- •Содержание
- •Введение
- •Глава 1. Методы упрочнения поверхностным пластическим деформированием
- •1.1. Вибрационные методы обработки в специальных средах
- •1.2. Дробеструйные методы обработки
- •1.3. Методы деформационного выглаживания
- •1.4. Ультразвуковая обработка
- •Список литературы к главе 1
- •Глава 2. Методы ионно-имплантационной обработки поверхностей деталей
- •С поверхностным слоем упрочняемого материала:
- •2.1. Низкоэнергетическая ионно-имплантационная обработка
- •2.1.1. Легирование вбиванием (легирование атомами отдачи)
- •2.1.2. Легирование ионами сверхмалых энергий
- •2.1.3. Глубокое проникновение по границам зерен. Стержнеобразные дефекты
- •2.1.4. Импульсный отжиг имплантационных слоев
- •2.1.5. Дефекты, возникающие при ионном легировании
- •Кроме этого, показано [20], что изменение дозы имплантируемого n от 1015 до 1018 см-2 приводит к экстремальному изменению -1 (рис. 2.6).
- •2.2. Высокоэнергетическая ионно-имплантационная обработка
- •2.3. Комбинированные методы обработки
- •Список литературы к главе 2
- •Глава 3. Методы нанесения защитных и специальных покрытий на лопатки турбомашин
- •3.1. Нанесение эрозионно- и коррозионностойких покрытий
- •Список литературы к п. 3.1
- •3.2. Нанесение жаростойких покрытий
- •3.2.1. Диффузионные покрытия
- •3.2.2. Конденсационные покрытия
- •3.2.3. Комбинированные покрытия
- •Список литературы к п. 3.2
- •3.3. Теплозащитные покрытия для лопаток турбин
- •Термобарьерные слои. Функцией термобарьерных покрытий является обеспечение термической изоляции лопатки. Покрытие около 200 мкм может снизить температуру лопатки более чем на 200c.
- •Список литературы к п. 3.3
- •3.4. Специальные конструкционные покрытия
- •Список литературы к п. 3.4
- •Список дополнительной литературы к п. 3.4
- •Глава 4. Специальное оборудование для обеспечения высокоэффективных технологий защитно-упрочняющей обработки поверхности деталей гтд
- •4.1. Оборудование для нанесения газотермических покрытий
- •4.1.1. Электродуговая металлизация
- •Для нанесения покрытий методом электродуговой металлизации используется: комплект оборудования электродуговой металлизации тсзп-ld/u2 300 или тсзп spark 400.
- •- Производительность при напылении цинка: 30 кг/ч;
- •4.1.2. Газопламенное напыление
- •Характеристики установки для газопламенного напыления тсзп-mdp-115 указаны в табл. 4.2.
- •Характеристики установки тсзп-mdp-115
- •Горелка glc-720 Характеристики горелки glc-720 для газопламенного напыления:
- •- Окислитель – кислород.
- •Горелка ak-07 Горелка (рис. 4.13) предназначена для газопламенного нанесения защитных покрытий различного состава.
- •Твердость – 1100 hv;
- •4.1.3. Плазменное напыление
- •Технические характеристики установки тсзп mf-p-1000:
- •Установка тсзп mf-p-1000 включает:
- •Система управления установкой (рис. 4.26) разработана на базе контроллера Simatic s7-300, смонтирована в пылезащищенном шкафу.
- •Холодильник vwk-270/1-s (рис. 4.30) Техническая характеристика:
- •Холодильник pc – 250 Холодильник рс-250 представлен на рис. 4.32.
- •Технические характеристики плазмотронов Плазмотрон f4 (рис. 4.33) Техническая характеристика плазмотрона f4:
- •Пистолет к-2. Технические характеристики:
- •Комплект оборудования для плазменной наплавки тсзп-pta-4
- •Перемещатели горелок
- •Список литературы к п. 4.1
- •4.2. Установки для нанесения покрытий методами конденсации в вакууме
- •2. Установка осаждения покрытий с вертикально-протяженным паровым потоком
- •С вертикально-протяженным паровым потоком
- •Список литературы к п. 4.2
- •4.3. Установки для комплексной ионно-плазменной и ионно-имплантационной обработки деталей
- •Список литературы к п. 4.3
- •4.4. Специальное технологическое оборудование для высокоэффективной обработки деталей
- •4.4.1. Катоды, использующие магнитные поля
- •4.4.2. Вакуумно-дуговые источники плазмы
- •4.4.3. Дополнительные устройства для улучшения качества работы вакуумных испарителей
- •Список литературы к п. 4.4
- •Заключение
2. Установка осаждения покрытий с вертикально-протяженным паровым потоком
Характеристики установки с вертикально-протяженным паровым потоком (рис. 4.49):
– cкорость осаждения до 7 мкм/мин при вращении 5-и подложек 470×370 мм;
– максимальная толщина слоя – 1000 мкм;
– неравномерность по толщине +/− 1–4%;
– температура подложек 4–100°С.
