
- •Микроэлектрониканың дамуының негізгі жағдайы және бағыты.
- •§ 1.1 Электронды аппаратураның элементтерінің ықшамдау (миниатюризация) және микроықшамдау (микроминиатюризация) кезеңдері.
- •1.1 Сурет. «Элемент-2» типті жазық модулдің құрылысы.
- •1.2 Сурет фэ типінің жазық модулі:а – монтажды плата; б – сыртқы түрі;
- •1.3 Сурет. Этажеркалы микромодуль:
- •1.4 Сурет. Микроэлементтер:
- •1.5 Сурет. Қалқаланған этажеркалы микромодульдің жалпы түрі
- •§ 1.2. Микроэлектрониканың жалпы сипаттамасы.
- •1.6 Сурет. Интегралды микросхемалардың сыртқы түрі
- •§ 1.3. Микроэлектрониканың дамуының тарихы.
- •1.7 Сурет. Транзисторларды дайындаудың топтық әдісі:
- •1.8 Сурет. Интегралды микросхемаларды дайындаудың топтық әдісі:
- •§1.4 Интегралды микросхемалардың классификациясы және микроэлектрониканың өнімі (изделие)
- •1.9 Сурет. Микроэлемктрониканың негізгі өнімдері (изделия)
- •§ 1.5. Интегралды микросхемалардың белгілеуінің жүйесі.
- •§ 2.1 Интегралдымикроэлектроникадақолданылатынқұбылыстар (явление), процесстержәнеәдістер.
- •2.1 Сурет Интегралды микроэлектроникада қолданылатын физикалық құбылыстар, процесстер және әдістер.
- •§ 2.2. Имс жұмыс істеуін анықтайтын, құбылыстардың және процесстердің жалпы сипаттамасы.
- •2.2 Сурет. Тасушы зарядтардың қозғалғыштығының қоспаның концентрациясына және температураға тәуелділігі.
- •2.3 Сурет. Бірқалыпты p-n-өткелдің облысында таралуы.
- •2.4 Сурет. Тура (а) және кері (б) бағыттарда түсірілген, сыртқы кернеу кезіндегі, p-n-өткелдегі зарядты тасушылардың таралуы және энергетикалық диаграммасы
- •2.5 Сурет. Оңзарядтың бетінде бар болуы (б– г) және бетіне жақын кезде жоқ болуы (а)планарлыp-n-өткелінің құрылымы.
- •§ 2.3. Микроэлектронды құрыллымдарды құрудың базалық физика – химиялық әдістері.
- •2.6 Сурет. Кремнидің термиялық тотығуын орнату құрылғысы
- •2.7 Сурет. Фотолитографияның процессінің схемасы:
- •2.9 Сурет. Екізоналы диффузионды қондырғының схемасы
- •2.10 Сурет. Бірзоналы диффузионды қондырғының схемасы: 1 – газды беруге арналған магистраль; 2 – сұйық диффузиант үшін қоректендіргіш; 3 – кварцты труба; иг – инертті газ; гн – газ –тасушы
- •2.11 Сурет. Ионды легірлеуге арналған қондырғының схемасы
- •Травление.
- •Глава 3 Шалаөткізгішті интегралды микросхемалар
- •§ 3.1 Типтік конструкциялар және шалаөткізгішті имс құрылымы.
- •§3.2 Биполярлы транзисторлар.
- •Планарлы-эпитаксиальды транзисторлар.
- •Шоттки барьері бар транзисторлар.
- •Көпэмиттерлі транзисторлар.
- •Әр түрлі структурадағы мдп-транзисторлардың параметрлері.
- •§ 3.4 Диодтар
- •Әр түрлі схема бойынша қосылған транзисторлық структура негізіндегі диодтың параметрлері
- •§3.5 Шалаөткізгіш резисторлар.
- •Диффузионды резисторлардың параметрлері. 3.3-таблица
- •§3.6 Шалаөткізгіш конденсаторлар
- •3.7. Биполяр имс дайындау технологиясы
- •Планарлы-эпитаксиалды технология.
