
- •Основы электротехнологии
- •Иваново, 2011 Литература
- •1 Введение. Классификация электротехнологических установок
- •2 Лазерные установки Введение
- •Классификация лазеров
- •2.1 Теоретические основы лазерных установок.
- •2.1.1 Физические явления при получении лазерного излучения.
- •Возбужденное состояние
- •Невозбужденное состояние
- •2.1.2 Понятие инверсии населённостей и активной среды
- •2.1.3 Принцип получения лазерного излучения
- •2.1.4 Методы создания инверсии населенности
- •2.1.5 Оптические резонаторы
- •Виды и условие устойчивости оптических резонаторов
- •Резонансные частоты и размер пучка излучения.
- •2.1.6 Свойства лазерного излучения.
- •2.1.7 Принцип действия, устройство и параметры твердотельных лазеров. Устройство и работа твердотельного лазера
- •Лазер на рубине.
- •Неодимовый лазер.
- •2.1.8 Принцип действия, устройство и параметры газовых лазеров.
- •Газостатические молекулярные лазеры.
- •Устройство и работа газостатического лазера
- •Излучатели с конвективным охлаждением рабочей смеси.
- •Электроаэродинамические лазеры
- •Электроионизационные лазеры.
- •2.1.9 Накачка электрическим разрядом.
- •2.1.10 Полупроводниковые лазеры.
- •Устройство полупроводникового лазера
- •2.2 Инженерные основы лазерных технологических установок. Введение
- •2.2.1 Требования к промышленным и технологическим лазерам и лту
- •2.2.2 Схемы и конструкции лту на базе твердотельных лазеров.
- •2.2.3 Лту на основе газоразрядных лазеров с диффузионным охлаждением (лдо).
- •2.2.4 Лту на основе газовых лазеров с конвективным охлаждением (быстропроточные лазеры- бпл).
- •2.2.5 Электрические схемы высоковольтных источников питания Источники питания лазеров импульсного действия
- •Источник питания с индуктивным накопителем энергии
- •Источник питания с ёмкостным накопителем энергии
- •Источник питания с управляемым током зарядки
- •Источники питания лазеров непрерывного излучения
- •Источники питания современных высоковольтных технологических лазеров.
- •Конструкция преобразователя напряжения
- •2.2.6 Оптические системы формирования лазерного излучения в технологических установках
- •3. Электроплазменные технологические установки
- •3.1 Классификация электроплазменных процессов.
- •3.2 Способы осуществления электроплазменных процессов.
- •3.3 Устройство и принцип действия электроплазменных установок
- •3.4 Конструкция плазмотронов
- •Характеристики плазмотронов.
- •4. Ускорители заряженных частиц и их применение
- •4.1. Назначение и классификация ускорителей заряженных частиц
- •4.2. Конструкция и принцип действия ускорителей
- •4.3. Применение ускорителей
Источник питания с управляемым током зарядки
Наиболее целесообразным и экономичным способом зарядки накопительных конденсаторов является зарядка постоянным током (2.35). Неизменное значение тока зарядки можно эффективно поддерживать с помощью индуктивно-емкостного преобразователя (ИЕП) источника напряжения в источника тока (рис. )
Рис.
Тр- повышающий трансформатор
V1 и V2 – тиристоры
V3 и V6 – диоды
С1, L1,L2
, - индуктивно емкостный преобразователь,
где
-
две катушки индуктивности размещенные
на общем магнитопроводе с воздушным
зазором , для обеспечения линейности
ВАХ. Общий магнитопровод обеспечивает
между катушками взаимоиндукцию М. Это
требуется для уменьшения емкости
конденсаторов С1 и размеров
катушек.
Порядок работы схемы
При подключении схемы к питающей сети
U1 на управляющие
электроды тиристоров подаются напряжения
и
.
Тиристоры
и
отпираются и шунтируют первичную обмотку
трансформатора Тр . Так
на
выходе ИЕП протекает через тиристоры
и
. На выводах вторичной обмотки Тр
напряжение , ток отсутствует . Зарядка
Сб так же отсутствует (
=0).
Затем подается
и
,
тиристоры запираются и ток
протекает
через первичную обмотку Тр . На
выводах вторичной обмотки Тр
появляется напряжение . Сб –
начинает заряжаться с постоянным током
зарядки
.
Когда она зарядится до необходимого
значения зарядного напряжения
,
вновь подаются
и
.
Тиристоры отпираются , шунтируют
первичную обмотку Тр и зарядка
прекращается. После этого вызывается
пробой в газоразрядном промежутке ИЛ
, батарея Сб разряжается через Lр
и ИЛ, а эл. энергия, запасенная в Сб
, выделяется в ИЛ.
Преимущества:
- В такой схеме отпадает необходимость
в применении резисторов в цепи зарядки.
Поэтому потери энергии в процессе
зарядки незначительны и КПД достигает
- Возможность плавного изменения напряжения заряда.
Принцип работы можно пояснить на основании упрощенной схемы замещения
-
полное сопротивление индуктивной
катушки
-
полное сопротивление конденсатора.
