Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Пособие Балашев.docx
Скачиваний:
1
Добавлен:
01.07.2025
Размер:
1.67 Mб
Скачать
    1. Метод молекулярных орбиталей. Теория поля лигандов.

Применение метода молекулярных орбиталей (ММО) к описанию электронного строения комплексных соединений было развито Оргелом, Йоргенсеном и Бальхаузеном в середине 50-х годов XX в. и получило название «теория поля лигандов» (ТПЛ). ТПЛ описывает образование комплекса и снятие вырождения d орбиталей металла не только за счет электростатического взаимодействия с лигандами, но и за счет перекрывания орбиталей металла и лигандов (определенной степени ковалентного связывания) с образованием делокализованных молекулярных орбиталей.

При построении молекулярных орбиталей комплекса используют традиционные приближения:

  1. Адиабатическое – комплекс рассаматривается при фиксированных координатах металла и лигандов без учета их колебаний.

  2. Валентное – в образовании молекулярных орбиталей принимают участие только валентные орбитали металла и групповые валентные орбитали лигандов.

  3. Построение молекулярных орбиталей комплекса проводят, используя линейную комбинацию валентных орбиталей металла и групповых орбиталей лигандов.

Рассмотрим электронное строение октаэдри­чес­ких комплексов с  связями металл-лиганд – например, [M(NH3)6]z+. Вален­т­ными орбиталями иона ме­тал­­ла Mz+ являются (n-1)d-, ns- и np-орбитали, содержащие q элект­ро­нов (q = 1 – 9). Каждая из 6 молекул NH3, выступающих в качестве -до­нор­ных ли­ган­дов, характеризуется наличием электронной пары на sp3-гиб­рид­ной орбитали донорного атома азота. Таким об­разом, в образова­нии МО комплекса участвуют 15 [9(Mz+) + 6(NH3)] исходных орби­та­лей, со­­держащих (q+12) электронов.

Октаэдрическое строение комплекса определяет расположение ли­ган­дов на осях X, Y, Z системы координат, характеризующихся 6-ю эквивалентными групповыми орбиталями, наиболее эф­фек­тивно перекрывающихся с валентными орбиталями иона ме­тал­ла.

Перекрывание сферической ns орбитали металла с групповой орбиталью лигандов, состоящей и суммы всех 6-ти sp3 гибридных орбиталей лигандов, приводит (рис. 4.9) к образования s связывающей и s* разрыхляющей МО.

Рис. 4.9. Образование s связывающей и s* разрыхляющей МО.

Ориентированные по осям координат nрx,y,z орбитали металла перекрываются с орбиталями лигандов на осях X, Y и Z (рис. 4.10) с образованием 3-х кратно вырожденных связывающих и разрыхляющих МО x,y,z и *x,y,z.

Рис. 4.9. Образование y связывающей и y* разрыхляющей МО.

Перекрывание dx2-y2 и dz2 орбиталей металла с групповыми орбиталями лигандов (рис. 4.10) приводит к образованию 2-х кратно вырожденных z2,x2-y2 связывающих и *z2,x2-y2 разрыхляющих МО.

Рис. 4.10. Образование z2,x2-y2 связывающей и *z2,x2-y2 разрыхляющей MO.

Орбитали металла dxy, dzy, dzx, не перекрывающиеся с орбиталями лигандов (рис. 4.11), образуют 3-х кратно вырожденные несвязывающие nxy,zy,zx МО.

Рис. 4.11. Образование несвязывающей nxy,zy,zx МО.

Таким образом, электронное строение [M(NH3)6]z+ описывается 12-ю делокализованных 7-цен­т­ровых МО и 3-х несвязывающих МО, локализованных на металле (рис. 4.12). Различие в энергетическом положении валентных орбиталей иона металла и групповых орбиталей лигандов определяет раз­личный вклад их волновых функций в МО комплекса – преимущественную локали­за­цию -связывающих МО на лигандах и *-разрыхляющих на металле.

Групповые орбитали лигандов

Рис. 4.12. Качественная диаграмма МО [M(NH3)6]z+ комплексов.

Распределение (12+q) электронов по МО комплекса в соот­вет­c­т­вии с прин­ципом Паули и минимума энергии определяет элек­тронную формулу [M(NH3)6]3+: (s)2(x,y,z)6(x2-y2,z2)4(nxy,xz,yz)x(*x2-y2,z2)y (x+y=q). Таким образом, независимо от природы иона металла электронное строе­ние [M(NH3)6]3+ комплексов ха­рактеризуется наличием 12 электронов на  связыва­ю­щих орбита­лях, преимущественно локализованных на лигандах. Заполнение несвязывающих nxy,xz,yz (t2g) и разрых­ля­ю­щих *x2-y2,z2 (e*g) орбиталей, преимущественно локализованных на металле, за­висит от числа электронов металла и энергетичес­ко­го зазора  между t2g и e*g орбиталями.

