
- •1. Цель и задачи работы
- •1.1. Цель работы
- •1.2. Подготовка и задание к работе
- •2. Эффект холла
- •2.1 Элементарная теория классического эффекта Холла (для носителей заряда одного типа)
- •2.2 Режим тока Холла
- •3. Методика измерения эдс холла
- •3.1. Аппаратура и образцы для измерения эффекта Холла методом постоянного поля и постоянного тока
- •3.2. Задание по работе
- •3.3 Исходные данные для расчета Rx, σ, μx, n.
- •4 Указания по оформлению отчета
БЕЛОРУССКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ
ФАКУЛЬТЕТ РАДИОФИЗИКИ И КОМПЬЮТЕРНЫХ ТЕХНОЛОГИЙ
КАФЕДРА ФИЗИЧЕСКОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ И НАНОТЕХНОЛОГИЙ
Методические указания к лабораторной работе
ИЗУЧЕНИЕ ЭФФЕКТА ХОЛЛА
Минск
2010
СОДЕРЖАНИЕ
1. Цель и задачи работы
1.1 Цель работы
1.2 Подготовка и задание к работе
2.Эффект Холла
2.1 Элементарная теория классического эффекта Холла (для носителей заряда одного типа)
2.2 Режим тока Холла
3. Методика измерения ЭДС Холла
3.1 Аппаратура и образцы для измерения эффекта Холла
3.2 Задание по работе
3.3. Исходные характеристики исследуемого образца
4 Указания по оформлению отчета
Приложение А Теория эффекта Холла для полупроводника со смешанной электропроводностью
1. Цель и задачи работы
1.1. Цель работы
Целью работы является изучение физической сущности эффекта Холла – одного из физических явлений в полупроводниках – и практическое усвоение методики определения электрофизических характеристик полупроводниковых материалов с помощью эффекта Холла.
1.2. Подготовка и задание к работе
изучить методические указания к лабораторной работе, обратив внимание на физическую сущность эффекта Холла и условия возникновения ЭДС либо тока Холла;
ознакомиться с работой установки для проведения измерений ЭДС Холла методом постоянного поля и постоянного тока.
измерить величины напряжения Холла (Ux) рассчитать коэффициент Холла (Rx), концентрацию (n) и подвижность (μx) носителей заряда.
2. Эффект холла
Эффект Холла является одним из гальваномагнитных (то есть обусловленных одновременным действием электрического и магнитного полей) явлений в полупроводниках. Он широко применяется на практике (например, для измерения напряженности (индукции) магнитного поля с помощью так называемых датчиков Холла) и в научных исследованиях (для изучения процессов переноса носителей заряда в полупроводниковых материалах).
Проявление эффекта Холла связано с возникновением ЭДС (классический эффект Холла) либо тока Холла.
2.1 Элементарная теория классического эффекта Холла (для носителей заряда одного типа)
Сущность классического эффекта Холла заключается в возникновении ЭДС, называемой ЭДС Холла, в направлении, перпендикулярном направлению тока, протекающего через образец, и направлению действующего на образец магнитного поля. Впервые появление поперечной (холловской) разности потенциалов в образце, находящемся в таких условиях, было зарегистрировано Э. Холлом в 1879 году на тонких пластинах золота.
Появление холловской разности потенциалов связано с действием силы Лоренца на движущиеся в кристалле заряды. Для количественного рассмотрения предположим, что образец полупроводника в виде прямоугольного параллелепипеда (рис. 2.1, а) имеет ширину а, толщину b и длину l, а ток протекает слева направо. В случае, если ток создается дырками, то скорость дрейфа Vp имеет то же направление, что и ток I (рис. 2.1, а, б). Если же носителями тока являются электроны, то Vn направлена в противоположную сторону (рис. 2.1, а, в).
|
Рис. 2.1. Отклонение электронов и дырок, движущихся в магнитном поле, в образце (а) и, в частности, дырок(б) и электронов (в). |
Поместим полупроводник во внешнее магнитное поле, чтобы индукция В была направлена перпендикулярно току (к нам). При наличии внешнего магнитного поля на движущиеся носители тока действует сила Лоренца, которая перпендикулярна скорости их движения V и индукции магнитного поля B:
|
(2.1) |
Для дырок векторное произведение и сила Лоренца будут направлены вниз, тогда как для электронов, заряд которых отрицателен, векторное произведение направлено вверх, а сила Лоренца – вниз (правило левой руки).
Следовательно, как дырки (в полупроводнике p-типа), так и электроны (в полупроводнике n-типа) будут отклоняться магнитным полем на нижнюю грань, а верхняя грань будет обедняться в первом случае дырками, во втором – электронами. Таким образом, в полупроводнике р-типа нижняя грань заряжается положительно, а верхняя грань – отрицательно. В результате возникает поперечное электрическое поле, называемое холловским полем, с напряженностью Еx, которое направленно снизу вверх. В полупроводнике n–типа нижняя грань (при том же направлении тока) заряжается отрицательно, верхняя – положительно и холловское поле направлено сверху вниз. Если в переносе электрического тока участвуют и дырки и электроны (случай смешанной проводимости), то картина значительно усложняется. Этот случай рассмотрен в Приложении А.
