
- •Микроэлектрониканың дамуының негізгі жағдайы және бағыты.
- •§ 1.1 Электронды аппаратураның элементтерінің ықшамдау (миниатюризация) және микроықшамдау (микроминиатюризация) кезеңдері.
- •1.1 Сурет. «Элемент-2» типті жазық модулдің құрылысы.
- •1.2 Сурет фэ типінің жазық модулі:а – монтажды плата; б – сыртқы түрі;
- •1.3 Сурет. Этажеркалы микромодуль:
- •1.4 Сурет. Микроэлементтер:
- •1.5 Сурет. Қалқаланған этажеркалы микромодульдің жалпы түрі
- •§ 1.2. Микроэлектрониканың жалпы сипаттамасы.
- •1.6 Сурет. Интегралды микросхемалардың сыртқы түрі
- •§ 1.3. Микроэлектрониканың дамуының тарихы.
- •1.7 Сурет. Транзисторларды дайындаудың топтық әдісі:
- •1.8 Сурет. Интегралды микросхемаларды дайындаудың топтық әдісі:
- •§1.4 Интегралды микросхемалардың классификациясы және микроэлектрониканың өнімі (изделие)
- •1.9 Сурет. Микроэлемктрониканың негізгі өнімдері (изделия)
- •§ 1.5. Интегралды микросхемалардың белгілеуінің жүйесі.
- •§ 2.1 Интегралдымикроэлектроникадақолданылатынқұбылыстар (явление), процесстержәнеәдістер.
- •2.1 Сурет Интегралды микроэлектроникада қолданылатын физикалық құбылыстар, процесстер және әдістер.
- •§ 2.2. Имс жұмыс істеуін анықтайтын, құбылыстардың және процесстердің жалпы сипаттамасы.
- •2.2 Сурет. Тасушы зарядтардың қозғалғыштығының қоспаның концентрациясына және температураға тәуелділігі.
- •2.3 Сурет. Бірқалыпты p-n-өткелдің облысында таралуы.
- •2.4 Сурет. Тура (а) және кері (б) бағыттарда түсірілген, сыртқы кернеу кезіндегі, p-n-өткелдегі зарядты тасушылардың таралуы және энергетикалық диаграммасы
- •2.5 Сурет. Оңзарядтың бетінде бар болуы (б– г) және бетіне жақын кезде жоқ болуы (а)планарлыp-n-өткелінің құрылымы.
- •§ 2.3. Микроэлектронды құрыллымдарды құрудың базалық физика – химиялық әдістері.
- •2.6 Сурет. Кремнидің термиялық тотығуын орнату құрылғысы
- •2.7 Сурет. Фотолитографияның процессінің схемасы:
- •2.9 Сурет. Екізоналы диффузионды қондырғының схемасы
- •2.10 Сурет. Бірзоналы диффузионды қондырғының схемасы: 1 – газды беруге арналған магистраль; 2 – сұйық диффузиант үшін қоректендіргіш; 3 – кварцты труба; иг – инертті газ; гн – газ –тасушы
- •2.11 Сурет. Ионды легірлеуге арналған қондырғының схемасы
- •Травление.
- •Глава 3 Шалаөткізгішті интегралды микросхемалар
- •§ 3.1 Типтік конструкциялар және шалаөткізгішті имс құрылымы.
- •§3.2 Биполярлы транзисторлар.
- •Планарлы-эпитаксиальды транзисторлар.
- •Шоттки барьері бар транзисторлар.
- •Көпэмиттерлі транзисторлар.
- •Әр түрлі структурадағы мдп-транзисторлардың параметрлері.
- •§ 3.4 Диодтар
- •Әр түрлі схема бойынша қосылған транзисторлық структура негізіндегі диодтың параметрлері
- •§3.5 Шалаөткізгіш резисторлар.
- •Диффузионды резисторлардың параметрлері. 3.3-таблица
- •§3.6 Шалаөткізгіш конденсаторлар
- •3.7. Биполяр имс дайындау технологиясы
- •Планарлы-эпитаксиалды технология.
- •Қосарлы технология.
- •Изопларлы технология.