- •Қосарлы технология.
- •Изопларлы технология.
- •§ 3.9. Имс шалаөткізгішінің герметизациясы мен бүрмесі
- •§ 3.10. Шалаөткізгішті имс - ны жобалау және өңдеу этаптары
- •4 Тарау
- •§ 4.1. Гибридті имс конструкциясы
- •§ 4.2. Қалыңпленкалы гибридті имс элементтері
- •§ 4.3. Жіңішке пленкаларды алу әдістерді
- •§ 4.4. Гибридті имс - ға арналған подложка
- •§4.5. Пленкалы резисторлар
- •4.15 Сурет. Жұқа пленкалы резисторлардың конструкциялары:
- •4.16 Сурет. Пленканың салыстырмалы кедергісінің оның еніне тәуелділігі: і-тунельді эффекттің облысы, іі-бұзылған беттің облысы, ііі-көлемдік қасиеттерінің облысы
- •§4.6. Пленкалы конденсаторлар
- •4.17 Сурет. Жұқа пленкалы конденсатордың жалпы түрі: 1-жоғары өтетін қоршау; 2-диэлектрлік пленка; 3-төменгі өтетін қоршау; 4-подложка.
- •4.18 Сурет. Кремний қышқылы негізіндегі пленкалы конденсатордың диэлектр өткізгіштігінің тәуелділігі:
- •4.19 Сурет. Қалдық газдардың әртүрлі қысымымен тозаңданған кремний моноқышқылы негізіндегі конденсаторлардың вас-ы:
- •§ 4.7. Пленкалы имс – дағы индуктивті элементтер
- •§ 4.8. Пленкалы өткізгіштер және контактілік алаңдар
- •§ 4.9. Қабатаралық изоляция
- •§ 4.10. Гибридті имс – ның пассивті элементтерінің әртүрлі конфигурацияларын алу әдісі
- •§ 4.11. Гибридті имс – ның навесный компоненттері
- •§ 4.12. Гибридті имс – ға арналған корпустар
- •4.13. Гибридті имс құрудың негізгі принциптері және жобалау кезеңдері
- •4.14. Гибридті имс жобалаудың бастапқы деректері
- •4.15. Гибридті имс топологиясын және құрылымын жобалау
- •5 Бөлім. Үлкен интегралды схемалар (үис)
- •5.1. Үис жалпы сипаттамалары және негізгі параметрлері
- •5.2. Үис классификациясы және қолдану аймақтары
- •5.3 Үис қарапайым базасы
- •5.4. Шалаөткізгішті үис құрылымы және жасау технологиясы
- •5.5. Гибридті үис құрылымы және дайындау технологиясы
- •5.6. Үис жобалаудың ерекшеліктері және негізгі кезеңдері
- •6 Бөлім. Байланыс құрылғыларна арналған негізгі микросхемотехникалар мен интегралды микросхемалар
- •6.1. Имс схемотехникалық ерекшеліктері
- •6.2. Биполяр транзистордағы сандық имс негізгі типтері
- •§6.4 Микроқуатты логикалық имс
- •§ 6.6 Сандық имс дамуының тенденциясы
- •§ 6.7 Аналогты (сызықты) имс негізгі типтeрі
- •§6.8. Аппаратуралық байланысқа арналған интегрлды микросхема
- •§6.9 Микропроцессор
- •§ 6.10 Аса жоғары жиілік (свч) диапазонының интегралды микросхемасы
- •Сапа, сенімділік және интегралды схемаларды қолдану
- •§ 7.1. Сапа теориясының негізігі түсінігі
- •§7.2. Сапа бақылау әдісі және имс сенімділік бағасы
- •§7.4 Имс сынағының санаттары мен түрлері
- •§7.6 Сапа көтерілуінің жолдары және имс сенімділігі
- •§7.7 Имс мен үис (бис)нің негізгі қолданыстары
- •§8.1. Функционалды микроэлектрониканың негізгі даму бағыттары
- •§ 8.2. Оптоэлектроника
- •249 Сериялы оптоэлектронды имс - ның электрлік схемасы
- •§ 8.3 . Акустоэлектроника
- •§ 8.4. Диэлектрлік электроника
- •§ 8.5. Хемотроника
- •§ 8.6. Биоэлектроника
- •§ 8.7. Микроэлектрониканың алдағы дамуы
§ 4.2. Қалыңпленкалы гибридті имс элементтері
Қалыңпленкалы гибридті ИМС өз алдына түйіндердің керекті санының арматурланған пассивті және активті элементтері бар керамикалық подложканы білдіреді (4.4 - сурет).