Для ионов металлов с d1, d2, d3 электронной конфигурацией (q = 1, 2, 3) ми­ни­мальной энергии комплекса отвечает последовательное заполнению электронами t2g орбиталей в соответствии с правилом Хунда – (t2g)1, (t2g)2, (t2g)3. При q = 4, 5, 6, 7 в зави­си­мос­ти от соотношения энергети­чес­кого зазора  и энергии спин-спаривания (Есп.-сп.) минимуму энергии системы отвечают две различ­ные электронные конфигура­ции, соответствующие низко- и высокоспиновым комплексам.

При  > Eсп.-сп. за­полняются электронами t2g орбитали – (t2g)4, (t2g)5, (t2g)6 и после этого разрыхляющие e*g орбитали, приводя при q = 7 к электронной конфигурации (t2g)6(e*g)1. При  < Eсп.-сп., для q = 4, 5 в соответствии с правилом Хун­да происходит последовательное запол­не­ние элек­т­ро­на­ми разрыхляющих e*g орбиталей – (t2g)3(e*g)1(t2g)3(e*g)2 и только для q = 6, 7 даль­ней­шее заполнение t2g орбиталей – (t2g)4(e*g)2, (t2g)5(e*g)2. Для q = 8, 9, 10 мини­маль­ной энергии комплекса соответствуют электронные конфигурации (t2g)6(e*g)2, (t2g)6(e*g)3 и (t2g)6(e*g)4.

ТКП

МВС

Рис. 4.13. Электронное строение [M(NH3)6]z+ в рамках ТПЛ, ТКП, МВС.

Сравнение описания элект­рон­ного стро­­­е­ния ок­таэдрических ком­­плексов в рамках ме­тодов ТПЛ, ВС и ТКП по­ка­зывает (рис. 4.13), что метод МО да­ет наиболее общий под­ход, включая методы ВС и ТКП как частные случаи. Шес­ти элек­т­рон­­ным парам лигандов на связы­ваю­­щих s, x,y,z и x2-y2,z2 МО в рам­ках метода ВС отвечает шесть до­нор­­но-акцептор­ных -свя­зей с учас­тием d2sp3 гиб­рид­ных ор­биталей метал­ла. Не­свя­зы­ва­ю­щие nxy,xz,yz и раз­рых­ляю­щие *x2-y2,z2 МО со­от­вет­ст­ву­ют расщепленным в ок­та­эд­ри­­ческом поле лиган­­дов dxy,xz,yz (t2g) и dx2-y2,z2 (eg) орби­та­лям ме­талла.

Ка­чественное согласие характера расщепления (n-1)d орбиталей металла на t2g и eg ор­би­­та­ли, раз­де­лен­ных энергетическим зазором  и распре­де­ле­ния электронов между ними, при­водящим к существованию низко­спи­новых и высокоспиновых коплексов по­ка­зы­вает, что в рам­ках ТПЛ могут быть использованы па­ра­метры ТКП – параметр расщепления кристаллическим полем, энергия стаби­ли­за­­ции крис­тал­ли­ческим полем, спектрохимический ряд лигандов.

Со­хра­няя все дос­то­инства ТКП, теория поля лигандов позволяет полу­чить более строгое и пол­ное описание электронного строения комп­лексов. ТПЛ показы­ва­ет, что характер химической связи в комп­лек­сных соединениях связан не только с кулоновским взаимодействием между ионом металла и лигандами, но и с определенной кова­лен­тной состав­ля­ю­щей. Это приводит к пере­­­распределению элект­рон­ной плотности между ме­таллом и ли­ган­дами в результате образования свя­зы­вающих и разрыхляющих МО. Рас­щеп­ленные в рамках ТКП (n-1)d орбитали метал­ла, в ТПЛ яв­ля­ются молекуляр­ны­ми орбиталями, имеющими смешанный металл-лигандный харак­тер. Для [ML6]z комплексов с  связями металл-лиганд, несмотря на преимущественно металлический характер, eg орбитали являются * разрыхляющими, а t2g – несвязывающими МО, способными участвовать в  связях с лигандами. Между лигандами и ио­ном ме­тал­ла, наряду с  донорно-акцепторным ML взаимодействием, возможны дополнительное  донорное и -акцепторное взаимодействия лигандов с металлом с участием dxy,xz,yz ор­би­та­лей.

