- •1.Аморфты және сұйық материалдарды алу және зерттеудің негізгі этаптары ( кезеңдері )
- •1) Газ тәріздес металдарда
- •2) Ионизацияланған металдарда
- •2.«Аморфты және сұйық материалдар» курсының анықтамасы, теориялық негіздері.
- •3.Вакуумдық техника
- •4.Форвакуумдық сорғыш
- •5Диффузиялық сорғыш.
- •6Вакуумдық лампалар жұмыс істеу принципі
- •7.Қатты денелердегі химиялық байланыстардың типтер
- •8.Аморфты және сұйық материалдар.
- •10Кристалдың және ретсіз заттардың энтальпиясы мен энергиясы
- •11Термиялық әдіспен жұқа қабықшаларды орналастыру
- •14.Тасымалдаушылардың потенциалдық энергиясындағы кездейсоқ және кездейсоқ емес ауытқулар
- •15.Магнетрондық әдіспен аморфты көміртек қабықшаларын алу
- •16. Аморфты металдарды алу жолдары.
- •Аморфты металдарды бірнеше әдістермен алу;
- •19. Рентген құрылымдық сараптау.
- •21.Нейтрондар дифракциясы
- •23. Аморфты қабатты күлгін разрядта орналастыру.
- •25.Газдық фазадан аморфты көміртек қабықшаларын алу.Булы фазада химиялық орналастыру. ( cvd)
- •26.Сутегі ендірілген аморфты кремнийді алу жолдары
- •27.Әртүрлі құрылымдық модификациада аморфты алмазтәріздес көміртегі қабықшаларын алу
- •28.Ретсіз орналасқан атомдық құрылымдағы алыс және жақын қатарлары туралы түсінік.
- •29.Бекітілген қатар.
- •33. Атомдар орналасуындағы жақын көршілер саны.
- •34. Жоғары жиілікте тозаңдату әдісімен алынған халькогенидті жартылай өткізгіштердің электрөткізгіштігін анықтау.
- •35. Ретсіз құрылымды жартылай өткізгіштің жады мен айырып қосу эффектісі.
- •36.Шыны тәріздес заттар
- •38Тотыққан шынылардың химиялық байланысы, құрамы, құрылысы.
- •39.Көміртек ендірілген аморфты кремний қабықшаларын зерттеу
- •40.Кристалл емес жартылай өткізгіштер негізінде жасалған резистер мен оптикалық ақпарат тасушылар.
- •41Шыны тәріздес халькогенидті жартылай өткізгіштер. Аморфты германий, кремний, көміртегі
- •42Аморфты материалдардың оптикалық қасиеттерін зерттеу
- •43Аморфты және сұйық металдар және асқын өткізгіштер. Асқын өткiзгiштiк
- •44Аморфты металдар құрылысы. Меншікті кедергі. Орташа атомдық магнит моменті.
- •46.Андерсон бекітілуі. Бекітілген және бекітілмеген электрондық күйлер. Электрондық күйлердің тығыздығы
- •47.Аморфты материалдардың Раман спектрі.
- •48. Ретсіз құрылымды жартылай өткізгіштердегі және диэлектриктердегі электрондардың энергетикалық спектрі. Зоналық модельдер.
- •49. Құрылымның өздік ақаулары.
- •51. Ығыспалы қозғалгыштыкты аныктау әдісі. Ти- жане вч- қабыкшалардағы As2Se3 и As2s3 заряд тасымалдаушыларының ығыспалы қозғалгыштығы.
- •52. Электрография
- •53. Ионды плазмалы тозаңдатумен алынған As-Se системалы аморфты қабыкшалардағы электрондардың энергетикалық спектрінің ерекшеліктері
- •54. Аморфты алмазтәріздес көміртекті (а-с:н) қабыкшаларының электрондық жане кұрылымдық қасиеттерін модификациалау.
- •60 Химиялық байланыс түріне тәуелді кристалдық материалдардың физикалық
49. Құрылымның өздік ақаулары.