4.4 - сурет. Қалыңпленкалы гибридті ИМС - ның жалпы түрі (төрт есе үлкейтілген)
Подложка, пленкалы резисторлар, консаторлар, байланыстырғыш өткізгіштер және корпус алыңпленкалы гибридті ИМС - ның негізгі элементтері болып табылады.
Қалыңпленкалы микросхеманың подложкасына келесі шарттар ұсынылады: жақсы механикалық және диэлектрлік қасиеттер, сызықты көлемдердің міндетті нақтылығы және үстінің жоғары жиілігі, жақсы жылуөткізгіштігі және жапсырмалы материалдарға адгезия, жеткілікті термикалық және химиялық тұрақтылығы. Бұл қажеттіліктермен қалыңпленкалы микросхеманың подложкасын дайындауда қолданылатын жоғарыглиноземисті керамиканы қанағаттандырады. Көп жағдайда подложканың өлшемі 10 × 10 × 1 және 16 × 10 × 1 мм болады.
4.5 - сурет. Қалыңпленкалы гибридті ИМС - ның қарапайым суреті және оны алуға арналған трафареттер:
1 - керамикалық подложка; 2 - резисторларға арналған трафарет; 3 - байланысушы өткізгіштерге арналған трафарет; 4 - конденсатордың төменгі қоршауына арналған трафарет; 5 - диэлектрлік пленкаға арналған трафарет; 6 - конденсатордың жоғарғы қоршауына арналған трафарет; 7 - микросхема суретінің жалпы түрі
Подложкаға пленка ретінде трафарет арқылы резисторлар, конденсаторлар және байланыс өткізгіштер қапталады. Бұл мақсат үшін өткізгіштіктерге, резистивтіліктерге және диэлектрліктерге бөліп беретін арнайы пасталар қолданылады. 4.5 - суретте қалыңпленкалы микросхеманың қарапайым суретінің мысалы келтірілген. Трафареттерді диаметрі 0,04 - 0,07 мм болатын, тот баспайтын алмас сым тор ретінде дайындайды; тордағы ұящықтар өлшемі жүздеген миллиметр болады. Сурет қаптаудан бұрын, торды біркелкі кереді және қатты рамкаға бекітеді. Мұқият майсыздандыру мен шаюдан бұрын, торға біркелкі қабатпен фоторезист қаптайды. Фоторезист кепкеннен соң оған фототрафарет суретін жобалайды, сонымен қатар фототрафареттің тіке сызықтары тор сызықтарымен қиыстырылады. Ультрафиолетті түспен экспозициялаудан соң пленка полимеризденеді, суреттің экспозицияланбаған аймақтары ерітіледі. Сөйтіп, трафареттегі ұяшықтардың бір бөлігі керекті конфигурациямен суретті келтіре отырып ашық күйінде қалады.
Паста жағатын подложканы трафареттің астына бірнеше қашықтыққа орнатады, пастаны трафареттің жоғарысына орналастырады және трафареттегі саңылау арқылы ракельді жылжытуда торда саңылауларды көшіретін бағандар түріндегі подложкаға тасиды. Жайыла отырып, бұл бағандар трафареттегі сурет секілді құра отырып байланысады. Тор - трафарет арқылы пастаны жағу схемасы 4.6 - суретте көрсетілген.