В комплексах с  и  связями металл-лиганд к МО - и *-типа добавляются МО - и *-типа. Ли­ган­ды -до­но­ры характеризуются наличием низкоэнергети­чес­ких заполненных электро­на­ми орбиталей -типа, ко­торые при взаимодействии dxy,xz,yz ор­би­талями образуют трех­крат­но вырожденные t2g связывающие и t*2g разрыхляющие МО, в основном локализо­ван­ные на ли­гандах и ме­­енн. Наоборот, -ак­цепторные лиганды, характеризуются нали­чи­ем сво­бод­ных ор­би­­та­лей -типа, взаимодействие которых с dxy,xz,yz орбиталями ме­тал­ла приводит к образо­ва­нию t2g связывающих МО, преимущественно локализован­ных на металле, и разрыхляющих t*2g МО, в основ­ном ло­кали­зован­ных на ли­гандах (рис. 4.14).

L -  и  донор

L -  донор,  акцептор

L -  донор

Рис. 4.14. Влияние металл-лиганд  связей на величину параметра  [ML6]z комплексов.

ТПЛ показывает, что влияние лигандов на ве­ли­чину  и их положение в спектрохимическом ряду оп­ре­деляется как , так и  свойствами лигандов - -донор­ные свойства лигандов определяют поло­же­ние e*g орбиталей, тогда как -донорно-акцепторные свойства – по­ложение t2g орби­та­лей. Для лигандов с -донор­ны­ми свойствами dxy,xz,yz орбитали металла в комплексе являются несвя­зывающими t2g МО, тогда как  донорные и  акцепторные лиганды, характеризующиеся за­пол­нен­ными и сво­бодными орбита­лями -типа, эффек­тив­но взаи­мо­дейст­ву­ют с dxy,xz,yz орби­та­ля­ми металла. Это приводит к трансформации не­свя­зывающих t2g орбиталей металла либо в разрых­ляющие более высоко лежащие t*2g орбитали для -донор­ных лигандов, ли­бо в связы­ваю­щие более низко лежащие t2g ор­би­та­ли для -акцеп­тор­­ных ли­ган­дов. Именно сов­мест­ный характер - и -взаимо­дейс­твия лигандов с ме­тал­лом определяет их по­ложение в спектро­хи­ми­ческом ряду: I- < Br- < Cl- < F- < OH- < C2O42- ~ H2O < NCS- < NH3 ~ En < NO2- < CN- < CO

 доноры,  доноры

 доноры

 доноры,  акцепторы

В качестве комплексов с - и -связями рас­смот­рим электронное строение [CoF6]3- и [Co(CN)6]3-. Образование МО [CoF6]3- происходит в ре­зуль­тате взаи­мо­дейс­т­вия 9 валентных орбиталей Co(III) 3d64s04p0 и 18 валентных 2р6 ор­бита­лей ионов F-. Зна­чи­тель­ное энергетическое различие ва­лен­т­ных орбиталей Co(III) и 2s орбиталей F- позволяет пренебречь взамодействием. Таким образом, электронное строение [CoF6]3- ха­рак­те­ри­­зу­ет­ся наличием 27 МО, на которых распределены 42 электрона. Наряду с образованием s, x,y,z, x2-y2,z2 связывающих и *s, *x,y,z, *x2-y2,z2 разрыхляющих МО, перекрывание dxy, dxz, dyz орбиталей Co(III) c р орбиталями F-, перпедикулярных осям координат (рис. 4.15),

Рис. 4.15. Образование  связывающих и * разрыхляющих МО [CoF6]3-.

Образуются 15 МО – 2 делока­лизо­ван­­ных трех­кратно вырож­ден­ных xy,xz,yz свя­зы­­ва­ю­щих и *xy,xz,yz разрыхляющих и 9-ти кратно вырожденные несвязывающие np. Малая величина энергетического различия между *xy,xz,yz и *x2-y2,z2 орбиталями (малая величина ) приводит к распределению 42 элект­ро­нов по МО комплекса в соответствии с пра­ви­лом Хунда и высоко­спино­вому ха­­рактеру [CoF6]3- (рис. 4.16).

Рис. 4.16. Качественная диаграмма МО [CoF6]3- и [Co(СN6]3-.

В отличие от F- лигандов с - и -до­нор­ны­ми свойствами, CN- ионы -  донорные и -акцеп­тор­ные лиган­ды. Это связано с нали­чи­ем у CN- иона сво­бодных * ор­би­­та­лей, способных к пере­к­ры­ванию с dxy,xz,yz орбиталями Co(III) и об­ра­зо­ванию 9 МО: трехкратно вырожденных xy,xz,yz свя­­зы­ва­ю­щих, *xy,xz,yz раз­рых­ляющих и несвя­зы­ва­ющих np. Дативное металллиганд -взаимо­дейс­т­вие приводит к уве­ли­чению параметра , что определяет низкоспиновый ха­­рак­тер распределения электронов [Co(СN6]3- (рис. 4.16).

