- •ВЛияние геометрических параметров процесса термовакуумного напыления на распределение плеНки по толщине
- •1.Цель работы
- •2.Теоретическая часть
- •2.1. Закономерности испарения металлов в вакууме
- •2.2. Характер распределения испаряемого вещества в пространстве
- •2.3. Распределение пленки по толщине для испарителей
- •2.4. Распределение пленки по толщине для кольцевого и дискового испарителей.
- •2.5. Конденсация пара на поверхности подложки
- •2.6. Техника термовакуумного напыления
- •2.7. Контроль процесса напыления
- •3.Задание для выполнения
- •4. Контрольные вопросы
- •Приложение 1
- •Физические параметры элементов
- •Приложение 2
- •Термодинамические параметры элементов
2.3. Распределение пленки по толщине для испарителей
с малой поверхностью и точечных испарителей
Для анализа распределения пленки по толщине используют, как правило, идеальную модель испарения и конденсации, которая предусматривает выполнение законов Ламберта-Кнудсена и формулы Лэнгмюра (2.1) для скоростей испарения, а также полную конденсацию паров испаренного вещества на подложке (коэффициент конденсации равен 1 независимо от материала подложки и интенсивности испаренного вещества). Процесс испарения происходит с зеркальной поверхности расплава.
Распределение испаренного вещества описывается уравнениями (2.3) и (2.4), в зависимости от угла падения и расстояния от испарителя до подложки. Следовательно, профиль толщины пленки может быть выведен для любой формы площади подложки и любого положения подложки относительно испарителя. Однако обычно используют плоские подложки и располагают их параллельно эффективной плоскости испарения.
Для того чтобы перейти от массы к толщине пленки, выделим малое количество вещества с массой dMr, которое занимает объем dArdпл. толщину пленки запишем в виде
,
(2.5)
где ρ – плотность материала подложки.
Для плоскопараллельной подложки, отстоящей от испарителя на расстоянии h, угол падения θ равен углу испарения φ и cos θ = cos φ = h/r. Схематически система испаритель – подложка представлена на рис.2.3. Расстояние r от испарителя до элемента подложки dAr при данном h меняется с расстоянием l от центра подложки до элемента dAr по закону r2 = l2 + h2. если эти соотношения подставить в (2.3) и 2.4), то будем иметь: для испарителя с малой площадью
,
(2.6)
для точечного испарителя
.
(2.7)
Оба типа испарителя можно охарактеризовать с помощью величины отношения d/do, где do – толщина в центре подложки при l = 0 (рис.2.3.).
|
Рис.2.3. Испарение на плоскопараллельную подложку |
Тогда для испарителя с малой площадью
,
(2.8)
для точечного испарителя
.
(2.9)
2.4. Распределение пленки по толщине для кольцевого и дискового испарителей.
На практике испарение осуществляют из испарителей, поверхность которых не является бесконечно малой. При использовании испарителей конечных размеров распределение пленок по толщине можно определить суммированием в данной точке по толщине вещества, испаренного из всех элементов dAe испарителя. При этом предполагается, что испарение происходит из всех точек испарителя с одной и той же скоростью.
|
Рис. 2.4. Испарение из элемента dAe кольцевого испарителя на элемент подложки dAr в плоскости Х У
|
Рассмотрим
модель испарителя в виде круглого диска
радиуса s
поверхность испарения, которого
параллельна плоской поверхности
подложки. Следовательно, распределение
испаренного вещества по подложке должно
быть центрально-симметричным и описываться
одной переменной, а именно, расстоянием
от центра l.
Схематично изображение системы
испаритель - подложка приведено на
рис.2.4. Дифференциальный элемент
поверхности тонкого кольца можно
представить в виде
,
где α
-
угол между l
и проекцией s
на плоскость испарителя, то
.
Подстановка этого соотношения, а
также уравнения (2.5) в выражение (2.3) для
испарителя с малой поверхностью приводит
к следующему выражению для распределения
по толщине от дискового испарителя
.
(2.10)
Тройной
интеграл возникает вследствие того,
что необходимо рассмотреть полную
испаренную массу Ме
со всех элементов поверхности и их
временную зависимость. После замены
расстояния r
на величины, характеризующие положение
данной точки подложки относительно
испарителя,
,
может быть проведено интегрирование
по α
до
2π. После интегрирования имеем
.
(2.11)
Отсюда
легко получить окончательное выражение
для d
в случае бесконечно тонкого кольца,
поскольку
представляет собой полную массу
испаренного вещества.
Таким образом, уравнение (2.11) для тонкого кольцевого испарителя принимает вид:
. (2.12)
Однородность по толщине покрытия, получаемого от такого тонкого кольцевого испарителя, легко описать, используя толщину в центре подложки (при l = 0):
.
(2.13)
В этом случае параметром, характеризующим однородность по толщине, будет отношение d/d0. Помимо относительного расстояния от центра l/h уравнения (2.12) и (2.13) содержат также второй параметр - относительный радиус испарителя s/h.
Рассмотрим теперь случай круглого дискового испарителя. Уравнение (2.11) следует проинтегрировать по величине радиуса диска s. После интегрирования по частям имеем
.
(2.14)
В этом
случае полная масса испаренного вещества
может быть представлена в виде
.
Выражение для толщины в случае круглого
диска может быть записано в следующем
виде:
(2.15)
и
.
(2.16)
Следует отметить, что распределение по толщине, полученное от дискового или кольцевого испарителя, диаметр или ширина которых, конечны, но малы по сравнению с расстоянием испаритель - подложка, адекватно описываются формулами для источника с одним элементом поверхности и тонкого кольца.
Преимущества испарителей с большой поверхностью заключается в первую очередь в том, что они при необходимых для испарения температурах имеют большую скорость испарения в соответствии с низким давлением паров. Следовательно, в таких испарителях вероятность химического взаимодействия между испаряемым веществом и материалом испарителя уменьшается.
