зависимости прямого падения напряжения
- •5.10. Суммарный ток p-n перехода
- •5.11. Реактивные свойства p-n переходов
- •5.11.1. Зарядная емкость p-n перехода
- •5.11.2. Диффузионная емкость p-n переходов
- •5.11.3. P-n переход на малом переменном сигнале
- •5.11.4. Индуктивность p-n перехода
- •5.12. Пробой p-n перехода
- •5.12.1. Тепловой пробой
- •5.12.2. Лавинный пробой
- •Критерии развития лавинного пробоя
- •Обратный ток в режиме лавинного пробоя
- •Зависимость напряжения пробоя от концентрации или градиента концентрации примеси
- •Температурная зависимость напряжения пробоя
- •Расчёт напряжения лавинного пробоя p-n перехода при произвольном профиле легирования
- •5.12.3. Туннельный пробой
- •5.12.4. Инжекционный или токовый пробой
- •5.12.5. Влияние конструкции и структурных несовершенств p-n перехода на лавинный пробой
- •Напряжение пробоя планарного p-n перехода
- •Планарный p-n переход с неравномерно легированной базой
- •Поверхностный пробой
- •Влияние структурных несовершенств, микроплазменный пробой
- •5.12.6. Пути повышения пробивного напряжения p-n перехода
- •Конструкторско-топологические методы
- •Меза – структура
- •Планарный p-n переход с полевой обкладкой
- •Охранное кольцо планарного p-n перехода и барьера Шоттки
- •Делительные кольца планарных p-n переходов
- •Объёмные делительные слои одс
- •Структуры с тонкими слоями противоположной проводимости в базе
- •Технологические методы повышения лавинного пробоя
- •1 Нейтронное легирование кремния
- •2 Геттерирование быстродиффундирующих примесей (бдп)
- •3 Стабилизация поверхностного заряда и защита поверхности
- •5.13. Гетеропереходы
- •Контрольные вопросы
5.11.3. P-n переход на малом переменном сигнале
Рассмотрим p-n переход в прямом смещении, на который подаётся малое переменное напряжение Ul << U0; Ul < φT.
.
Полную концентрацию дырок в базе в этом
случае можно представить суммой
постоянной составляющей p0(x)
и переменной
= p1 exp(iωt)
[7].
p(x,t) = p0(x) + p1(x) exp(iωt). (5.78)
Принимаются допущения
диодной теории. Кроме того, полагаем,
что время пролёта через ОПЗ меньше
периода переменного сигнала
.
В этом случае сохраняются граничные
условия Шокли и для переменной
составляющей.
.
(5.79)
Разлагая
, в связи с малостью аргумента в (5.79),
получаем:
.
(5.80)
Поскольку рассматривается случай малого уровня инжекции, то по диодной теории плотность переменного тока через p-n переход
.
Следовательно,
чтобы найти
,
необходимо решить нестационарное
уравнение непрерывности.
,
где
.
После подстановки jp получаем:
. (5.81)
Подставляя (5.78) в (5.81), будем иметь:
.
(5.82)
Учитывая, что сумма членов, относящихся к стационарной концентрации дырок, равна нулю (5.28), это уравнение можно записать в следующем виде:
;
.
(5.83)
Уравнение (5.83) аналогично (5.28) и
решается тем же способом. Граничные
условия при x = 0 представлены
выражением (5.80). Второе граничное условие
при
:
;
.
(5.84)
С этими граничными условиями решение (5.83) имеет вид:
.
(5.85)
Плотность переменного тока (при x = 0):
.
(5.86)
Для выделения действительной (активной) и мнимой (реактивной) составляющих переменного тока воспользуемся тождеством:
,
где
.
Тогда из (5.86):
.
(5.87)
Емкостной характер реактивной составляющей
следует из тождества
.
. (5.88)
Таким образом, переменный ток в отличие от постоянного линейно возрастает с величиной переменного напряжения
.
(5.89)
Величину ёмкости можно оценить домножив радикал для мнимой составляющей в (5.77а) на сопряжённый.
,
(5.90)
где
,
диффузионная ёмкость.
В стационарном случае (ω = 0):
.
Значение диффузионной ёмкости в два раза меньше, чем это следовало из формального рассмотрения (5.77а).
На больших частотах диффузионная ёмкость
уменьшается ~
.
С ростом частоты уменьшается диффузионная
длина смещения для переменной концентрации
(рисунок 5.54), так как с уменьшением
периода не все носители успевают за
изменением напряжения (в распределении
по скоростям есть медленные) и уменьшается
инерционность установления переменной
концентрации, а, следовательно, и модуль
диффузионной ёмкости.
Активная проводимость (5.89) возрастает
с ростом частоты ~
(5.87),
.
Увеличение проводимости обусловлено
увеличением пространственного градиента
переменной концентрации (
уменьшается с частотой) (рисунок
5.54). Эти два обстоятельства и линейная
зависимость между переменным током
и напряжением позволяют использовать
p-n переход на больших частотах в
качестве коммутационного переключательного
элемента для СВЧ сигналов. Зависимость
диффузионной емкости и активной
проводимости от частоты приведены на
рисунке 5.55.
Таким образом, в p-n переходе на переменном сигнале протекают три составляющие переменного тока: активная (Gа), через зарядную ёмкость С3 (ток смещения) и диффузионную ёмкость CD. Все они протекают через сопротивление базы и контактов. Исходя из этого, эквивалентная схема p-n перехода может быть представлена в следующем виде (рисунок 5.56).
Для коммутационного диода эквивалентная схема в прямом смещении на высоких частотах может быть представлена в виде активной проводимости (Ga шунтирует С3), а при обратном – в виде зарядной ёмкости с последовательным сопротивлением Rs .