- •§ 3.9. Имс шалаөткізгішінің герметизациясы мен бүрмесі
- •§ 3.10. Шалаөткізгішті имс - ны жобалау және өңдеу этаптары
- •4 Тарау
- •§ 4.1. Гибридті имс конструкциясы
- •§ 4.2. Қалыңпленкалы гибридті имс элементтері
- •§ 4.3. Жіңішке пленкаларды алу әдістерді
- •§ 4.4. Гибридті имс - ға арналған подложка
- •§4.5. Пленкалы резисторлар
- •4.15 Сурет. Жұқа пленкалы резисторлардың конструкциялары:
- •4.16 Сурет. Пленканың салыстырмалы кедергісінің оның еніне тәуелділігі: і-тунельді эффекттің облысы, іі-бұзылған беттің облысы, ііі-көлемдік қасиеттерінің облысы
- •§4.6. Пленкалы конденсаторлар
- •4.17 Сурет. Жұқа пленкалы конденсатордың жалпы түрі: 1-жоғары өтетін қоршау; 2-диэлектрлік пленка; 3-төменгі өтетін қоршау; 4-подложка.
- •4.18 Сурет. Кремний қышқылы негізіндегі пленкалы конденсатордың диэлектр өткізгіштігінің тәуелділігі:
- •4.19 Сурет. Қалдық газдардың әртүрлі қысымымен тозаңданған кремний моноқышқылы негізіндегі конденсаторлардың вас-ы:
- •§ 4.7. Пленкалы имс – дағы индуктивті элементтер
- •§ 4.8. Пленкалы өткізгіштер және контактілік алаңдар
- •§ 4.9. Қабатаралық изоляция
- •§ 4.10. Гибридті имс – ның пассивті элементтерінің әртүрлі конфигурацияларын алу әдісі
- •§ 4.11. Гибридті имс – ның навесный компоненттері
- •§ 4.12. Гибридті имс – ға арналған корпустар
- •4.13. Гибридті имс құрудың негізгі принциптері және жобалау кезеңдері
- •4.14. Гибридті имс жобалаудың бастапқы деректері
- •4.15. Гибридті имс топологиясын және құрылымын жобалау
- •5 Бөлім. Үлкен интегралды схемалар (үис)
- •5.1. Үис жалпы сипаттамалары және негізгі параметрлері
- •5.2. Үис классификациясы және қолдану аймақтары
- •5.3 Үис қарапайым базасы
- •5.4. Шалаөткізгішті үис құрылымы және жасау технологиясы
- •5.5. Гибридті үис құрылымы және дайындау технологиясы
- •5.6. Үис жобалаудың ерекшеліктері және негізгі кезеңдері
- •6 Бөлім. Байланыс құрылғыларна арналған негізгі микросхемотехникалар мен интегралды микросхемалар
- •6.1. Имс схемотехникалық ерекшеліктері
- •6.2. Биполяр транзистордағы сандық имс негізгі типтері
- •§6.4 Микроқуатты логикалық имс
- •§ 6.6 Сандық имс дамуының тенденциясы
- •§ 6.7 Аналогты (сызықты) имс негізгі типтeрі
- •§6.8. Аппаратуралық байланысқа арналған интегрлды микросхема
- •§6.9 Микропроцессор
- •§ 6.10 Аса жоғары жиілік (свч) диапазонының интегралды микросхемасы
- •Сапа, сенімділік және интегралды схемаларды қолдану
- •§ 7.1. Сапа теориясының негізігі түсінігі
- •§7.2. Сапа бақылау әдісі және имс сенімділік бағасы
- •§7.4 Имс сынағының санаттары мен түрлері
- •§7.6 Сапа көтерілуінің жолдары және имс сенімділігі
- •§7.7 Имс мен үис (бис)нің негізгі қолданыстары
- •§8.1. Функционалды микроэлектрониканың негізгі даму бағыттары
- •§ 8.2. Оптоэлектроника
- •249 Сериялы оптоэлектронды имс - ның электрлік схемасы
- •§ 8.3 . Акустоэлектроника
- •§ 8.4. Диэлектрлік электроника
- •§ 8.5. Хемотроника
- •§ 8.6. Биоэлектроника
- •§ 8.7. Микроэлектрониканың алдағы дамуы
4 Тарау
ГИБРИДТІ ИНТЕГРАЛДЫ МИКРОСХЕМА
§ 4.1. Гибридті имс конструкциясы
1 тарауда көрсетілгендей, пленкалы интегралды микросхемаларда пассивті (резисторлар, конденсаторлар, индуктивті катушалар) және активті элементтер (диодтар, транзисторлар) жіңішке пленка түрінде орындалады. Бірақ, активті пленкалы элементтер пленкалы транзисторлар мен диодтардың электрлі сипаттамасы бойынша уақытқа орай тұрақты технологиялық қиындықтар ретінде кең таралмады. Пленкалы пассивті элементтері бар жабынға дискретті, көбінесе корпуссыз диодтар, транзисторлар және интегралды микросхемалар көп қолданыс тапты. Олар гибридті интегралды микросхема атауын алды.
