- •Глава III. Статистика равновесных носителей заряда в полупроводниках.
- •§1. Функция плотности состояний для электронов и дырок в полупроводниках.
- •§2. Связь уровня химического потенциала с концентрацией равновесных носителей заряда в невырожденных полупроводниках.
- •§3. Концентрация равновесных носителей заряда в собственных невырожденных полупроводниках.
- •§4. Концентрация равновесных носителей заряда в невырожденных полупроводниках с одним типом мелких примесных центров и низких температурах.
- •§5. Концентрация равновесных носителей заряда в невырожденных полупроводниках с одним типом примесных уровней при высоких температурах.
- •§6. Концентрация равновесных носителей заряда в полупроводниках с двумя типами примесных центров и их полной компенсации.
- •§7. Равновесная концентрация носителей заряда в частично компенсированных невырожденных полупроводниках.
- •§8. Условие перехода полупроводника в вырожденное состояние и равновесная концентрация носителей заряда в полностью вырожденном полупроводнике.
§2. Связь уровня химического потенциала с концентрацией равновесных носителей заряда в невырожденных полупроводниках.
Очевидно, число электронов в кристалле единичного объема, занимающих состояния с энергиями в интервале от до будет равно:
(1)
Сначала
будем рассматривать случай когда
:
(2)
В
данном случае электронный газ в зоне
проводимости подчиняется классической
статистике Максвелла. Классическая
статистика описывает процессы при не
высоких концентрациях электронов
(электронный газ). Полупроводники, у
которых равновесные носители заряда
подчиняются статистике Максвелла,
называются невырожденными. Условие
должно выполняется всех энергий
электрона, в том числе и для минимальных
энергий
,
т.е.
,
отсюда следует, что в невырожденных
полупроводниках уровень химического
потенциала
лежит ниже дна зоны проводимости на
величину не меньшую
.
Очевидно, концентрация всех электронов будет равна:
Так как под знаком интеграла стоит функция с быстро убывающей энергией, то верхний придел интегрирования можно заменить на бесконечность, тогда:
(3)
- эффективная плотность состояний в
зоне проводимости, численно равная
концентрации электронов в зоне
проводимости, при условии, что уровень
совпадает с дном проводимости. Аналогично
можно получить выражение для концентрации
дырок в невырожденном полупроводнике:
- эффективная плотность состояний в
валентной зоне.
Выражение (3) и (4) верны как для чистого, так и легированного примесями полупроводника. В выражениях (3) и (4) уровень отслеживает легирование мелкими примесями. В данном полупроводнике уровень одинаков в (3) и (4).
§3. Концентрация равновесных носителей заряда в собственных невырожденных полупроводниках.
Собственный
полупроводник – это беспримесный и
бездефектный полупроводник. В
собственных полупроводниках носители
заряда образуются за счет теплового
возбуждения электронов валентной зоны.
В таком полупроводнике электроны и
дырки образуются в одинаковых количествах.
Концентрацию в собственных полупроводниках
будем обозначать:
,
,
.
Для определения концентрации в собственном
полупроводнике, воспользуемся формулами
(3) и (4) §2.
(1)
Видно,
что концентрация носителей заряда в
собственных полупроводниках возрастает
с ростом температуры по экспоненциальному
закону, при прочих равных условиях она
больше в полупроводниках с малыми
.
Известно, что в высокой температурной
области ширина запрещенной зоны
полупроводника уменьшается по линейному
закону:
(2)
-
ширина запрещенной зоны при T
= 0 K0.
Подставим (2) в (1)
(3)
(3')
Таким образом, определяют ширину запрещенной зоны полупроводника отнесенную к абсолютному нулю температуры.
Найдем положение химического потенциала в собственных невырожденных полупроводниках:
(4)
После сокращения и последующего логарифмирования получаем, что
(5)
Из (5) следует, что:
1.
Если
,
то при всех температурах
,
если
,
то при T
= 0
.Видно,
что уровень химического потенциала
лежит точно по средине запрещенной
зоны.
2
.
Если
,
то с ростом температуры уровень
химического потенциала поднимается
вверх от середины запрещенной зоны.
3.
Если
,
то с ростом температуры уровень
химического потенциала опускается вниз
от середины запрещенной зоны.