4.6 - сурет. Тор - трафарет арқылы паста жағу схемасы:
1 - тор - трафарет; 2 - ракель; 3 - паста; 4 - подложка
Паста жағып болған соң, подложкаларды жылулық жөндеуге душар етеді. Жылулық жөндеудің режимы пеш конструкциясы мен пастаның құрамына байланысты. Пастаның жылулық жөндеудің мүмкін режимдерінің бірі 4.7 - суретте көрсетілген. Пастаның жылулық жөндеуі жылдық бұйымның шығыс пайызы мен жоғары өнімділігімен қамтамасыз ететін конвейерлік пеште көптеген жағдайларда жасалады.
Қалыңпленкалы микросхеманың конденсаторларының және резисторларының негізгі параметрлері 4.1 - кестеде келтірілген.
Подложкада өткізгішті, конденсаторды және резисторды алғаннан соң, оның аппаратурада монтаж кезінде электрлік байланыспен қамтамасыз ететін металлдық штырькамен - түйінмен арматуралауын өндіреді.
Қалыңпленкалы
резисторлар жақсы жұмыс істелген
технологияның өзінде
тәртібінің кедергісінің шашылуы болады.
Мұндай шашылу көптеген жағдайларда
электрлік схемалардың талаптарын
қанағаттандырмайды және оны айтарлықтай
кішірейту қажет. Сондықтан керекті
номиналды мәнге дейін кедергі қиыстыруын
шығарады. Қиыстырудың қолданылып жүрген
әдістері 1% - ға дейін дәлдікпен орындауға
мүмкіндік береді.
4.7 - сурет. Өткізгіштік, резистивтік және диэлектрлік пасталардың жылулық жөндеу режимі:
1 - кептіру; 2 - органикалық тізбекті күйдіру; 3 - біріктіру; 4 - салқындату
4.1 - таблица
Қалыңпленкалы микросхеманың конденсаторларының және резисторларының негізгі параметрлері
Кедергіні қиыстырудың әртүрлі тәсілдері бар: механикалық, лазерлік, токтық, химиялық және т.б. Механикалық тәсіл кезінде қиыстыруды 100 000 об/мин бұрыштық жиілікке дейін айналмалы алмазды бормен жүзеге асырады. Қиыстырмалы кедергі көпірлік схема бойынша эталонмен байланысқан. Қиыстырмалы кедергінің керекті мәніне жеткен кезде турбина сөнеді және қиыстыру процессі автоматты түрде тоқтатылады.
Қиыстырудың лазерлік әдіс кезінде резисторда кедергінің үлкеюіне әкелетін өткізгіш пленканың бір бөлігі кетіріледі. Қиыстырудың жоғары өнімділігін алу кезінде мақсатқа сәйкес газдық резисторлар қолданған жөн.
Қиыстырудың химиялық әдісі - резисторға бағытталған оттек немесе сутектің ыстық ағыны оның өткізгіш компонентін қыщқылдандырады немесе қалпына келтіреді, сонымен қатар, резистордың кедергісін үлкейтеді немесе кішірейтеді.
Кедергіні қиыстырудың лазерлі әдісі озық болып саналады. Ол - лазер сәулесінің ықпалы кезінде буландырудың үлкен жылдамдығы есебінен жоғары өнімділікпен қамтамасыз етеді; қиыстыруды орнату өзгелеріне қарағанда жоғары сенімділікке ие.
4.8 - сурет. Қалыңпленкалы гибридті ИМС дайындау кезінде операциялардың реттілігі
Жылдық бұйымның шығуын үлкейту мақсатында санаудан басқа, кедергінің токтық қиыстыру әдісі қолданылған болу мүмкін.
Резисторлар кедергісін қиыстырудан кейін электрлік схемаға сәйкес активті элементтерді (диодтар, транзисторлар, шалаөткізгішті ИМС - ның кристаллдары) құрастырады. Параметрлерді бақылау және герметизациясы аяқтаушы операция болып табылады.
Қалыңпленкалы гибридті ИМС - ны дайындау кезіндегі операция реттілігі 4.8 - суретте көрсетілген. Көрсетілген негізгі операциялардан өзге дайындық операциялар реті орындалады: пасталарды әзірлеу, активті элементтерді дайынау, түйіндерді орнату және қалайылау және т.б.