- •1.Аморфты және сұйық материалдарды алу және зерттеудің негізгі этаптары ( кезеңдері )
- •1) Газ тәріздес металдарда
- •2) Ионизацияланған металдарда
- •2.«Аморфты және сұйық материалдар» курсының анықтамасы, теориялық негіздері.
- •3.Вакуумдық техника
- •4.Форвакуумдық сорғыш
- •5Диффузиялық сорғыш.
- •6Вакуумдық лампалар жұмыс істеу принципі
- •7.Қатты денелердегі химиялық байланыстардың типтер
- •8.Аморфты және сұйық материалдар.
- •10Кристалдың және ретсіз заттардың энтальпиясы мен энергиясы
- •11Термиялық әдіспен жұқа қабықшаларды орналастыру
- •14.Тасымалдаушылардың потенциалдық энергиясындағы кездейсоқ және кездейсоқ емес ауытқулар
- •15.Магнетрондық әдіспен аморфты көміртек қабықшаларын алу
- •16. Аморфты металдарды алу жолдары.
- •Аморфты металдарды бірнеше әдістермен алу;
- •19. Рентген құрылымдық сараптау.
- •21.Нейтрондар дифракциясы
- •23. Аморфты қабатты күлгін разрядта орналастыру.
- •25.Газдық фазадан аморфты көміртек қабықшаларын алу.Булы фазада химиялық орналастыру. ( cvd)
- •26.Сутегі ендірілген аморфты кремнийді алу жолдары
- •27.Әртүрлі құрылымдық модификациада аморфты алмазтәріздес көміртегі қабықшаларын алу
- •28.Ретсіз орналасқан атомдық құрылымдағы алыс және жақын қатарлары туралы түсінік.
- •29.Бекітілген қатар.
- •33. Атомдар орналасуындағы жақын көршілер саны.
- •34. Жоғары жиілікте тозаңдату әдісімен алынған халькогенидті жартылай өткізгіштердің электрөткізгіштігін анықтау.
- •35. Ретсіз құрылымды жартылай өткізгіштің жады мен айырып қосу эффектісі.
- •36.Шыны тәріздес заттар
- •38Тотыққан шынылардың химиялық байланысы, құрамы, құрылысы.
- •39.Көміртек ендірілген аморфты кремний қабықшаларын зерттеу
- •40.Кристалл емес жартылай өткізгіштер негізінде жасалған резистер мен оптикалық ақпарат тасушылар.
- •41Шыны тәріздес халькогенидті жартылай өткізгіштер. Аморфты германий, кремний, көміртегі
- •42Аморфты материалдардың оптикалық қасиеттерін зерттеу
- •43Аморфты және сұйық металдар және асқын өткізгіштер. Асқын өткiзгiштiк
- •44Аморфты металдар құрылысы. Меншікті кедергі. Орташа атомдық магнит моменті.
- •46.Андерсон бекітілуі. Бекітілген және бекітілмеген электрондық күйлер. Электрондық күйлердің тығыздығы
- •47.Аморфты материалдардың Раман спектрі.
- •48. Ретсіз құрылымды жартылай өткізгіштердегі және диэлектриктердегі электрондардың энергетикалық спектрі. Зоналық модельдер.
- •49. Құрылымның өздік ақаулары.
- •51. Ығыспалы қозғалгыштыкты аныктау әдісі. Ти- жане вч- қабыкшалардағы As2Se3 и As2s3 заряд тасымалдаушыларының ығыспалы қозғалгыштығы.
- •52. Электрография
- •53. Ионды плазмалы тозаңдатумен алынған As-Se системалы аморфты қабыкшалардағы электрондардың энергетикалық спектрінің ерекшеліктері
- •54. Аморфты алмазтәріздес көміртекті (а-с:н) қабыкшаларының электрондық жане кұрылымдық қасиеттерін модификациалау.
- •60 Химиялық байланыс түріне тәуелді кристалдық материалдардың физикалық
34. Жоғары жиілікте тозаңдату әдісімен алынған халькогенидті жартылай өткізгіштердің электрөткізгіштігін анықтау.