Рис. 4.49. Установка для осаждения покрытий
С вертикально-протяженным паровым потоком
3. Установка МАП-2. Установка МАП-2 (рис. 4.50) предназначена для нанесения и снятия защитных, жаростойких, эрозионностойких, изностойких и других видов покрытий ионно- плазменным способом в вакууме на деталях, имеющих ось вращения.
Рис. 4.50. Установка МАП-2:
1 – вакуумная камера; 2 – система перемещения и охлаждения катода;
3 – пульт управления
Установка МАП-2 оснащена современной системой управления на базе промышленного компьютера и PLC-контроллеров, новыми инверторными блоками питания на базе IGBT-технологий для ионного источника и для дугового испарителя, 3-канальной системой газонапуска с возможностью автоматического регулирования суммарного давления смеси газов в технологической камере, что резко расширяет функциональные и технологические возможности установки, а также увеличивает ее производительность. Полная автоматизация процесса с высокоточной стабилизацией технологических параметров посредством современных устройств питания и управления обеспечивает воспроизводимость процессов с повышением качества покрытий. Применение в электрооборудовании элементной базы лучших мировых производителей увеличивает надежность работы установки.
Основные технические характеристики установки МАП-2:
максимальные габариты обрабатываемых деталей:
- диаметр описанной окружности 120 мм;
- длина изделия 150 мм;
давление в камере при нанесении покрытий 2,66×10-2–6,65×10-3 (2×10-4 - 5×10-5);
давление охлаждающей воды на входе 9,8×10-4–19,6×10-4Па (кгс/см2);
габаритные размеры установки 4100×2500×2600 мм;
масса установки 3000 кг.
ФГУП «ВИАМ» является главным разработчиком технологии, промышленного оборудования и материалов, которые широко используются в серийном производстве ионно-плазменных защитных и упрочняющих покрытий на лопатки и других деталей авиационных ГТД.
ФГУП «ВИАМ» начал интенсивно заниматься ионно-плазменными процессами с 1975 г. Новая технология разрабатывалась с целью получения многокомпонентных покрытий из сплавов системы Me-Cr-Al-Y как альтернатива известному процессу электронно-лучевого напыления. При этом подразумевалось, что в отличие от процесса осаждения в вакууме из паровой фазы, где энергия частиц определяется температурой испарения и составляет доли эВ, ионное осаждение из плазменного потока обеспечит полностью управляемый процесс конденсации благодаря возможности управления энергиями частиц, взаимодействующих с подложкой.
Эта технология получила название «вакуумная плазменная технология высоких энергий». Термин «высокие энергии» при этом означал, что конденсация имеет место при энергиях частиц на 1-2 порядка больших, чем при термическом испарении. Именно высокие энергии частиц, взаимодействующие с подложкой, являются определяющим в новой технологии, так как обеспечивают очистку подложки на атомарном уровне, максимально возможную адгезию покрытия к подложке, позволяют получить субмелкозернистую и плотную структуру конденсата, его высокую пластичность. Возможность генерации металлической плазмы при помощи испарения материала катода вакуумной дугой, предопределила простоту и надежность технологического оборудования для нового технологического процесса (рис. 4.51).
Для управления процессом необходимо контролировать всего 3 или 4 параметра: ток вакуумной дуги, напряжение на подложке, время процесса, а для плазмохимических процессов получения керметных покрытий – давление реактивного газа.
Рис. 4.51. Сменные катоды из испаряемых материалов,
используемые для нанесения многокомпонентных ионно-плазменных покрытий
По сравнению с существующими традиционными технологиями получения защитных покрытий на лопатках ГТД (шликерное и порошковое алитирование, электронно-лучевое осаждение и др.), ионно-плазменный процесс характеризуется простотой, более широкими возможностями получения защитных покрытий, обеспечивает высокое качество «толстых» защитных и упрочняющих покрытий при одновременном снижении более чем в два раза стоимости покрытий в сравнении с электронно-лучевым методом нанесения.
4. Установка ВИАМ МЭШ-50. Установка ВИАМ МЭШ-50 (рис. 4.52) предназначена для высокоскоростного ионно-плазменного осаждения многослойных защитных и упрочняющих покрытий на внешнюю поверхность деталей машин. Толщины наносимых покрытий от единиц микрон до 120–200 мкм. Установка по своим технологическим возможностям не имеет аналогов и рекомендуется для нанесения многокомпонентных конденсированных, диффузионных и конденсационно-диффузионных защитных покрытий на лопатки турбин и компрессоров авиационных транспортных и энергетических силовых установок, а также для нанесения упрочняющих и защитных покрытий на детали машин, режущий и штамповый инструмент.
Рис. 4.52. Установка ВИАМ МЭШ-50
Технические характеристики установки ВИАМ МЭШ-50:
Размер изделия (L×Н) 60(120)×400 мм.
Количество носителей на карусели – 24 (12) шт.