В такой схеме ток нагрузки определяется
следующим образом
(1.14)
Для того чтобы ток
,
те при всех значениях Zн
имел одно и тоже значение, необходимо
, чтобы выражение (1.14) не зависело от Zн
. Для этого необходимо , чтобы
выполнялось условие
,
Принцип работы можно пояснить на основании схемы замещения ИЕП
(
)
-
сопротивление нагрузки, те сопротивление
на зажимах первичной обмотки Т1
или на выходе ИЕП. В такой схеме ток
нагрузки определяется таким образом
тогда
Для того чтобы ток
,
те при всех значениях Zн
имел одно и тоже значение, необходимо,
чтобы это выражение не зависело от Zн
. Для этого необходимо чтобы выполнялось
условие
оно будет выполняются если ,
,
,
т.е. индуктивность L и
емкость С1 выбраны из условия
резонанса при частоте приложенного
напряжения
,
или
,
а активное сопротивление должно иметь
возможно меньшую величину.
Независимо от выбора схемы источника питания, разрядный контур содержит Сб , ИЛ и Lр и служит для преобразования электрической энергии , запасенной в емкостном накопителе в световую энергию , излучаемую в ИЛ.
Активное сопротивление разрядной цепи
определяется из соотношения
-
расстояние между электродами лампы
q- площадь поперечного сечения ИЛ
- удельное сопротивление плазмы ( среднее расстояние за время вспышки)
Обычно выбирают параметры разрядной
цепи таким образом , чтобы соблюдалось
соотношение
в этом случае переходный процесс в
разрядной цепи близок к апериодическому.
Длительность импульса излучения лампы
(а следовательно и лазера) в этом случае
связана с параметрами разрядного контура
следующим эмпирическим соотношением
Технико-экономические показатели
твердотельных лазеров в сильной мере
определяется параметрами емкостных
накопителей, т.к. они составляют большую
часть установки по весу и объему.
Основными характеристиками накопителей:
,
.
Необходимо увеличивать эти показатели
на примере плоского конденсатора, те
необходимо увеличивать
и Ераб
Импульсные источники высокого напряжения , применяемые в газовых БПЛ, отличаются по своей конструкции от источников твердотельных лазеров. Это отличие обусловлено применением ВВ тиристоров для периодической коммутации цепей источника и использования импульсных ВВ трансформаторов для получения импульсного напряжения требуемой величины и длительности. Для примера можно рассмотреть следующие схемы:
ИЛГИ ( с УФ предионизацией от вспомогательного разряда)
-
зарядное сопротивление,
-
напряжение ВВ источника питания для
зарядки емкостного накопителя,
-
емкостный накопитель,
Л- ВВ тиристоры,
и
-
цепь для формирования искровых разрядов
в промежутке предионизации S1,
и
-
цепь для зарядки емкостного накопителя
и формирования импульсов высокого
напряжения на промежутке S2
ГРК.
Работа схемы
При подаче возникает искрение в промежутке предионизации S1 , а также происходит зарядка емкостного накопителя С1 . Затем подается импульсное управляющее напряжение на сетку Л, он отпирается , левая обкладка С1 заземляется и на S2 появляется импульс высокого напряжения. После разряда С1 через L1 тиристоры запираются и цикл повторяется. Искровые каналы промежутка S1 являются мощным источником УФ излучения, которое вызывает интенсивную фотоионизацию рабочей газовой смеси. В момент подачи импульса на S2 образовавшиеся заряды ( электроны ) начинают двигаться в эл. поле этого промежутка, возбуждают молекулы газа и обеспечивают возникновение инверсии населенностей и генерацию лазерного излучения
ЛАНТАН:
Рис.
- напряжение источника постоянного напряжения
-
промежуток основного разряда, к нему
приложено высокое постоянное напряжение
-
промежуток вспомогательного разряда,
к нему приложено высокое импульсно-периодическое
напряжение,
-
импульсный трансформатор,
С- накопитель энергии,
Л- тиратрон.
Работа
При работе схемы происходит периодическая зарядка емкости С и ее разряд через тиристоры Л и первичную обмотку импульсного трансформатора . В результате на выводах вторичной обмотки появляется импульсное периодическое высокое напряжение. При воздействии очередного импульса в промежутке возникает самостоятельный разряд, который сопровождается интенсивной ударной и фотоионизфцией газа. Из-за малой длительности импульса этот разряд остается незавершенным, а в промежутке образуется большое количество заряженных частиц. Эти частицы двигаясь в эл. поле промежутка и сталкиваясь с молекулами газа возбуждают эти молекулы. Возникает инверсия населенности и генерация лазерного излучения.
Для увеличения крутизны выходной
характеристики источника и согласования
ВАХ газоразрядного промежутка
последовательно с трубкой включен
балластный резистор
.
и
-
для согласования пульсаций. А- для
контроля величины тока.
Недостаток такой схемы – рабочий ток
газоразрядной трубки обеспечивается
при напряжении
существенно превосходящем
и
.Поэтому
в балластном сопротивлении рассеивается
значительная часть мощности (до 50%). КПД
лазера снижается. Для выключателей с
повышенным охлаждением может применяться
такая же схема, только
имеет несколько меньшую величину. Но
потери остаются высокими.
С целью уменьшения потерь и повышения КПД в качестве источников питания газовых лазеров применяют каскадный выпрямители.