Гибридті ИМС дайындаудың технологиялық принципі бойынша жуанпленкалы және жіңішкепленкалы деп бөлінеді. Жуанпленкалы микросхемаларды дайындау кезінде бөлуші подложкаға трафарет – тор арқылы өткізуші, резистивті және кезекті вжиганиесі бар (резисторлар, конденсаторлар, өткізгіштер) диэлектрлі композициялар қапталады. Қапталып отырған микросхемалардың элементтерін көрсетуші пленканың қалыңдығы бірден ондаған микрометр болады. Жіңішкепленкалы микросхемаларды дайындау кезінде пассивті элементтер өткізгіш, резистивті және диэлектрлі қабаттар қалыңдығы ондық және жүздік микрометр болатын ретті жолымен алады. Элементтердің керекті конфигуряциясы бұл жағдайда пленкаларды қаптау процесінде трафареттер арқылы немесе тұтас пленканы таңдаулы химиялық өңдеу арқылы жеткізіледі.
Асыра (навесные) активті элементтер (транзисторлар, диодтар, микросхемалар және т.б.) пленкалы пассивті элементтер платасында немесе микросхема корпусының негізінде бекітеді. Сыртқы ықпалдар мен микросхеманың түйіндерінің жасалуынан қорғауға корпусқа кедергі жасайды. Корпус таңдау кезінде, стандартталған өлшемдер элементтер компоновкасын, активті және пленкалы элементтердің эксплуатациялық сипаттамасы ескереді. Металлошынылы, металлокерамикалы және пластмассалы корпустар көп тарағандар.
4.1 – сурет. Көлденең қима және гибридті ИМС – ның электрлі схемасы: а-керамикалық подложка; б-конденсатор; в-транзистор; г-резистор.
4.1 – суретте қарапайым электрлі тізбектегі гибридті ИМС құрылғысы суреттелген. Бұнда кремний қышқылды диэлектрик қабаты нүктелермен көрсетілген, сиретілген тік сызықтармен – хром қабаты, қою тік сызықпен – хромды никель қабаты, көлденең сызықпен – алтыннан немесе күмістен ішкісхемалы байланысқан қабаты; электрлі схема белгіленген микросхема аймақтары сандармен берілген.
Гибридті ИМС – ның негізгі конструктивті элементері мыналар:
активті және пассивті элементтер орналасатын подложка;
пленкалы резисторлар, конденсаторлар, өткізгіштер, контакттілі алаң;
ілмелі (навесный) корпуссыз шалаөткізгішті приборлар;
белгілі бір жағдайларда қолданылатын ілмелі нәзік пассивті элементтер (трансформаторлар, үлкен номиналды сыйымдылықты клонденсаторлар, дросселдер);
микросхема герметизациясы үшін және оның шығыстарын бекітуге арналған корпус.
Гибридті ИМС – ның оңтайлы конструкциясы әртүрлі факторлармен анықталады: элементтер орамасының тығыздығымен, шашырау қуаттылығымен, элементтер номиналымен, жыдық бұйым шығуыеың пайызымен, бағасымен және т.б.
Орама пленкалы эдементтердің көпқабатты орналасуы кезінде жоғары тығыздыққа жетеді. Дегенмен, ішкі элементтерге кіру мүмкін емес, себебі, номиналдарды шақтап келтіру мүмкіндігін қысқартады және технологиялық операциялар санын көбейтеді, сонымен қатар жылдық бұйымдардың шығыс пайызын кемітеді. Элементтердің минималды сызықты өлшемі 100 - 200 мкм болады, реттілік конденсатордың максималды аймағы 2 см2.