Реті жоқ конденсирленген ортадағы құрылымды дефектілердіс Андерсон байқаған. Оның кейінгі дамуын Мотт,Девис, Стрит,(МДС) Кастнер, Адлер және Фринцис(КАФ) жүзеге асырды. Мотт пен Стрит құрылымды дефектілер туралы көзқарасында атомдардың бір реттілігінде химиялық бұзылуды қарастырды. Олрдың айтуы бойынша, бұл бұзылулар құрылымдағы дефектілердің D0, D+, D- түрлеріне алып келеді.Кері корреляциялық энергияға U- байланысты D- D+ зарядталған дефектілердің пайда болуы энергетикалық үнемді. D0 және D- дефектілерге мына схема бойынша ыдырайды:
2D0 D+ + D-
Мұндай реакция экзотермиялық болады.Құрылымды дефектілерге деген көзқарасқа Кастнер, Адлер және Фрицще (КАФ) жұмыстарындағы a-Se мысал бола алады. Олар ажыратылмайтын жұп электрондарды (LP-эл) қолдана отырып, халькоген атомдарында C+n +C-n ауыспалы валенттігі бар жұптардың (VAP)пайда болатынын атап айтты және C+n ,C-n ,C0n (мұндағы С-халькоген атомы) белгілеулерін енгізді. Жоғарғы индекстер дефектінің заряд күйін, төменгі индекстер-байланыс санын көрсетеді. VAP моделіндегі C03 нейтралды дефект, оның ыдырауы:
2 C03 C+3 + C-1
Бұл реакция энергияның шығуымен жүретіндігі көрсетілген болатын. Осылайша, a-Se-гі құрылымды меншікті дефект үш C+3 және бір C-1 валентті байланыстардың зарядталған центрі болады. Мышьяк атомдарымен байланысқан құрылымды дефектінің белгіленуі:spP+4, pP2-, мұндағы P- пниктед.Аморфты мышьяктағы негізгі құрылымды дефектілер нейтралды центр pP20 және spP03 болып табылады. Ал бұл екі центрлердің ара қатынасындағы реакция басқа қосымша центрлердің тууына алып келеді:
p P20+ spP03 pP03+ spP+4
КЕДО-гі құрылымды дефектілерге деген көзқарас Ферми деңгейінің орналасуын да түсіндіріп өтеді, сонымен қатар фотоқұрылымды ауысу, қайта қосу эффекті, фотоиндерцирленген ЭПР т.б.
Айтылған дефектілер энергетикалық және құрылымды диаграммалары 2-суретте көрсетілген. Фотолюминесценция және фотоиндуцирленген ЭПР қарастырылған модельдерде тек бір-бірімен оқшауланған заряды бар дефект центрлерімен байланысқанын атап өтейік, бірақ Фотолюминесценцияның концентрациясы ~1020 см-3-қа жететін қоспаға сезімтал емес нейттралды дефектілермен байланыста болатынын Хадженсом мен Кастнер жоғарыда айтты. Әртүрлі әдістермен алынған шынының қасиеттерін бөлшектеніп зарядталған байланыстардың және ауыспалы валенттігі бар жұптар моделдері түсіндіреді. Модельді көзқарасқа сүйене отырып, оң зарядталған қоспалар дефект центрлерімен бірге теріс зарядтармен конпенсацияланады, нәтижеде Ферми деңгейі ығысады. Егер тыйым салынған зонадағы меншікті күйдің тығыздығын кемітсе, онда КЕДО-ғы қоспаға сезімталдық артады. Мұндай операцияны конпенспация жолымен алуға болады, не II немесе III топтағы элементтерді енгізу, не үлкен электр терістілігі бар атомдарды енгізу арқылы.
12.2-сурет. Құрылымдағы дефектінің энергетикалық деңгейінің диаграммасы
МДС және КАФ модельдері шын мәнінде толығымен КЕДО үшін дұрыс бола алады. НП( Кристалды емес жартылай өткізгіш)-да сыртқы күш әсерінен орбиталь дефицитті төртэлектронды үш центрлі байланысы бар квази молекула түріндегі нейтралды - диамагнитті дефекті пайда болуы мүмкін.Құрылымды дефектілердің модельдері модификациялануы және дамуы мүмкін, бірақ кристаллды емес жартылайөткізгіш теориясының негізгі жетістігі МП-ң электронды қасиеттері, дефектілер және олардың құрылысы болып табылады,сәйкесінше, бұл дефектінің концентрациясы мен табиғатын өзгерте отырып, кристалды емес жартылайөткізгіштердің электронды қасиеттерін де өзгертуге болады.
