
- •Содержание
- •Введение
- •Глава 1. Трансляционная симметрия кристалла
- •Глава 2. Колебания атомов кристаллической решётки
- •2.1. Гармоническое приближение
- •2.2. Колебания атомов одномерного кристалла с одним атомом в элементарной ячейке
- •2.3. Колебания одномерного кристалла с двумя атомами в элементарной ячейке
- •2.4. Колебания атомов в трехмерном кристалле
- •Глава 3. Квантовая теория тЕплоёмкосТи кристалла
- •3.1. Модель Дебая
- •3.2. Плотность состояний фононного спектра
- •3.3. Циклические граничные условия Борна-Кармана
- •3.4. Интерполяционная формула Дебая
- •3.5. Законы Дебая и Дюлонга-Пти
- •3.6. Физический смысл температуры Дебая
- •Глава 4. ЭлЕктронные состояния в кристалле
- •4.1.Теорема Блоха
- •4.2. Понятие квазиимпульса
- •4.3. Обратная решётка
- •4.4. Неоднозначность квазиимпульса
- •4.5. Приведение к первой зоне Бриллюэна
- •4.6. Количество состояний в зоне Бриллюэна
- •Глава 5. Элементы зонной теории кристаллов
- •5.1. Метод сильносвязанных электронов
- •5.1.1 Метод сильной связи без учёта симметрии кристалла
- •5.1.2. Метод сильной связи с учётом симметрии кристалла
- •5.2. Метод слабосвязанных электронов
- •5.3. Классификация кристаллов на диэлектрики, полупроводники и металлы
- •Глава 6. Электронная теория металлов
- •6.1. Основные недостатки классической теории металлов.
- •6.2. Уровень Ферми. Поверхность Ферми
- •6.3. Температура Ферми. Критерий вырождения ферми-газа
- •6.4. Электронная теплоёмкость металла
- •6.5. Электрон-фононное взаимодействие и электропроводность металлов
- •6.5.1. Квазиклассические уравнения движения электрона в кристалле.
- •6.5.2. Физический смысл длины свободного пробега электрона
- •6.5.3. Электропроводность нормальных металлов при высоких
- •6.6. Сверхпроводимость
- •Глава 7. Полупроводники
- •7.1. Носители заряда в полупроводниках
- •7.1.1. Законы дисперсии электронов и дырок
- •7.1.2. Статистика носителей заряда в полупроводниках
- •7.1.3. Равновесная концентрация электронов и дырок
- •7.2. Проводимость собственных полупроводников
- •7.3. Проводимость легированных полупроводников
- •7.3.1. Элементарная теория мелких центров
- •7.3.2. Электропроводность легированных полупроводников
- •Глава 8. Методы исследования электронной структуры металлов и полупроводников
- •8.1. Гальваномагнитные методы и циклотронный резонанс
- •8.1.1. Эффект Холла
- •8.1.2. Движение электрона в магнитном поле
- •8.1.3. Циклотронный резонанс в металлах
- •8.2. Квантование энергии электрона в магнитном поле. Уровни Ландау
- •8.3. Квантовые осцилляционные эффекты
- •Литература
- •392008, Г. Тамбов, ул. Советская, 190г
7.3.2. Электропроводность легированных полупроводников
Электропроводность слаболегированных полупроводников будет складываться из электропроводности собственного полупроводника и электропроводности, связанной с избыточной концентрации носителей, поставляемых донорной (или акцепторной) примесью.
.
(26)
Поскольку энергия ионизации донорной (акцепторной) примеси значительно меньше ширины запрещенной зоны, то с ростом температуры сначала термолизуются мелкие центры и проводимость будет определяться, в основном, их концентрацией в кристалле. При некоторой температуре, называемой температурой насыщения, вся примесь термолизуется и уже не будет поставлять носители заряда в зоны. При дальнейшем росте температуры рост электропроводности будет определяться собственной проводимостью (первым слагаемым в (26)).
При увеличении концентрации примеси примесные уровни расщепляются в примесные зоны в соответствии с общими представлениями зонной теории (см. метод сильной связи). Если уровень Ферми находится в такой примесной зоне, то возникает проводимость в примесной зоне без участия зонных электронов и дырок. По мере увеличения концентрации примеси сначала оказывается возможным механизм прыжковой проводимости за счет туннелирования электронов от одного примесного центра к другому, а при дальнейшем росте концентрации происходит так называемый переход Андерсона, состоящий в спонтанном образовании делокализованных электронных состояний. Распределение электронной плотности таких делокализованных состояний и линии тока имеют сложную лабиринтную (фрактальную) структуру и описываются с помощью теории перколяции.
Глава 8. Методы исследования электронной структуры металлов и полупроводников
Экспериментальные методы исследования зонной структуры металлов и полупроводников в основном базируются на изучении различных физических эффектов в этих кристаллах, происходящих в присутствии внешнего магнитного поля. Эти методы можно разделить на гальваномагнитные, связанные с измерением электропроводности металла и эффекта Холла в слабых и сильных магнитных полях и квантовые осцилляционные эффекты в сильных (квантующих) магнитных полях, проявляемые как осцилляций различных кинетических коэффициентов (проводимости, магнитной восприимчивости и т.д.) в растущем магнитном поле.
8.1. Гальваномагнитные методы и циклотронный резонанс
8.1.1. Эффект Холла
Наиболее простым и важным для физики металлов и полупроводников является эффект Холла в слабых магнитных полях. Сущность эффекта заключается в следующем. Проводник с током помещают в магнитное поле с вектором индукции, направленным перпендикулярно току (Рис. 8.1.)
|
Рис. 8.1. Схематическое изображение проводника с током в магнитном поле для измерения холловского напряжения |
В магнитном поле
на движущиеся носители заряда будет
действовать сила Лоренца
,
перпендикулярная вектору скорости и
вектору магнитной индукции . Дрейфовая
скорость электронов направлена против
поля, т.е. в направлении y,
поэтому сила Лоренца, действующая на
отрицательные заряды (электроны)
направлена в положительном направлении
оси z.
По мере того, как электроны скапливаются
на верхней границе проводника, будет
нарастать электрическое поле,
противодействующее движению и дальнейшему
накоплению электронов.
Разделение зарядов
в направлении оси z
будет происходить до тех пор, пока сила
Лоренца не уравновесится противоположно
направленной кулоновской силой
.
В одномерном случае (разделение зарядов
происходит вдоль оси z)
соответственно имеем:
,
где
– угол между векторами
и
.
В результате разделения зарядов
устанавливается постоянная (при данных
значениях магнитной индукции
и токе I)
разность потенциалов между верхней и
нижней поверхностью кристалла
,
называемая холловской
разностью потенциалов
или холловским
напряжением.
Очевидно
,
где E
– напряженность холловского электрического
поля,
– размер проводника вдоль оси
.
Измеряемый в эксперименте ток есть
,
где
– размер проводника вдоль оси
(в направлении магнитного поля ). Плотность тока связана с дрейфовой скоростью известным из электродинамики соотношением:
, (2)
где n – концентрация носителей заряда. С учетом (1) и (2) для холловской разности потенциалов получим:
, (3)
Постоянную
называют постоянной
Холла.
Постоянная Холла несет информацию о
знаке и концентрации носителей заряда
в полупроводнике или металле.