Ілулі (навесные) активті элементтердің 25 - 50 мкм диаметрлі алтын сымнан тұратын иілгіш түйіндері болады және дәнекерлеу немесе балқытудың пленкалы микросхемасына қосылады. Подложкада элементтерді бекіту үшін ылғалға төзімді желім қолданады.
Айта кететін нәрсе, иілгіш түйіндері бар активті элементтерді қолдану бұл операциялардың автоматтандыруын және механикаландыруын қиындатады. Сондықтан, қазіргі уақытта иілгіш түйіндері бар микросхемалардың бүрмелерін автоматтандыру және механикаландыру бойынша өзге жұмыстар өткізуге қатты түйіндері бар шалаөткізгішті приборлар қолданады. Түйіршікті (шариковый) және арқалықты (балочный) түйіндері бар шалаөткізгішті приборлар көп таралған.
4.2 - сурет. Шарикті түйіндері бар корпуссыз транзисторлардың монтаж схемасы: а - шарикті түйіні бар транзистор; б - пленкалы микросхеманың подложкасындағы контактілі бағандар; в - шариктердің контактілі бағандармен байланысы (1 - подложкадағы контактілі аймағы және олардан шыққан түйіндер).
Шарикті түйіндері бар корпуссыз транзисторда 50 - 100 мкм диаметрлі шариктер транзистордың контактілі аймағымен байланысқан, ал олар арқылы кремнийдің қабатымен: эмиттерлі (Э), базалы (Б) немесе коллекторлы (К). Шариктерді алтыннан, мыстан немесе Sn - Sb қоспасынан дайындайды. Сол материалдардан гибридті ИМС - ның диэлектрлі подложкасында биіктігі 10 - 15 мкм және диаметрі 150 - 200 мкм, кремний кристаллында орналасқан шариктерге дәл сәйкес кеп орналасқан контактілі бағандар дайындайды (4.2, б - сурет). Бағандары бар шариктерді байланыстыру - транзистор кристаллы шариктермен төмен төңкерілген және подложканың бағандарына жамалатын төңкерілген кристалл әдісімен жүзеге асырылады (4.2, в - сурет). Белгілі бір қысымда шариктер мен бағандарды қыздыра отырып олардың өз араларындағы берік байланысын алады. Бір операция үшін барлық үш керекті байланысқа қол жеткізіледі. Мұндай монтаж кезіндегі байланыс саны сымды болған кезіндегісіне қарағанда екі есе кем, ал транзистор подложкада арнайы орын талап етпейді.
4.3 - сурет. Арқалық (балочный) түйіні бар корпуссыз транзистордың конструкциясы
Арқалық түйіндері бар корпуссыз транзисторларды қолдану кезінде ИМС жақсы нәтижелер көрсетеді (4.3 - сурет). Бұл жағдайда контактілі аймақтар кристалл шегіне дейін ұзартылған және соның жиегіне 100 - 150 мкм шамасына төндірілген (атауы - юөрене). Бөрене қалыңдығы (10 - 15 мкм) кристаллдағы металлды разводканың қалыңдығынан едәуір үлкен. Сондықтан оларды шаңдату (напыление) арқылы емес алтынды электро - химиялық тұндыру арқылы алады. Арқалық түйіндердің ұзындығы 200- 250 мкм, ал ені қарапайым контактілі аймақтікімен бірдей (50 - 200 мкм).
Арқалық түйіні бар приборлар монтажы шарикті түйіні бар приборлар монтажы секілді жүзеге асады - төңкерілген кристалл әдісімен. Сонымен қатар, шығып отырған бөренелер жақсы көрінеді және подложкада оларды конитактілі аймқпен қиыстыру қиындық тудырмайды және сенімдірек болып келеді. Кристалдарды "жоғарғы бетпен" монтаждауға да болады, бірақ ол кезде подложка кристалл үшін тереңдейді.
Сымдыға қарағанда шарикті және арқалықты түйіндерді дайындау қиын әрі қымбат болғанына қарамастан, олар маңызды жеңілдету мен құрастырма операциялрды арзандатуға мүмкіндік береді, сонымен қатар сенімділігін жоғарылатуға, жылдық бұйымның шығысын үлкейтуге мүмкіндік береді.
Гибридті ИМС - ның жекелеген элементтерін қарастырамыз.