Тозаңдату процесі – нысананы жоғарғы энергиялы иондармен атқылағанда, нысана материалдың бетінен атымдардың ұшып шығу процесі болып келеді. Сонымен қатар, жоғарыдағы анықтамаға сәйкес, тозаңдату процесі улау (травление) процесі ретінде қарастырылып, бетті тазалау және оны профильдеу үшін қолданылады. Тозаңдату кезінде нысана материалдың жойылуы және орын ауыстыруы (транспортировка) болатындықтан, бұл әдіс жұқа қабықшаларды алу әдісі ретінде де қолданылады.
Электрлік қасиеттері. Электрлік қасиеттері. Электрлік өткізгіштігі.Берілген барлық модельдердің жасалған диэлектрдік құрылымның (ЖДҚ ) заряд өткізгіштігі өте үлкен температурада локальдық емес жағдайда орындалады және кристалдық емес жартылай өткізгіштер мынадай ұғымда сипатталады:
(13.3)
Локальдық күй аумағында заряд тасушылардың көшуі термиялық активті секірмелер жолымен жүзеге асады және мынадай тәуелділікпен сипатталады:
(13.4)
м/ғы:
секірменің
активация энергиясы,
локальдық
күй тығыздығындағы құйрық шетінің
энергиясы (сәйкесінше Мотт моделімен).
Одан басқа секірмелі тасымалдаушының көшуі Ферми деңгейіне жақын локальды күйде жүзеге асады. Бұл жағдайда өткізгіштік мына қатынаспен сипатталады:
(13.5)
мұндағы:
Т→∞ ұмтылғандағы өткізгіштер;
Төменгі температурада жасалған диэлектрдік құрылымның (ЖДҚ) өткізгіштігі Мотт заңымен сипатталады:
(13.6)
мұндағы: А, В- тұрақты өлшемдер.
13.4-суретте келтірілген заряд тасымалдаушылардың көшу механизмі ескерілгендегі өткізгіштіктің температуралық тәуелділігі келтірілген. Экспонента алдындағы С көбейткішіне назар аударайық, яғни Т→∞ ұмтылғанда өткізгішке жалпылама өрнекте
(13.7)
13.4-сурет.
Жасалған диэлектрдік құрылымның (ЖДҚ
) өткізгіштігінің температураға
тәуелділігі (11.3-11.6).
Мотт
бойынша, мынадай мәнде С~
өткізгіштік локальдық емес күйде жүзеге
асады, локальдық күйде – келесі мәнде
С~10
,
ал С~
өткізгіштік Ферми деңгейіне жақын
орналасады.13.5-суретте әр түрлі жасалған
диэлектрдік құрылымның (ЖДҚ ) -дар үшін
өткізгіштің температураға тәуелділігі
көрсетілген. 11.7-суретте 1
Т→0
жоғарғы температуралық аймақта С-ң
интервалындағы мәндері сәйкес келетіні
көрініп тұр, яғни Моттқа сәйкес
температураның бұл аймағында өткізгіштік
заряд тасымалдаушылардың делокализация
күйіне дейін көшуі арқылы жүреді.
13.5-сурет. Жасалған диэлектрдік құрылымның
(ЖДҚ ) өткізгіштігінің температураға
тәуелділігі:
а-
үшін С өлшемі мынадай ~10
,
ол «құйрық» зонадағы локальдық күйдегі
заряд тасымалдаушылар көшуінің секірмелі
механизмін көрсетеді. Активация
энергиясының өткізгіштігі
да
көбінесе жасалған қабықша 0.3 эВ-тан 1.2
эВ интервал аралығында жатады және ол
шамамен тыйым салынған зонаның жарты
оптикалық енін құрайды.
Термо-ЭҚКті зерттеу барысында жасалған диэлектрдік құрылымның (ЖДҚ) құрылған, төмендеткіш кристалдық емес жартылай өткізгіштердің көбі кемтіктік өткізгіштікке ие.