Положения дырки и электрона, отклоненных магнитным полем при дрейфовом перемещении на протяжении длины свободного пробега Lp и Ln изображены на рис. 2.1. При этом предполагается, что холловское поле еще отсутствует. Углы φn и φp называют углами Холла.
Если изобразить векторы плотности тока дырок и электронов, то, учитывая направления поворотов φn и φp, имеем, что плотности тока jp и jn поворачиваются в противоположные стороны (рис. 2.2 а, б). Здесь предполагается, что либо холловское поле еще не действует, либо имеется неограниченный по направлению b образец (последнее можно моделировать с помощью образца в виде диска).
|
Рис. 2.2. Изменение направления плотности тока дырок (а) и электронов (б) в магнитном поле; jpy и jny – проекции плотности тока на направление внешнего электрического поля. |
В обычных условиях для ограниченного образца полупроводника накопление зарядов, отклоненных магнитным полем, происходит до тех пор, пока не уравновесятся силы, действующие на электрон (то есть сила, связанная с возникающим холловским полем не нейтрализует силу Лоренца). После достижения указанного динамического равновесия можно считать, что при наличии одного типа носителей заряда плотность тока jp и jn не отклоняется магнитным полем. Следовательно, при дальнейшем длительном пребывании полупроводника с током в поперечном магнитном поле устанавливается определенная поперечная разность потенциалов, которая при разомкнутой цепи и есть ЭДС Холла. Полная напряженность поля En является векторной суммой E и Exn составляет с E угол Холла φ (рис. 2.3).
|
Рис. 2.3. Угол Холла в дырочном (а) и электронном (б) полупроводниках. |
Итак, при одном типе носителей заряда условием, определяющим холловское поле, является равенство абсолютных значений силы Лоренца и силы возникающего холловского поля:
|
(2.2) |
или
|
(2.3) |
Равенство
(2.3) не может выполняться одновременно
для всех электронов (дырок), имеющих
различные по величине и направлению
скорости. В действительности стационарное
состояние наступает не тогда, когда
сила Лоренца уравновешивает силу
электрического поля для каждого электрона
(это вообще не может быть), а когда ток,
создаваемый холловским полем, компенсирует
ток на боковую грань, создаваемый
магнитным полем. Поэтому в выражении
(2.3) стоит средняя скорость
дрейфа.
Умножая обе части (2.3) на концентрацию электронов n, получим для полупроводника
n–типа
|
(2.4) |
Поскольку произведение neVср равно плотности тока, то есть:
|
(2.5) |
где а·b=S – площадь поперечного сечения образца, показанного на рис. 2.1, то на основании (2.4) и (2.5) получаем
|
(2.6) |
Разность
потенциалов
=
Exnb
будет иметь вид:
|
(2.7) |
Более точные расчеты, выполненные с учетом статистического распределения носителей заряда по скоростям в невырожденных полупроводниках, показывают, что
|
(2.8) |
где А – постоянная величина, так называемый холл–фактор. Его значение определяется механизмами рассеяния.
Для полупроводниковых материалов основными механизмами рассеяния носителей тока являются рассеяние на тепловых колебаниях решетки и на ионах примесей. При рассеянии электронов на акустических колебаниях решётки, что имеет место в классических полупроводниковых материалах (например, в Si, Ge, InSb) при относительно высоких температурах (включая комнатную),
|
При рассеянии на ионах примеси
|
В металлах и сильно вырожденных полупроводниках, в которых все носители имеют одинаковую тепловую скорость, можно принять A=1.
Для полупроводника n-типа формулу (2.8) можно переписать в виде
|
(2.9) |
где е – заряд электрона.
Коэффициент пропорциональности
|
(2.10) |
называют постоянной Холла или коэффициентом Холла.
Для полупроводника р–типа коэффициент Холла
|
(2.11) |
Соотношения (2.8), (2.10) и (2.11) играют чрезвычайно важную роль в физике полупроводников. Они показывают, что концентрация носителей заряда, их знак могут быть найдены экспериментально. Для этого необходимо в образце с известными геометрическими размерами измерить холловскую разность потенциалов и определить коэффициент Холла:
|
(2.12) |
Зная
коэффициент Холла и удельную электрическую
проводимость
материала,
можно рассчитать холловскую подвижность
.
Действительно, домножив обе части
уравнения типа (2.10) на
,
нетрудно установить взаимосвязь между
этими величинами в виде следующего
соотношения:
|
(2.13) |
Следует иметь ввиду, что холловская подвижность совпадает с дрейфовой только при А=1.
Входящую
в выражение (2.13) величину
также
можно определить экспериментально,
измерив
(см.
ниже), или же, если известно сопротивление
образца Rобр,
рассчитать, воспользовавшись формулой:
|
(2.14) |
где l, a, b – геометрические параметры образца.
Необходимо
отметить, что при выводе выражения для
коэффициента Холла и холловской
подвижности использовались формулы
(2.5) и (2.12), которые справедливы только в
случае, когда магнитное поле отсутствует
либо оно мало. Условие слабого магнитного
поля можно записать в виде
.
Как правило, это условие выполняется
при измерении эффекта Холла.