Скорость испарения – до 800г/час.
Количество дуговых испарителей 4 (5) шт.
Ток дуговых испарителей 300–2400 А.
Запас испаряемого материала обеспечивает 100 ч непрерывной работы. Установка при работе в одну смену может обеспечить покрытие от 200 до 250 тыс. турбинных лопаток в год. Система управления размещена в шкафу управления и оснащена промышленным компьютером Advantech с плоской цветной панелью оператора и PLC-контроллером типа ADAM5510. Блок смещения на 50 кВт (1000 В, 50 А) с водяным охлаждением и устройством дугогашения размещен в отдельном шкафу. Блоки питания дуговых испарителей инверторного типа Sirion 500 размещены на отдельных этажерках. Управление откачкой от PLC-контроллера ADAM-5510. Компакт-датчики фирмы Inficon измеряют низкий и высокий вакуум и передают текущие значения на экран компьютера. Система откачки стандартная: механический насос и диффузионный насос. Управление затвором, клапанами от контроллера через пневмораспределитель Festo. Контроль температуры изделия определяется оптическим пирометром (0–800°С). Система ионной очистки стандартная с инверторным блоком питания мощностью 3 кВт. Система газонапуска 3-канальная на базе РРГ-9, один канал на ионный источник и 2 канала на дуговые испарители. Управление устройством поджига, заслонками – через пневмораспределители Festo и инверторные источники питания. Катоды дуговых испарителей цилиндрического типа с вращением для равномерной выработки.
5. Установка МЭШ-10
Основные технические характеристики установки МЭШ-10 (рис. 4.53):
- габаритные размеры 6900×2900×2200 мм;
- максимальная высота обрабатываемых деталей 300 мм;
- масса установки 4000 кг;
- питание – ~50 Гц / 380 В;
- потребляемая мощность – 40 кВт;
- управление циклом откачки – ручное с автоматическим отключением;
- управление технологическим процессом – автоматическое и ручное;
- количество каналов для рабочих газов – 4;
- расход воды, (холодная/горячая) – 2/0,3 м3/ч;
- время откачки – 25 мин;
- длительность рабочего цикла – от 15 до 35 мин;
- технологическое устройство – 1-ионный источник, 2-магнетрона;
- размер стола для обрабатываемых изделий – 0,9×1,5м.
Рис. 4.53. Установка МЭШ-10
6. Установка для нанесения многослойных покрытий в вакууме. Установка для нанесения многослойных покрытий в вакууме (пат. РФ № 2036246) (рис. 4.54) состоит из вакуумной камеры 1 в виде кольца коробчатого сечения, цельносъемной крышки 2, подложкодержателей 3 с подложками 4, установленными на катках 5, размещенных на направляющих 6 и соединенных между собой шарнирами 7 в виде замкнутого конвейера, механизма 8 циклического передвижения, механизма 9 вращения подложек, ионно-плазменных источников 10, системы 11 вакуумной двухступенчатой откачки, вертикальных и горизонтальных люков 12 с заглушками.
Рис. 4.54,а. Установка для нанесения многослойных покрытий в вакууме
[Пат. РФ № 2036246]:
(вид сверху)
Рис. 4.54,б. Установка для нанесения многослойных покрытий в вакууме
[Пат. РФ № 2036246]:
сечение А-А:
1 – вакуумная камера; 2 – цельносъемная крышка; 3 – подложкодержатель; 4 – подложки; 5 – катки; 6 – направляющие; 7 – шарниры; 8 – механизм циклического передвижения;
9 – механизм вращения подложек; 10 – ионно-плазменные источники; 11 – система вакуумной двухступенчатой откачки; 12 – вертикальные и горизонтальные люки
с заглушками; 13 – загрузочные люки; 14 – выгрузочные люки; 15 – смотровые окна;
16 – натекатели газа; 17 – источники подогрева загрузочных 13 и выгрузочных 14 люков
со смотровыми окнами 15, натекателей газа 16 и источников подогрева 17
Установка работает следующим образом. После установки необходимого количества в люках 12 ионно-плазменных источников 10 из различных компонентов в крышке 2 и боковой стенке камеры 1 через загрузочный люк 13 со смотровым окном 15 устанавливаются подложки 4, циклично передвигая с помощью механизма передвижения 8 замкнутый конвейер, образованный соединенными с помощью шарниров 7 между собой подложкодержателями 3 на катках 5 по направляющим 6.
После достижения с помощью системы 11 двухступенчатой вакуумной откачки разрежения и напуска необходимого газа через натекатели 16 включаются подогреватели 17, против часовой стрелки циклично передвигается замкнутый конвейер и производится напыление поочередно каждым из ионно-плазменных источников 10, одновременно вращая во время остановки конвейера и напыления механизмом 9 вращения подложек 4. Выгрузка производится через выгрузочный люк 14.
Профилактический осмотр и ремонт устройства производится при снятой цельносъемной крышке 2.
