
- •Основы электротехнологии
- •Иваново, 2011 Литература
- •1 Введение. Классификация электротехнологических установок
- •2 Лазерные установки Введение
- •Классификация лазеров
- •2.1 Теоретические основы лазерных установок.
- •2.1.1 Физические явления при получении лазерного излучения.
- •Возбужденное состояние
- •Невозбужденное состояние
- •2.1.2 Понятие инверсии населённостей и активной среды
- •2.1.3 Принцип получения лазерного излучения
- •2.1.4 Методы создания инверсии населенности
- •2.1.5 Оптические резонаторы
- •Виды и условие устойчивости оптических резонаторов
- •Резонансные частоты и размер пучка излучения.
- •2.1.6 Свойства лазерного излучения.
- •2.1.7 Принцип действия, устройство и параметры твердотельных лазеров. Устройство и работа твердотельного лазера
- •Лазер на рубине.
- •Неодимовый лазер.
- •2.1.8 Принцип действия, устройство и параметры газовых лазеров.
- •Газостатические молекулярные лазеры.
- •Устройство и работа газостатического лазера
- •Излучатели с конвективным охлаждением рабочей смеси.
- •Электроаэродинамические лазеры
- •Электроионизационные лазеры.
- •2.1.9 Накачка электрическим разрядом.
- •2.1.10 Полупроводниковые лазеры.
- •Устройство полупроводникового лазера
- •2.2 Инженерные основы лазерных технологических установок. Введение
- •2.2.1 Требования к промышленным и технологическим лазерам и лту
- •2.2.2 Схемы и конструкции лту на базе твердотельных лазеров.
- •2.2.3 Лту на основе газоразрядных лазеров с диффузионным охлаждением (лдо).
- •2.2.4 Лту на основе газовых лазеров с конвективным охлаждением (быстропроточные лазеры- бпл).
- •2.2.5 Электрические схемы высоковольтных источников питания Источники питания лазеров импульсного действия
- •Источник питания с индуктивным накопителем энергии
- •Источник питания с ёмкостным накопителем энергии
- •Источник питания с управляемым током зарядки
- •Источники питания лазеров непрерывного излучения
- •Источники питания современных высоковольтных технологических лазеров.
- •Конструкция преобразователя напряжения
- •2.2.6 Оптические системы формирования лазерного излучения в технологических установках
- •3. Электроплазменные технологические установки
- •3.1 Классификация электроплазменных процессов.
- •3.2 Способы осуществления электроплазменных процессов.
- •3.3 Устройство и принцип действия электроплазменных установок
- •3.4 Конструкция плазмотронов
- •Характеристики плазмотронов.
- •4. Ускорители заряженных частиц и их применение
- •4.1. Назначение и классификация ускорителей заряженных частиц
- •4.2. Конструкция и принцип действия ускорителей
- •4.3. Применение ускорителей
2.2.3 Лту на основе газоразрядных лазеров с диффузионным охлаждением (лдо).
Лазеры такого типа первыми получили развитие и широкое применение (начиная с середины 60-х годов). Они применяются в различных отраслях промышленности и позволяют выполнять практически весь набор лазерных технологических операций: резка, размерная обработка, получение отверстий, сварка, поверхностная обработка.
Основные характеристики современных промышленных ЛДО приведены в таблице:
модель |
кВт |
% |
мрад |
|
Давление раб.смеси мм.рт.ст.
|
кВт |
ИЛТН704 |
0,04 |
|
|
1,5:11,2:2,5 |
15 |
~1 |
ИЛТН709 |
0,1 |
|
|
1,5:11,2:2,5 |
|
0,8 |
ИЛТН703 |
30,6 |
|
|
1,5:11,2:2,5 |
|
|
ИЛТН702 |
0,15 |
|
|
|
|
|
ЛГН702 |
0,8 |
|
3 |
1:2:10 |
7,5 |
|
Юпитер |
0,3 |
|
3 |
1:2:7 |
15 |
|
ИГЛАН3 |
3,0 |
|
5 |
1:1,8:5,6 |
20 |
|
МТЛ2 |
2,0 |
|
2,5 |
|
|
25 |
«Кохерент» Е-775 |
0,8 |
|
1,5 |
4,5:13,5:82 |
25 |
~4 |
«Фотон» М1000 |
1,0 |
|
1,55 |
1:2:22 |
20 |
|
Излучатель. Выполняется из кварцевых
трубок. Внутренний диаметр трубки 10÷20
мм, толщина стенки 1-3мм. Большие значения
относятся к однолучевым лазерам с
большой длиной оптического резонатора.