Наряду с октаэдрическими, для 3d ме­енны с  донорными лигандами слабого поля характерно образование тетраэдрических комплексов. В тетраэдрических TiCl4, VCl4, [CrO4]2-, [MnO4]- в образовании химических связей принимают учас­тие 21 атомная орби­таль: 3d-, 4s- и 4p-орбитали иона металла, со­дер­жащие q электронов, и 12 АО ли­гандов (по 3 р-орбитали от каж­до­го из лигандов), содержащие 24 электрона. Образование s, *s и трех­кратно вырож­ден­ных x,y,z, *x,y,z происходит в результате перекрывания 4s- и 4p-ор­би­талей ме­тал­ла с груп­по­выми орби­та­­ля­ми лигандов. Взаимодействие 3dxy,xz,yz, 3dx2-y2,z2 орбиталей металла с групповыми орбиталями лигандов определяет образование трех- и двухкратно вырожденных xy,xz,yz, *xy,xz,yz и x2-y2,z2, *x2-y2,z2 МО. Оставшиеся груп­­по­вые орби­тали лигандов обра­зуют трех­­крат­но вырожденные не­свя­­зы­­ваю­щие np МО (рис. 4.17). Распределение (24+q) электронов по 21 МО приводит к общей элект­рон­ной фор­­муле: (s)2(x,y,z)6(xy,xz,yz)6(x2-y2,z2)4(np)6(*x2-y2,z2)x(*xy,xzy,yz)y(*s)0(x,y,z)0 (x + y = q).

Групповые орбитали лигандов

Рис. 4.17. Качественная диаграмма МО тетраэдрических комплексов.

Таким образом, в тетраэдрических комплек­сах незави­симо от природы иона металла 24 электрона лигандов заселяют /-связывающие и несвязывающие МО в основном ло­ка­лизо­ван­ных на лигандах. Валентные d электроны металла за­полняют более высоколежащие разрых­ляющие *x2-y2,z2 и *xy,xzy,yz МО. В отличие от ТКП, связывающей окраску комплексов с оптическими переходами между расщепленными e и t d орбиталями металла, ТПЛ учитывает также оптические переходы, называемыми переходами переноса заряда лиганд-металл. Так, фиолетовая и оранжевая окраска [MnO4]- и [CrO4]2-, содержащих металлы в высшей степени окисления и характеризующихся свободными *x2-y2,z2 € и *xy,xzy,yz (t) МО отсутствие обусловлена оптическим переходом переноса заряда между заполненными np и свободными *x2-y2,z2 МО.

Групповые орбитали лигандов

Рис 4.18. Качественная диаграмма МО плоско-квадратных комплексов.

Для комплексов 3d металлов с лигандами сильного поля и 4d, 5d металлов независимо от природы лигандов образуются плоско-квадратные комплексы. Перекрывание ва­лент­ных (n-1)dx2-y2, (n-1)dz2, ns, npx и npy орбиталей металла с групповыми орбиталями лигандов на осях Х и У приводит к образованию связывающих s, x,y, x2y2, z2 и разрыхляющих s*, x,y*, x2y2*, z2* МО (рис. 4.18). Орбитали (n-1)dxy, (n-1)dxz, (n-1)dyz участвуют в об­­ра­зо­вании -МО. Причем, (n-1)dxy,-орбиталь перекрывается с 4-­мя p орбиталями ли­ган­дов, тогда как эквивалентные (n-1)dxz и (n-1)dyz орбитали только с 2-мя. Валентная nрz орбиталь металла и 4 групповые орбита­ли лигандов образуют несвязывающие МО.

Например, для [PtCl4]2- распределение по МО 32 валентных элек­т­рона (24 лиган­дов и 8 ме­енн) приводит к элект­рон­ной фор­­му­ле [PtCl4]2-: (s)2(x,y)4 (x2y2)2(z2)2(xy)2(xz,yz)4(np)8(*xz,yz)4(*z2)2(*xy)2(*x2-y2)0(npz)0(*s)0(x,y)0. Ком­п­лекс диа­маг­ни­тен и в соответствии электронами на связывающих и разрыхляющих МО харак­те­ри­зу­ется еди­ничной крат­ностью ин­ди­видуаль­ной свя­зи Pt-Cl (К = (16-8)/(24) = 1).

