
- •1. Основные этапы развития физики полупроводников.
- •Главные направления развития электроники
- •2. Классификация веществ по удельной электрической проводимости. Основные представления о свойствах полупроводников.
- •3.Химические связи
- •7.Обратная решетка
- •8.Кристаллические структуры материалов электроники.
- •9. Дефекты кристаллического строения.
- •10.Фонон
- •1.1. Выращивание кристаллов кремния.
- •II. Следствие фазовой диаграммы ( очистка кристалла ).
- •1.1 Фазовые диаграммы и твердые растворы.
- •13. Качественная модель зонной структуры твердого тела.
- •14. Уравнение Шредингера для кристалла.
- •2.2 Уравнение Шредингера для кристалла
- •15.Адиабатическое приближение (приближение Борна - Оппенгеймера).
- •Первая зона Бриллюэна полупроводника типа алмаза
- •19.Зона Брюллеэна.
- •20. Эффективная масса носителей заряда.
- •21. Циклотронный (диамагнитный) резонанс.
- •22. Классификация материалов с позиции зонной теории.
- •23. Электронная теория примесных состояний.
- •24. Плотность квантовых состояний.
- •§ 28. Концентрация электронов и дырок
- •29. Закон действующих масс
- •30. Собственном полупроводнике
- •31. Зависимость положения уровня Ферми от концентрации примеси и температуры.
- •32. Дрейфовая и диффузная электропроводности.
- •33.Подвижность
- •34.Соотношение Эйнштейна
- •34.Эффект Холла р ассмотрим ток, протекающий в бруске из некоторого материала.
- •35,37. Механизмы рассеяния носителей тока. Зависимость подвижности от температуры.
- •38.Явление переноса в сильных электрических полях.
- •39.Электростатическая ионизация (эффект Зинера)
- •Термоэлектронная ионизация (эффект Френкеля)
- •Ударная ионизация.
- •Эффект Ганна.
- •40.Оптические свойства полупроводников.
- •42. Рекомбинация носителей заряда в полупроводниках.
- •49 Фотоэлектрические явления в полупроводниках.
29. Закон действующих масс
Исключим уровень Ферми, перемножив n и p:
(15)
(16) Правая часть зависит только от температуры и
ширины запрещ. зоны полупроводника.
Но! Не зависит от концентрации.
np=n2i=p2i=const (17) ni и pi –собственные концентрации носителей;
Уравнение (17) называют уравнением полупроводника или законом действующих масс.
Произведение концентраций основных
и не основных носителей заряда в
невырожденном полупроводнике при
фиксированной температуре является
постоянной величиной, которая не
зависит от концентрации введённой
примеси и равна квадрату концентраций
собственных носителей заряда при той
же температуре.
{Ввести понятия основных и неосновных носителей заряда; понятие энергии неосновных носителей заряда.}
С помощью формулы (16) можно найти, что в Siпри Ткомн. 1 электронно-дырочная пара приходится на 7,3*1011атомов.
Ткомн: GaAs:n≈107 ;Eg=1.41eV
Si: n≈1010 ;Eg=1.12eV
Ge: n≈3*1013 ; Eg=0.67eV
1
000K
500 300
200
1019
1017
1015
1013 GaAs Ge
1011Si
109
107
Si: ni NSi=5*1022ат/см3
T=300K ni~1010 см-3
T=500K ni~1014 см-3
T=1000Kni~1018 см-3
30. Собственном полупроводнике
Напомнить: что такое примесный и собственный полупроводник §2.6.3 стр. реальных п/п-в
В собственном полупроводнике каждый электрон, перешедший в зону проводимости, оставляет дырку в валентной зоне. Поэтому: n=p. Тогда:
Если определить за нулевую энергию верх валентной зоны, т.е. EV=0 =>EC=EV+EG=EG.
логарифмируя:
(14)
Уровень Ферми при абсолютном нуле расположен посередине запрещённой зоны!
kT при Ткомн≈0,026 эВ. Поэтому, если эффективные массы электронов и дырок различаются не очень сильно, то уровень Ферми находится приблизительно посередине, между EVиEC
31. Зависимость положения уровня Ферми от концентрации примеси и температуры.
Повторить немного о легировании (атомы V и III группы в кремнии). Расположение донорного и акцепторного уровней в запрещённой зоне!!! Соотношение концентрации атомов примеси и собственных атомов.
А. Влияние концентрации.
Для того, чтобы определить влияние концентрации примеси на положение уровня Ферми, нужно в общем случае решить следующее уравнение общей электронейтральности:
(17)
где
-- число ионизованных акцепторных атомов
(которые захватили электрон из валентной
зоны);
-- число ионизованных донорных атомов
(которые отдали электрон в зону
проводимости).
Для решения этого уравнения нужно подставить выражения для ni, pi, и NA, ND.
(18)
где F(EA) – вероятность того, что электрон находится на акцепторном уровне А;
1-F(ED) – вероятность того, что электрон не находится на донорном уровне D.
В общем случае Вы можете попробовать
подставить эти значения и решить его.
Мы же здесь приведём решение для случая,
когда
(т.е. уровень легирования очень высокий
по сравнению с собственной концентрацией
электронов).
n>>p, ND>>NA =>n≈ND
В этом случае n≈ND≈NCexp(-(EC-EF)/kT), откуда EF≈ EC –kTln(NC/ ND). Аналогично для р-типа полупроводника EF≈ EV +kTln(NV/ NA).
В кремнии при ТКОМН:
N
C
=2,8 • 1019 см-3
Различаются
NV =1019 см-3 эффективные массы !!!
Т.е. в этих случаях (поскольку NV<NA и NC<ND) энергия Ферми располагается вблизи границ разрешённых зон (соответственно зоны проводимости и запрещённой зоны).
Говорят, что полупроводник является вырожденным, если концентрация примеси настолько высока, что уровень EF находится на границах разрешённых зон.
Можно показать также, что в области малых концентраций легирующей примеси EF≈ lnND, т.е. EF растёт с увеличением ND по логарифмическому закону (достаточно медленно).
Таким образом, графически можно изобразить положение EF от концентрации примеси следующим образом:
E
EC
- EF , T=0, ND=0
EV
l
nND
lnNA
Б. Как изменяется положение уровня Ферми в примесном полу проводнике от температуры ?
В общем случае этот вопрос достаточно трудно описать математически, т.к. EGи EDзависят от периода решётки и связаны с температурой, но этот эффект мы учитывать не будем.
Рассмотрим 2 крайних случая:
Соотношение концентраций примеси и собственных атомов !!!
при очень низких температурах ионизация собственных носителей не происходит (по сравнению с примесными). Поэтому EF и EFi будет находиться посреди ED и EG;
при очень высоких температурах можно предположить, что почти все собственные атомы ионизованы, т.е. концентрация электронов и дырок приблизительно равна объёмной концентрации собственных атомов. Концентрация примеси – невелика. Следовательно, EF к EFi. На картинке это выглядит следующим образом:
E
E
C
E
D
EFi
ND2 >
ND1
E A
EV
T
В свою очередь EFi
будет увеличиваться как :
С ростом температуры ширина запрещённой зоны уменьшается. Качественно причину этого можно представить следующим образом: при более высокой температуре тепловое движение атомов в решётке становится более энергичным, период решётки оказывается менее определённым (чётким) и взаимодействие ослабевает (т.е. уменьшается энергия связи электрона с атомом решётки), а следовательно и EG.
С ростом ТEF
в собственном полупроводнике уходит к
EC:
рост EF