В большинстве случаев ЛДО являются
однолучевыми (ИЛГН, ЛГН, Е-775, М1000).
Суммарная длина оптического резонатора
может достигать нескольких метров.
Поэтому применяются свернутые оптические
резонаторы (кроме ИЛГН-704). Например,
путем использования нескольких
газоразрядных трубок, которые
последовательно включаются в один общий
резонатор с помощью поворотных зеркал.
Недостатки: мощность излучения не
более 1 кВт, ухудшается стабильность
выходных параметров, увеличиваются
потери на поворотных зеркалах, усложняется
настройка и эксплуатация резонатора.
Достоинства: возможность получения
малого диаметра пучка излучения, малой
расходимости и генерации на одной моде.
Это позволяет сфокусировать излучение
в пятно диаметром до 50-100 мкм при q≥
/
и
точно контролировать положение пятна.
Поэтому такие лазеры можно использовать
для прецизионной обработки (Е-775 и М1000).
В лазерах типа ИГЛН и МТЛ использованы многолучевые оптические резонаторы. Оптический резонатор состоит из большого количества параллельных трубок (37 и 35 соответственно), расположенных внутри общего оптического резонатора.
В лазере типа «Юпитер» применимы резонатор щелевой конструкции, который позволяет получить когерентный пучок кольцевого сечения (см оборот).
Активная среда – используется смесь СО2 ; N2 ; Не , что позволяет получить излучение с λ=10.6 мкм. В лазерах серии ИЛГН применены отпаянные излучатели. В лазерах других типов используется медленная прокачка активной газовой среды.
Охлаждение – в некоторых лазерах применяется масляное охлаждение газоразрядных трубок с помощью теплообменника масло-вода и с использованием термостабилизации (Е-775, ИГЛАН, МТЛ). В других лазерах применяют охлаждение проточной водой.
Источники питания В большинстве лазеров для накачки используется разряд постоянного тока (кроме МТЛ и ЮПИТЕР). Поэтому источники питания выполнены в виде источников постоянного напряжения, на выходе которых установлены балластные токоограничивающие резисторы. В лазере типа МТЛ используется емкостный безэлектродный разряд переменного тока с частотой 10-20 кГц. Источник питания (имеет мощность 25кВт) состоит из тиристорного преобразователя частоты и блока высоковольтных согласующих трансформаторов. Это позволяет отказаться от балластных резисторов, что повысит КПД , надежность и др. Лазеры с многолучевыми и щелевыми резонаторами имеют преимущества: компактный, возможность повышения мощности излучения (по сравнению с однолучевым), высокая стабильность параметров мзлучения.
Недостатки: большой диаметр пучка излучения и относительно большая расходимость излучения. Это затрудняет транспортировку излучения и препятствует острой фокусировке луча, q≤105 Вт/см2
Резонатор: во всех конструкциях использованы устойчивые оптические резонаторы с одним непрозрачным и одним полупрозрачным зеркалом.
В лазере типа «ЮПИТЕР» используется несамостоятельный разряд в коаксиальной трубе с предионизацией периодическими импульсами высокого напряжения.
Некоторые лазеры кроме непрерывного режима, могут иметь импульсно-периодический режим работы. (Е775 и М1000 – fu ≤2.5 кГц, ЮПИТЕР – fu ≤200 Гц)
Система автоматического управления
Зарубежные лазеры снабжаются микропроцессорными системами автоматического управления. Среди отечественных лазеров такой системой снабжается только МТЛ.
Такая система выполняет функции автоматического контроля, регулировки и стабилизации параметров лазерной установки и излучения