
- •Порядок расчетов сплавного выпрямительного диода
- •Порядок расчета p- I – n диода.
- •Особенности расчета варикапа.
- •Особенности расчета фотодиода.
- •Особенности расчета диода Шоттки.
- •Образование и емкости плавного, резкого и сверхрезкого p-n перехода. Образование электронно-дырочного (р-n) перехода
- •Резкий несимметричный переход
- •Плавный переход
- •Барьерная емкость р-n-перехода
- •Расчет прямой ветви вах диода.
- •8. Расчет обратной ветви вах диода
- •9. Особенности расчета коэффициента передачи тока базы мощного биполярного транзистора.
- •10. Особенности расчеты частоты отсечки мощного биполярного транзистора
- •12. Порядок расчета сопротивлений базы диодов.
- •13. Порядок расчета сопротивлений базы биполярных транзисторов.
- •14. Расчет паразитных емкостей свч мощных моп транзисторов.
- •17.Особенности расчета порогового напряжения короткоканального моп транзистора.
- •20.Конструкция корпуса мощных свч биполярных транзисторов и требования к используемым материалам.
- •21.Особенности функционирования и расчета пороговых напряжений нормально открытых и нормально закрытых птш.
- •Сравнительный анализ электрических параметров вдмоп, гдмоп и vмоп транзисторов. ( см. Вопрос 23 )
- •Расчет сопротивления сток-исток открытого вдмоп транзистора.
- •Сравнительный анализ электрических характеристик птуп и птш.
- •Особенности расчета порогового напряжения узкоканальных моп транзисторов.
- •Расчет сопротивления сток-исток открытого гдмоп транзистора.
- •Расчет сопротивления сток-исток открытого vмоп транзистора.
- •Расчет выходной мощности, удельного сопротивления и ширина эпитиканального слоя вдмоп транзистора.
- •Расчет толщины подзатворного диэлектрика, концентрации акцептов и минимальной длины канала вдмоп транзистора.
- •3.5 Современные структуры транзисторов
- •Расчет величины подвижности свободных носителей заряда в канале моп транзистора и методы ее увеличения.
- •3.7.1 Подвижность
- •Расчет величин пороговых напряжений моп транзисторов с алюминиевым, n-поликремниевым и p-поликремниевым затворами.
- •3.7.2 Пороговое напряжение классического мопт с большими размерами
- •36. Особенности, за и против применения мощных полевых и биполярных транзисторов.
- •37. Пороговое напряжение и крутизна мощных мопт с двойной диффузией.
- •38. Классификация полупроводниковых диодов.
- •39.Принципы действия, вах тиристоров. Требования, предъявляемые к материалам.
- •41.Конструирование структуры тиристоров.
- •42. Пробой тиристорной структуры.
Порядок расчетов сплавного выпрямительного диода
Расчет сплавного выпрямительного диода. Задано: геометрия кристалла – параллелепипед с квадратным основанием и толщиной базовой области WБ; прямое падение напряжения Uпр; максимальное обратное напряжение Uобр.max прямой допустимый ток Iпр.доп диапазон температур окружающей среды.
Определить
или выбрать: исходный полупроводниковый
материал; концентрацию примесей в p-
и n-областях Nа
и Nd;
равновесную концентрацию основных рр0,
nn0
и неосновных npo,
pn0
носителей заряда; удельное сопротивление
областей
;
марку полупроводникового материала и
другие электрофизические параметры ρ-
и n- областей;
геометрические размеры кристалла –
площадь основания S,
ширину ОПЗ p-n
перехода при U =
Uобр.max;
прямую и обратную ВАХ; конструкцию
корпуса диода.
Порядок расчета.
1. Определить вид полупроводникового материала. По заданному диапазону температур выбираем материал.
2. Концентрацию примеси в слаболегированной базовой области диода определяем по напряжению пробоя, которое для обеспечения надежной работы прибора должно в 1,5 – 2 раза превышать Uобр.max. Так как сплавные p-n переходы резкие, то по графику (рис. 1.4) находим NБ. (Nd).
Сплавные
переходы на кремнии обычно получают
вплавлением алюминия как акцепторной
примеси. Поэтому базовая область и
соответственно исходная пластина
кремния должны иметь электропроводность
n-типа. Зная концентрацию
донорной примеси в ней NБ
= NД по графику
(рис. 1.5) определяем удельное сопротивление
базы, выбраем марку кремния с удельным
сопротивлением
и диффузионной длиной неосновных
носителей Lp.
Концентрация примеси в p+-области Na определяется по кривой предельной растворимости алюминия в кремнии (рис. 1.7.)
Рисунок 1.7 – Кривые растворимости
и по
величине Na
определяем удельное сопротивление
p+-области
Диффузионная длина электронов
Подвижность
электронов
и дырок
определяем
по известной концентрации примесей NД
и Na
3. Площадь кристалла определяем исходя из двух основных величин: допустимой плотности тока Jдоп и максимально допустимой емкости. Так как емкость не задана, то учитываем только допустимую плотность тока Iпр.доп=Аjдоп. отсюда
А=Iпр.доп/iдоп
4. Ширину ОПЗ резкого p+-n перехода определяем для U = Uобр.max. Так как контактная разность потенциалов φк << Uобр.max , то для расчета можно значением φк пренебречь:
Вольт-амперная характеристика диода имеет вид
где плотность тока насыщения
.
Так как np0<<pn0, то электронной составляющей плотности тока насыщения можно пренебречь и тогда
В реальных кремниевых диодах следует учесть составляющую обратного тока, обусловленную генерацией носителей в ОПЗ.
где Xd находим для Uобр.max.
Если IG >> IS (что имеет место в кремниевых диодах), то обратный ток зависит от напряжения по тому же закону, что и ширина ОПЗ.
Прямая ветвь ВАХ определяется зависимостью
Конструкцию диода выбираем на основании значения теплового сопротивления
Максимальная
температура p-n
перехода кремниевых приборов
.
Максимальная температура окружающей
среды задана. Мощность, выделяемая в
p-n
переходе
По тепловому сопротивлению выбираем корпус диода.
Таблица 1.1. Параметры корпусов полупроводниковых диодов.
Тип корпуса |
Конструкция корпуса |
С, пф |
L, нГн |
RT, К/вт |
1-1а 1-1б 1-1в |
Стеклянная
|
0,1 0,25 0,24 |
1 0,5 28 |
900 500 150 |
1-2а 1-2б 1-2в |
Металлостеклянная |
0,3 0,4 0,15 |
0,6 1,0 0,3 |
230 600 850 |
1-3а 1-3б 1-3в |
Металлическая с проходным изолятором |
0,3 0,5 0,5 |
0,7 0,5 0,5 |
65 165 38 |
1-4а 1-4б 1-4в |
Металлическая с винтом для монтажа на радиатор |
1 1 0,5 |
0,3 0,3 0,3 |
6,5 3 3,3 |