- •5.9.1. Увеличение проводимости базы
- •5.9.2. Диффузионное поле и дрейфовые токи ннз
- •5.9.3. Изменение времени жизни в базе
- •5.9.4. Амбиполярные подвижность и коэффициент диффузии, рассеяние носителей друг на друге
- •Амбиполярные коэффициент диффузии и подвижность
- •Рассеяние носителей друг на друге
- •5.9.5. Ослабление потенциальной зависимости тока через p-n переход
- •Снижение эффективности несимметричного p-n перехода
- •Изменение температурной зависимости прямого падения напряжения
- •5.10. Суммарный ток p-n перехода
- •5.11. Реактивные свойства p-n переходов
- •5.11.1. Зарядная емкость p-n перехода
- •5.11.2. Диффузионная емкость p-n переходов
- •5.11.3. P-n переход на малом переменном сигнале
- •5.11.4. Индуктивность p-n перехода
- •5.12. Пробой p-n перехода
- •5.12.1. Тепловой пробой
- •5.12.2. Лавинный пробой
- •Критерии развития лавинного пробоя
- •Обратный ток в режиме лавинного пробоя
- •Зависимость напряжения пробоя от концентрации или градиента концентрации примеси
- •Температурная зависимость напряжения пробоя
- •Расчёт напряжения лавинного пробоя p-n перехода при произвольном профиле легирования
- •5.12.3. Туннельный пробой
- •5.12.4. Инжекционный или токовый пробой
- •5.12.5. Влияние конструкции и структурных несовершенств p-n перехода на лавинный пробой
- •Напряжение пробоя планарного p-n перехода
- •Планарный p-n переход с неравномерно легированной базой
- •Поверхностный пробой
- •Влияние структурных несовершенств, микроплазменный пробой
- •5.12.6. Пути повышения пробивного напряжения p-n перехода
- •Конструкторско-топологические методы
- •Меза – структура
- •Планарный p-n переход с полевой обкладкой
- •Охранное кольцо планарного p-n перехода и барьера Шоттки
- •Делительные кольца планарных p-n переходов
- •Объёмные делительные слои одс
- •Структуры с тонкими слоями противоположной проводимости в базе
- •Технологические методы повышения лавинного пробоя
- •1 Нейтронное легирование кремния
- •2 Геттерирование быстродиффундирующих примесей (бдп)
- •3 Стабилизация поверхностного заряда и защита поверхности
- •5.13. Гетеропереходы
- •Контрольные вопросы
Снижение эффективности несимметричного p-n перехода
Эффективность эмиттера биполярного транзистора и её зависимость от тока определяют как величину коэффициента усиления, так и максимальный ток коллектора, при котором сохраняются на удовлетворительном уровне усилительные свойства. В этой связи рассмотрим несимметричный p-n переход, обеспечивающий эффективность, близкую к единице (5.35), и использующийся в качестве эмиттера p-n-p транзистора.
На больших уровнях инжекции условия Шокли (5.26) заменяются более общими граничными условиями Флетчера-Агаханяна (рисунок 5.38).
(5.66)
;
.
Концентрация на границах p-n перехода:
p(0) = pp0 + Δp = NA + Δn(0);
n(δ) = nn0 + Δn = ND + Δp(δ).
Нетрудно видеть, что на малых уровнях инжекции (Δp < pp0, Δn < nn0) уравнения (5.66) переходят в условие Шокли (5.26).
Так как
( на три, четыре порядка), то
при максимально допустимой плотности
тока
(барьер спрямлен) концентрация дырок
в p-области
не изменится.
.
Концентрация электронов в
плоскости
изменяется значительно
(5.67)
Подставим значение
во второе уравнение (5.66).
Выражение (5.68) описывает обратную инжекцию из слаболегированной базы в сильнолегированную.
.
(5.69)
При малых U
потенциальный закон аналогичен закону
прямой инжекции
.
На больших уровнях инжекции
,
т.е. возрастает значительно сильнее,
чем ток прямой инжекции (рисунок 5.39)
. (5.70)
В результате этого эффективность p-n перехода будет уменьшаться с ростом тока.
.
(5.71)
Так как
,
то
.
Подставив это значение в (5.69 - 5.71), получаем:
.
(5.72)
С увеличением тока j эффективность p-n перехода падает, так как возрастает вклад электронной компоненты (обратной инжекции) в полный ток перехода (рисунок 5.40).
Рисунок 5.39 - Увеличение вклада тока Рисунок 5.40 - Уменьшение эффективности
обратной инжекции в полный ток на БУИ p-n перехода на БУИ
Физический смысл падения эффективности
p-n
перехода на БУИ заключается в том, что
присутствуют два «сорта» основных
носителей. Равновесные (примесные),
которые инжектируются в p-область
по закону
и неравновесные
,
которые также инжектируются в p-область.
Суммарный ток будет больше, чем инжекция
равновесных носителей. Следовательно,
он должен описываться более сильной
потенциальной зависимостью.
