- •Вопрос №5. Назовите и приведите основное уравнение, описывающее скорость испарения вещества в вакууме. (8 баллов)
- •Вопрос №5. Назовите основные эксплуатационные показатели надежности.. (8 баллов)
- •Вопрос №5. Опишите структуру проводящих полимеров и механизм проводимости в этих твердых телах? (8 баллов)
- •Вопрос №5. Рассмотрите способы получения нанопорошков методом термического разложения и методом химического восстановления в газовой и жидкой фазах (8 баллов)
- •Вопрос №5. Нарисуйте качественный вид диаграммы состояния системы In – As. (8 баллов)
- •Вопрос №5. Дайте определение системе и элементу системы с точки зрения проектирования.. (8 баллов)
- •Вопрос №5. Опишите особенности конструкции датчиков атмосферного абсолютного давления на базе микроэлектромеханических систем. Изобразите схему.. (8 баллов)
- •Вопрос №5. Изобразите законы дисперсии акустических (а) и оптических (о) фононов в одномерном кристалле. (8 баллов)
- •(8 Баллов)
- •Вопрос №5. Определите технологический маршрут предэпитаксиальной обработки подложек Арсенида Галлия. (8 баллов)
- •Вопрос №5.. Перечислите инженерные методы управления качеством («7 простых статических методов») (8 баллов)
- •Вопрос №5. Приведите примеры фотохимических реакций, которые протекают при взаимодействии света с веществом в фоторезистах. (8 баллов)
- •Вопрос №5. На чем основан принцип (механизм) разрушения хрупких монокристаллических материалов при их механической обработке абразивами. (8 баллов)
- •Вопрос №5. Назовите основные причины возникновения отказов. (8 баллов)
(8 Баллов)
Вопрос №6. Сформулируйте принцип Паули (8 баллов)
Вопрос
№7.
В
полупроводнике с собственной концентрацией
носителей создан p-n
– переход. Найти равновесную толщину
области пространственного заряда при
уровнях легирования донорами
и акцепторами
Диэлектрическую
проницаемость принять равной 12... (12
баллов)
Вопрос №8. Дайте определения прямозонного и непрямозонного полупроводника. Изобразите зонные диаграммы арсенида галлия и кремния (12 баллов)
Вопрос
№9. Определить предельную
растворимость Al
в монокристалле Si
выращенном из расплава
(при
)
в условиях, при которых его эффективный
коэффициент распределения
=0,06.
(12 баллов)
Вопрос №10. В коллекторную цепь транзистора предполагается поставить резистор со значением сопротивления 1 кОм+-10% и номинальной мощностью рассеивания 0,5 Вт.
Ток, протекающий в коллекторной цепи транзистора Iк, равен 10 мА. Рассчитайте, какое значение коэффициента нагрузки будет иметь место для выбираемого резистора.
(16 баллов)
Билет утвержден на заседании кафедры ЭИУК4-КФ
протокол № ____ от «____» _______________ 2015 г.
Заведующий кафедрой ЭИУК4-КФ ___________________ В.Г.Косушкин
КФ МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2015 г. Направление подготовки: 28.04.02
ЭИУК4-КФ «Наноинженерия»
Вариант №ДМЭИУК410
Вопрос №1. Дайте определение термина «фонон». Какие фононы называются акустическими? Оптическими? (8 баллов)
Вопрос №2. Опишите, чем определяется минимальное давление криоконденсационного насоса. (8 баллов)
Вопрос №3. Объясните механизм образования области пространственного заряда в p-n – переходе. (8 баллов)
Вопрос №4. Перечислите 4 основные алгоритмические конструкции и дайте определение линейному алгоритму (8 баллов)
Вопрос №5. Определите технологический маршрут предэпитаксиальной обработки подложек Арсенида Галлия. (8 баллов)
Вопрос №6. Дайте определение FMEA. (8 баллов)
Вопрос №7. Изобразите плоскость (112) для простой кубической решётки (12 баллов)
Вопрос №8. Рассчитайте концентрации основных и неосновных носителей в кремнии легированном донорами до концентрации , собственная концентрация
ni =1010 см-3. (12 баллов)
Вопрос №9. Выберите правильное направление тока базы, тока эмиттера и коллектора транзистора в активном режиме и рассчитайте силу тока эмиттера, коллектора или базы, и, если это записано в условии, то и коэффициент передачи транзистора по току.
(12 баллов)
Вопрос №10. Рассчитать навеску примеси фосфора при выращивании монокристалла германия (γGe=5,33(г/см3) методом Чохральского при следующих исходных данных. Вес шихты 1 кг. Концентрация носителей n, ат/см3 = 5 1016 , .. (16 баллов)
Билет утвержден на заседании кафедры ЭИУК4-КФ
протокол № ____ от «____» _______________ 2015 г.
Заведующий кафедрой ЭИУК4-КФ ___________________ В.Г.Косушкин
КФ МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2015 г. Направление подготовки: 28.04.02
ЭИУК4-КФ «Наноинженерия»
Вариант №ДМЭИУК411
Вопрос №1. Приведите основные методы получения слоев диоксида кремния - основного диэлектрика в технологии нано- и микроприборов (8 баллов)
Вопрос №2. Назовите основные материалы нанотехнологии в производстве микроэлектромеханических устройств (8 баллов)
Вопрос №3. Какова скорость критического охлаждения для получения аморфных металлических материалов: а). чистых металлов; б). сплавов металл-металлоид? (8 баллов)
Вопрос
№4. В
полупроводнике p-
типа мгновенно создана избыточная
концентрация электронов. За время
она уменьшилась в
раз. Оценить время жизни электронов.
(8 баллов)