Рассмотрение моделей химической связи комплексов показывает, что, несмотря на простоту и наглядность МВС и ТКП, более сложная и менее наглядная модель ТПЛ, рассматривающая делокализованные лиганд-металл химические связи в результате образования молекулярных орбиталей, безусловно является наиболее строгой и полной моделью, описывающей физико-химические свойства комплексов.

Контрольные вопросы.

  1. В рамках ионной модели обоснуйте линейное, плоско-треугольное, тетраэдрическое и октаэдрическое строение комплексов с координационным числом 2, 3, 4 и 6.

  2. Какой тип гибридизации валентных орбиталей комплексообразователя соответствует образованию комплексов следующей структуры: а) линейной, б) плоско-треугольной, в) тетраэдрической, в) плоско-квадратной, г) тригонально-бипирамидальной, д) квадратно-бипирамидальной, е) октаэдрической?

  3. В рамках метода ВС опишите электронное строение, определите геометрическое строение, магнитные свойства и мультиплетность следующих комплексов: а) [CuCl2]-, б) [NiCl4]2-, в) [Ni(CN)4]2-, г) [PdCl4]2-, д) [Fe(H2O)6]2+, е) [Fe(CN)6]4-, ж) [IrCl6]3-.

  4. Приведите примеры лигандов:  доноров,  и  доноров,  доноров и  акцепторов. Для каких из этих лигандов характерно образование дативной лиган-металл химической связи?

  5. В чем причина расщепления пятикратно вырожденных d орбиталей комплексообразователя на более высокоэнергетические dx2-y2,z2 и более низкоэнергетические dxy,xz,yz орбитали?

  6. Что называется параметром расщепления кристаллическим полем? От каких параметров комплекса он зависит?

  7. Что такое спектрохимический ряд лигандов? С чем связано его название?

  8. Какой комплекс имеет большее значение : а) [Co(CN)6]3- или [Co(NH3)6]3+, б) [Co(H2O)6]3+ или [Rh(H2O)6]3+, в) [PtI4]2- или [PtCl4]2-, г) [NiCl4]2- или [PdCl4]2-?

  9. Определите какие из комплексов: [CuCl4]2-, [Cu(CN)4]2-, [Ni(CO)4], [FeCl4]-, [RhCl4]3-, [RuCl6]3- являются низкоспиновыми и какие высокоспиновыми?

  10. Обоснуйте в рамках ТКП изменение характерной окраски следующих комплексов: [CuCl2]- - бесцветный, [Cu(H2O)4]2+ - голубой, [Cu(CN)4]2- - бесцветный.

  11. Что такое энергия стабилизации кристаллическим полем? Рассчитайте величину ЭСКП [Co(CN)6]3-, [Co(CN)6]4-, [Co(H2O)6]3+, [Co(H2O)6]2+ комплексов и сделайте вывод об окислительно-восстановительных свойствах Co(III) и Co(II) в цианидном и аква- окружении.

  12. Обоснуйте следующие экспериментальные данные: а) комплексы Cr(III) независимо от лигандного окружения всегда парамагнитны, б) комплексы Zn(II) всегда диамагнитны, в) комплекс [Co(NO2)6]3- диамагнитен, тогда как комплекс [CoF6]3- парамагнитен.

  13. В чем отличие t2g и eg орбиталей при рассмотрении электронного строения октаэдрического комплекса в рамках ТКП и ТПЛ?

  14. Почему, несмотря на меньшее значение дипольного момента СО ( = 0.10 D) по сравнению с H2O (= 1.83 D), CO – лиганд сильного поля, а H2O – лиганд слабого поля?

  15. В рамках ТПЛ опишите электронное строение и определите крат­ность связи метал-лиганд для ок­со­ком­п­лек­сов мар­ган­ца: [MnO4]-, [MnO4]2-, [MnO4]3-. Сделайте вывод о характере изме­нения устойчивости в ряду ок­со­комплексов Mn(VII), Mn(VI) и Mn(V)?

  16. Определите природу оптических полос по­г­лощения, оп­ре­деляющих окраску комплексов: [V(H2O)6]3+ - зе­енный, [VF6]- - бесцветный, [VO4]3- - свет­ло-желтый.

  17. Сопоставьте в рамках метода ВС, ТКП и ТПЛ описание элек­т­ронного стро­е­ния, кратность связи метал-ли­ганд, магнитные и оп­тичес­кие свойства сле­ду­ю­щих комп­лек­сов: [Cr(NH3)6]3+, [Cr(CN)6]3-, [CrO4]2-. Какая из моделей и по­че­му дает более адекватное опи­­­са­ние электронного строения и свойств комплексов?